本实用新型涉及设备技术领域，特别是涉及一种设备内部阳压监控系统。
背景技术：
随着对超大规模集成电路的集成度和性能的需求逐渐增加，器件的特征尺寸为适应更高集成度和更高性能的要求不断缩小，控制表面污染的需要变得越来越关键，对晶圆的清洗技术要求也越来越高。在半导体集成电路制造过程中，颗粒(particle)缺陷(defect)是良率损失的重要因素之一。因此必须控制晶圆上的表面颗粒。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于，提供一种具有自动阳压调节功能的设备内部阳压监控系统。
为解决上述技术问题，本实用新型提供一种设备内部阳压监控系统，用于监控一设备的内部阳压，所述设备内部阳压监控系统包括：
至少一阳压采样点，设置于所述设备内；
用于检测所述阳压采样点处阳压的阳压检测单元；
用于调节所述设备内风量的风量调节单元；以及
用于根据所述阳压检测单元的检测结果控制所述风量调节单元的控制单元，所述控制单元分别连接所述阳压检测单元和风量调节单元。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述设备包括多个模块，每个所述模块内设置有至少一个所述阳压采样点。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述设备包括多个风量调节单元，每个所述模块内设置有至少一个所述风量调节单元。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述控制单元包括：
用于存储各所述模块的阳压绝对值范围的第一存储单元；
用于将所述阳压检测单元的检测结果与预设条件进行比较的比较单元，所述比较单元连接所述阳压检测单元和第一存储单元，所述预设条件包括各所述模块的阳压绝对值范围；
用于根据所述比较单元的比较结果调节所述风量调节单元的工作状态的判断单元，所述判断单元连接所述比较单元和风量调节单元。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述控制单元还包括：
用于存储各所述模块之间的阳压相对值范围的第二存储单元，所述第二存储单元连接所述比较单元，所述预设条件还包括各所述模块的阳压相对值范围。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述控制单元还包括：
用于存储设定值的第三存储单元，所述第三存储单元连接所述比较单元，所述预设条件还包括所述设定值。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，每个所述模块包括多个所述阳压采样点。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述控制单元还包括：
用于计算多个所述阳压采样点的平均阳压的计算单元，所述计算单元连接所述比较单元。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述控制单元还包括：
用于记录所述风量调节单元的调节次数的第四存储单元，所述第四存储单元连接所述比较单元，所述预设条件还包括所述调节次数。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述设备还包括用于控制所述设备工作状态的控制器，所述控制单元连接所述设备的控制器。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述设备内部阳压监控系统还包括显示器，所述显示器连接所述控制单元。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述显示器为触控显示器。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述风量调节单元为风扇。
进一步的，在所述设备内部阳压监控系统中，所述设备内部阳压监控系统包括多个所述阳压检测单元。
与现有技术相比，本实用新型提供的设备内部阳压监控系统具有以下优点：
在本实用新型提供的设备内部阳压监控系统中，所述设备内部阳压监控系统包括至少一阳压采样点、阳压检测单元、风量调节单元和控制单元，所述阳压采样点设置于所述设备内，所述阳压检测单元用于检测所述阳压采样点处的阳压，所述控制单元根据所述阳压检测单元的检测结果，控制所述风量调节单元，从而调节所述设备内风量，可以自动调节设备内部的阳压，以减少晶圆在所述设备内作业时产生颗粒。
附图说明
图1为本实用新型一实施例中设备内部阳压监控系统的示意图。
具体实施方式
如背景技术所述，现有的晶圆中颗粒缺陷较多。发明人对现有技术研究发现，设备内部的阳压(position power，点的压力)对颗粒影响较大，如果对设备的阳压进行严格的控制，可以显著地减少颗粒。然而，现有的阳压一般是手动调节，调节结果不精确，效率低。
发明人进一步研究发现，可以在设备内设置阳压采样点，对所述阳压采样点进行检测，并将检测到的实时数据传送出来，可以形成长期的监控，当阳压超过临界值时能够自动调节，使得设备的阳压稳定在合理的范围内。
结合上述研究，发明人提出一种设备内部阳压监控系统，包括：至少一阳压采样点，设置于所述设备内；
用于检测所述阳压采样点处阳压的阳压检测单元；
用于调节所述设备内风量的风量调节单元；以及
用于根据所述阳压检测单元的检测结果控制所述风量调节单元的控制单元，所述控制单元分别连接所述阳压检测单元和风量调节单元。
所述阳压采样点设置于所述设备内，所述阳压检测单元用于检测所述阳压采样点处的阳压，所述控制单元根据所述阳压检测单元的检测结果，控制所述风量调节单元，从而调节所述设备内风量，可以自动调节设备内部的阳压，以减少晶圆的缺陷。
下面将结合示意图对本实用新型的设备内部阳压监控系统进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型，而仍然实现本实用新型的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本实用新型的限制。
