技术总结
本发明提供一种二维材料柔性衬底结构、焦平面光探测器阵列及制作方法，所述二维材料柔性衬底结构包括：支撑衬底；二维材料层，位于所述支撑衬底表面；图形化柔性衬底，位于所述二维材料层表面；所述图形化柔性衬底为包括若干个间隔分布的图形单元。本发明的二维材料柔性衬底结构将图形化柔性衬底与二维材料层相结合，图形化柔性衬底与二维材料层界面的范德瓦尔斯键大大削弱了上下原子之间的吸引力，界面处形成的范德瓦尔斯力的强度远远小于共价键键能，图形化柔性衬底可以完全自我调节应变吸纳和释放应力，可以最大程度消除或降低穿透位错等晶格结构缺陷，具有很大的绝对柔性度。
技术研发人员：王庶民
受保护的技术使用者：超晶科技（北京）有限公司
技术研发日：2016.12.06
技术公布日：2018.06.12