蚀刻设备及其校平装置的制作方法

本实用新型涉及一种成型设备，尤其涉及一种蚀刻设备及其校平装置。

背景技术：
现有的诸如集成电路引线框架在制作过程中，通常都会通过精密冲压的方式在料带上形成通孔或引脚等。冲压的方式一定程度上的满足了引线框架的制作需求。然而，随着电子技术的飞速发展，集成电路的体积越来越小，引脚的数量越来越多。此时，仍然采用传统的冲压方式已经难以达到足够的精度要求了。因此，有必要采用新的技术来替代。

技术实现要素：
本实用新型要解决的技术问题在于，提供一种蚀刻设备及其校平装置。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种蚀刻设备用校平装置，包括支架以及平行间隔地安装于支架中的若干个下辊组件和若干个上辊组件，该若干个上辊组件布置于该若干下辊组件的上方，并与该若干下辊组件交错排布，在该若干个下辊组件和若干个上辊组件之间形成供料带穿过的校平空间。在一些实施例中，每一上辊组件包括上辊以及一对上辊安装座，该一对上辊安装座分别与该上辊的辊轴两端转动连接；该一对上辊安装座分别可上下移动地安装于该支架中。在一些实施例中，所述上辊安装座通过交叉导轨可上下移动地安装于该支架中。在一些实施例中，该校平装置包括若干个调节装置，这些调节装置安装于该支架上，并分别与所述上辊安装座配合，以调节上辊安装座的上下位移。在一些实施例中，所述调节装置包括穿置于该支架中的螺杆以及设置于该螺杆一端的操作部，该螺杆贯穿对应的上辊安装座，并与该上辊安装座螺接。在一些实施例中，该校平装置包括若干个测量装置，这些测量装置安装于该支架上，并分别与所述的上辊安装座对应设置，以对应测量上辊安装座的上下位移。在一些实施例中，该校平装置包括导引机构，该导引机构包括导引支架、可来回移动地安装于该导引支架中的一对限位板以及可转动地安装在于导引支架中并与该一对限位板反向螺合的调节螺杆。在一些实施例中，每一限位板的顶部设置有导引滚轮。在一些实施例中，每一下辊组件包括下辊以及分别套设于该下辊的辊轴两端上的一对轴承，该一对轴承固定于所述支架中。提供一种蚀刻设备，依序包括卷式放料装置、片料放料装置、显影装置、上述任一项所述的校平装置、蚀刻装置、片式收料装置以及卷式收料装置。本实用新型的有益效果：通过交错设置若干上辊单元和下辊单元，能够很好地对料带进行校平，从而确保后续的蚀刻能够顺利进行。附图说明下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：图1是本实用新型一些实施例中的蚀刻设备的侧视图；图2是图1所示蚀刻设备的俯视图；图3是图1所示蚀刻设备的校平装置的立体结构示意图；图4是图3所示校平装置II-II向的剖面结构示意图；图5是图3所示校平装置IV-IV向的剖面结构示意图。具体实施方式为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。本实用新型一些实施例提供了一种蚀刻设备，该蚀刻设备可用于诸如集成电路引线框架等结构的蚀刻成型，具备成型精度高、成本低廉的优点。另外，本蚀刻设备还能实现卷对卷(卷料进卷料出)、卷对片(卷料进片料出)以及片对片(片料进片料出)等多功能，极大地满足了用户的不同需求。如图1及图2所示，本实用新型一些实施例中的蚀刻设备可依序包括卷式放料装置A、输送辊道B、校平装置C、拉料装置D、显影装置E、第一水洗装置F、第一烘干装置G、蚀刻装置H、第二水洗装置I、剥离装置J、第三水洗装置K、第二烘干装置L、片式收料装置M以及卷式收料装置N。卷式放料装置A用于承载并平稳放出卷料，该卷料可为按照需要曝光后的材料。可以理解地，在一些实施例中也可以把曝光设备整合到蚀刻设备，从而可以在蚀刻设备中进行曝光。该输送辊道B大致贯穿整个蚀刻设备，以将料带或片料由上游向下游平稳输送，该输送辊道B可包括一个可敞开的前端，以供片料放入，形成片料放料装置。校平装置C可布置在该片料放料装置的紧邻下游，用于对料带进行校平，防止料带不够平整而影响到后续的蚀刻效果。拉料装置D用于拉动料带驱动料带向下游行进，使得卷料被蚀刻呈片料时，料带仍然能够很好地移动。显影装置E用于对曝光后的料带或片料进行显影。