全彩化顶发射oled器件及其制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种全彩化顶发射OLED器件及其制备方法，该全彩化顶发射OLED器件包括从下到上依次叠加的基板、金属阳极、有机功能层和半透明金属阴极，有机功能层包括从下到上依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，发光层包括红色发光单元、蓝色发光单元和绿色发光单元，三种发光单元对应的空穴注入层的共振模态的阶数不完全相同，即本发明的全彩化顶发射OLED器件采用不同厚度的空穴注入层作为微腔光学调节层调节OLED器件的三基色，避免了传统采用同级低阶共振模态的空穴传输层作为微腔光学调节层时，蓝色、绿色发光单元对应空穴传输层的厚度难以覆盖OLED器件阳极表面缺陷，易造成短路电流的问题。
【专利说明】全彩化顶发射OLED器件及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明属于有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示【技术领域】，具体涉及一种全彩化顶发射0LED器件及其制备方法。
【背景技术】
[0002]高分辨率的全彩化0LED显示屏是0LED技术发展的目标之一，要实现这个目标，制作顶部发射的有机电致发光器件是一个较佳选择，因为在光线通过阴极出射，面板开口率可以大幅提升。顶部发射的有机发光二极管的阳极具有高反射性，阴极往往都是半透明的金属，
[0003]阳极、阴极与有机功能层共同形成微共振腔，该微共振腔可以简单地视为一种fabry-Perot的共振腔,满足式(1),
【权利要求】
1.一种全彩化顶发射OLED器件，包括从下到上依次叠加的基板、金属阳极、有机功能层和半透明金属阴极，其中，有机功能层包括从下到上依次排列的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，所述发光层包括红色发光单元、蓝色发光单元和绿色发光单元，其特征在于:三种发光单元对应的空穴注入层的共振模态的阶数不完全相同。
2.根据权利要求1所述的顶发射有机电致发光彩色化器件，其特征在于:所述蓝色、绿色发光单元对应空穴注入层的共振模态的阶数较红色发光单元对应的空穴注入层的共振模态的阶数高一阶。
3.根据权利要求2所述的顶发射有机电致发光彩色化器件，其特征在于:所述蓝色、绿色发光单元对应的空穴注入层的结构为分区域差异化掺杂结构。
4.一种权利要求1~3任一项权利要求所述的全彩化顶发射OLED器件制备方法，其特征在于:包括以下步骤:S1:将制备了阳极的基板用去离子水超声清洗后烘干备用；S2:对经S1处理的基板进行氧等离子处理；S3:将S2所得基板移至有机真空蒸镀腔；S31:按其共振模态所需厚度和掺杂要求在S2所得金属阳极上蒸镀红色、蓝色、绿色发光单元对应的空穴注入层；S32:在S31所得空穴注入层上蒸镀空穴传输层，蒸镀前，用金属掩膜与S31所得基板对位；S33:在S32所得空穴传输层上蒸镀发光层，即蒸镀红色、绿色、蓝色发光单元；S34:在S33的发光层上蒸镀电子传输层,蒸镀前,用金属掩膜与S33中所得基板对位；S35:在S34所得电子传输层上蒸镀电子注入层，蒸镀前，用金属掩膜与S34中所得基板对位；S4:将S3所得基板移至金属腔室，蒸镀半透明金属阴极，蒸镀前，用金属掩膜与S35所得基板对位；S5:将S6所得衬底移至金属腔室，蒸镀半透明金属阴极。
5.根据权利要求4所述的全彩化顶发射OLED器件制备方法，其特征在于:所述S31具体包括以下步骤:S311:蒸镀红色发光单元对应的空穴注入层，蒸镀前，用精密掩膜与基板对位，使基板上蓝色、绿色发光单元区域被遮挡；S312:蒸镀蓝色发光单元的空穴注入层，蒸镀前，用精密掩膜与基板对位，使基板上红色、绿色发光单元区域被遮挡；S313:蒸镀绿色发光单元的空穴注入层，蒸镀前，用精密掩膜与基板对位，使基板上红色、蓝色发光单元区域被遮挡；其中，所述S311、S312、S313的先后顺序可以调整。
6.根据权利要求4所述的全彩化顶发射OLED器件制备方法，其特征在于:所述S31具体包括以下步骤:S311:蒸镀红色、蓝色、绿色发光单元对应的空穴注入层至厚度达到红色发光单元对应空穴注入层共振模态阶数所需厚度，蒸镀前，用金属掩膜与基板对位；S312:在S311基础上，蒸镀蓝色发光单元对应的空穴注入层至厚度达到其共振模态所需厚度，蒸镀前，用精密掩膜与基板对位，使基板上红色、绿色发光单元区域被遮挡；S313:在S311基础上，蒸镀绿色发光单元对应的空穴注入层至厚度达到其共振模态所需厚度，蒸镀前，用精密掩膜与基板对位，使基板上红色、蓝色发光单元区域被遮挡；其中，S312和S313的顺序可以调整。
7.根据权利要求4所述的全彩化顶发射OLED器件制备方法，其特征在于:所述S31具体包括以下步骤:5311:蒸镀红色、蓝色、绿色发光单元对应的空穴注入层至厚度达到红色发光单元对应空穴注入层共振模态所需厚度，蒸镀前，用金属掩膜与基板对位；5312:在S311基础上，共同蒸镀蓝色和绿色发光单元对应空穴注入层31至厚度达到蓝色发光单元对应空穴注入层共振模态所需厚度，蒸镀前，用精密掩膜与基板对位，使红色发光单元区域被遮挡；5313:在S312基础上，蒸镀绿色发光单元对应的空穴注入层至厚度达到绿色发光单元对应空穴注入层共振模态所需厚度， 蒸镀前，用精密掩膜与基板对位，使红色、蓝色发光单元区域被遮挡。
【文档编号】H01L51/52GK103647026SQ201310616290
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年11月27日 优先权日:2013年11月27日
【发明者】朱儒晖, 任海, 魏峰, 赵芳 申请人:四川虹视显示技术有限公司