具有分布式布拉格反射器的发光二极管芯片的制作方法

文档序号:11064332阅读:来源:国知局
技术总结
公开一种发光二极管芯片,其包括分布式布拉格反射器DBR,所述DBR设置在发光结构的一侧以反射从发光结构发射的光。DBR包括具有高折射率的第一材料层和具有低折射率的第二材料层,第一和第二材料层交替地堆叠在彼此上。关于可见光范围的中心波长,DBR包括:第一区域,其中交替地设有光学厚度大于0.25λ+10%的第一材料层的第一组和光学厚度大于0.25λ‑10%且小于0.25λ+10%的第一材料层的第二组;第二区域,包括光学厚度小于0.25λ‑10%且连续布置的第一材料层的第三组;第三区域,设置在第一区域和第二区域之间且包括光学厚度小于0.25λ‑10%的第一材料层和光学厚度大于0.25λ的第一材料层。

技术研发人员:金艺瑟;禹尙沅;金京完
受保护的技术使用者:首尔伟傲世有限公司
文档号码:201610670509
技术研发日:2016.08.15
技术公布日:2017.05.03

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