为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
以下结合图1说明本实施例中的设备内部阳压监控系统。所述设备内部阳压监控系统1用于监控一设备200的内部阳压。
在本实施例中，所述设备200以清洗设备为例进行说明，例如以TEL厂商的TRACK型号的清洗机台。所述设备200包括多个模块，分别为：第一模块210、第二模块220、第三模块230、第四模块240、第五模块250和第六模块260，其中，所述第一模块210和第二模块220前后设置，所述第三模块230和第四模块240设置于所述第一模块210和第二模块220的左侧，所述第五模块250和第六模块260设置于所述第一模块210和第二模块220的右侧。气流在多个模块中按照一定的方向流动，气流先从所述第一模块210向后吹到所述第二模块220，然后再分别向左、右两侧吹。向左吹的气流依次吹过所述第三模块230、第四模块240，向右吹的气流依次吹过所述第五模块250和第六模块260。
各模块之间的阳压绝对值均需满足各所述模块的阳压绝对值范围(每个模块的阳压绝对值范围可以不同)，以保证所述设备200内部的气流是按照要求的方向流动，且所述设备200内的particle不扬起来。在本实施例中，所述第一模块210的阳压大于所述第二模块220的阳压，所述第二模块220的阳压大于所述第三模块230的阳压，所述第三模块230的阳压大于所述第四模块240的阳压，且，所述第二模块220的阳压大于所述第五模块250的阳压，所述第五模块250的阳压大于所述第六模块260的阳压。
较佳的，所述第一模块210包括多个子模块211，多个所述子模块211自下至上依次排列，在每个所述子模块内，气流从上往下吹。
所述设备内部阳压监控系统1包括至少一阳压采样点110、阳压检测单元120、风量调节单元140和控制单元130，所述阳压采样点110设置于所述设备200内，以对所述阳压采样点110所处的位置的阳压进行采样。所述阳压检测单元120用于检测所述阳压采样点110处的阳压，所述控制单元130根据所述阳压检测单元120的检测结果，控制所述风量调节单元140，从而调节所述设备200内风量，可以自动调节所述设备200内部的阳压，以减少晶圆在所述设备内作业时产生颗粒。
在本实施例中，每个所述模块内设置有至少一个所述阳压采样点110，较佳的，每个所述模块内设置有多个所述阳压采样点110，可以消除测量误差和动态误差。例如，每个所述模块内设置有至3个所述阳压采样点110。每个所述模块内设置有至少一个所述风量调节单元140。所述风量调节单元140可以对各模块进行吹风或送风，优选的，所述风量调节单元140为风扇，例如无级调频风扇，通过改变风扇频率来改变风扇转速，从而改变风量，达到改变阳压的目的。
其中，所述阳压检测单元120根据所述阳压采样点110数量设置，每次测量一个所述模块中的所有所述阳压采样点110，当切换到其它模块时，再逐一测量。在本实施例中，所述阳压检测单元120为3个，每次测量一个所述模块中的3个所述阳压采样点110。
所述控制单元130用于记录数据、处理数据、控制所述阳压检测单元120和风量调节单元140等。较佳的，在本实施例中，所述控制单元130包括比较单元131、第一存储单元132、第二存储单元133、第三存储单元134、第四存储单元135、计算单元136和判断单元137。所述比较单元131用于将所述阳压检测单元120的检测结果与预设条件进行比较，所述比较单元131连接所述阳压检测单元120、第一存储单元132、第二存储单元133、第三存储单元134、第四存储单元135、计算单元136和判断单元137。
所述第一存储单元132用于存储各所述模块的阳压绝对值范围(各所述模块的自身的阳压的范围)；所述第二存储单元133用于存储各所述模块之间的阳压相对值范围(各所述模块之间的阳压之差的范围)；所述第三存储单元134用于存储设定值，所述设定值用于判断采样是否正确，例如，所述设定值设为a，当任意两个所述阳压采样点110大于设定值a时，表明采样不正确，则重新进行采样，直至采样正确；所述第四存储单元135用于记录所述风量调节单元140的调节次数，当调节次数大于一定次数时，自动档(down)机；所述计算单元136用于计算多个所述阳压采样点的平均阳压。
在本实施例中，以调节所述第六模块260阳压为例进行说明。
三个所述阳压检测单元120分别连接三个所述阳压采样点110，所述阳压检测单元120将检测到的阳压数据传输给所述比较单元131，所述比较单元131将三个阳压数据与所述设定值a进行比较，如果任意两个所述阳压采样点110大于设定值a时，表明采样不正确，则重新进行采样，直至采样正确，并计算阳压的平均值。可以设定每天进行一次或多次测量，也可以手动进行测量；
所述比较单元131将所述阳压的平均值与所述第六模块260的阳压绝对值范围进行比较，先判断所述阳压的平均值是否满足阳压绝对值范围；再将所述第六模块260的阳压的平均值与其它模块的阳压的平均值比较做差，判断差值是否满足阳压相对值范围；
如果所述阳压的平均值不满足阳压绝对值范围，或差值是否满足阳压相对值范围，则所述判断单元137根据比较结果调节所述风量调节单元140的工作状态(例如频率)，从而调节所述第六模块260的阳压；
如果所述风量调节单元140的调节次数大于一定次数时，所述控制单元130通知所述设备200的控制器，所述设备200的控制器控制所述设备200down机。
较佳的，所述设备内部阳压监控系统还包括显示器150，所述显示器150连接所述控制单元130，所述显示器150用于查看数据，其中，所述显示器150可以连接各个单元，以对各个单元的数据进行显示。进一步的，所述显示器为触控显示器，以方便修改参数。
本实用新型的上述实施例是针对清洗设备为例进行说明，在本实用新型的其它实施例中，也可将本发明用于其它的设备中，其具体实施步骤与思路和本实用新型的上述实施例相似，在本实用新型实施例的启示下，这一应用的延伸对本领域普通技术人员而言是易于理解和实现的，在此不再赘述。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。