第一水洗装置F用于对显影后的料带或片料进行清洗，防止显影药水被带入下游的蚀刻装置H中，而对蚀刻装置H内药水造成污染。第一烘干装置G用于对清洗后的料带进行烘干，在一些实施例中，在第一水洗装置F和第一烘干装置G之间还设置有吸水装置P。蚀刻装置H用于对显影后的料带或片料进行蚀刻，以形成需要的成型结构；蚀刻装置可以将料带蚀刻成片料。第二水洗装置I用于对蚀刻后的料带或片料进行清洗，剥离装置J用于对清洗后的料带或片料上的菲林膜进行剥离，并将具备菲林膜废渣回收功能，以节约剥离药水的使用。第三水洗装置K用于对剥离菲林膜的料带或片料进行清洗，第二烘干装置L则用于对清洗后的料带或片料进行烘干；同样，第三水洗装置K和第二烘干装置L之间也可以设置吸水装置P。片式收料装置M用于收取片料，卷式收料装置N用于收取卷料。在上述的蚀刻设备中，由于同时具备了卷式放料装置A、片料放料装置、 显影装置E、拉料装置D、蚀刻装置H、片式收料装置M以及卷式收料装置N，使得该蚀刻设备具备卷对卷、卷对片以及片对片三种蚀刻成型模式。具体而言，当需要卷料进和卷料出时，则只要片料放料装置和片式收料装置M不工作即可。当需要卷料进和片料出时，只要卷式收料装置N不工作即可。而当需要片料进和片料出时，只要卷式放料装置A和卷式收料装置N不工作即可。如此，该蚀刻设备为用户的使用带来了极大的便利。蚀刻设备在一些实施例中还可包括导正输送装置Q，该导正输送装置Q布置在片式收料装置M紧邻上游，用于以在片料输送的过程中对片料进行导正，防止片料走偏，以便于片料的收集。如图3及图4所示，校平装置C在一些实施例中可包括支架11以及安装于支架中的下辊组12和上辊组13，上辊组13位于下辊组12的上方，并在下辊组12和上辊组13之间形成供料带穿过的空间，以实现对料带的校平功能，防止料带的弯曲影响到下游蚀刻的效果。支架11在一些实施例中可包括底座111以及立设于底座111两相对端部的两个侧壁112和113。下辊组12包括若干个下辊组件121，这些下辊组件121平行间隔地安装于该两个侧壁112和113之间，每一下辊组件121可包括下辊以及分别套设于该下辊的辊轴两端上的一对轴承，该一对轴承分别安装于该两个侧壁112和113上。上辊组13在一些实施例中可包括若干个上辊组件131，这些上辊组件131平行间隔地安装在于支架11中，并与下辊组件121交错排布。每一个上辊组件131包括上辊1310以及一对上辊安装座1312，该一对上辊安装座1312分别与该上辊1310的辊轴两端相转动连接。每一对上辊安装座1312分别可上下移动地安装于支架11的两个侧壁112和113上，以便上辊1310的上下位移可调，进而调节上辊1310和下辊121之间的间距。在一些实施例中，为了很好地将上辊安装座1312精确地安装在支架11上，可以采用交叉导轨18来实现。一同参阅图5，校平装置C在一些实施例中可包括若干个调节装置14，这些调节装置14分别与上辊组13的上辊安装座1312配合，以调节上辊安装 座1312的上下位移。每一调节装置14在一些实施例中可包括穿置于支架11中的螺杆141以及固定于螺杆141一端的操作部142，该螺杆141贯穿对应的上辊安装座1312，并与上辊安装座1312螺接。如此，当通过操作部142驱动螺杆141转动时，就可以驱动对应的上辊安装座1312上升或下降。在一些实施例中，校平装置C还可包括若干个测量装置17，这些测量装置分别与上辊安装座1312对应设置，以对应测量上辊安装座1312的上下位移，以便更精确地调节上辊组件131和下辊组件121之间的间距。该测量装置17可以为千分尺。在一些实施例中，校平装置C还可包括导引机构16，该导引机构16包括一导引支架161、可来回移动地安装于导引支架161中的一对限位板162以及可转动地安装在于导引支架161中并与该一对限位板162反向螺合的调节螺杆163，调节螺杆163转动时，可以调解该一对限位板162之间的间距，以适应不同宽度的料带的导引功能。每一限位板162的顶部设置有导引滚轮1620，以降低与料带之间的摩擦。导引支架161包括一对平行间隔布置的基板1610以及连接于该基板间的导引杆1612。以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。