全自动多功能处理设备的制作方法

本发明属于半导体技术领域，特别是涉及一种全自动多功能处理设备。

背景技术：

随着半导体行业的不断发展，越来越多的产品在生产过程中需要热处理、稳定的气体环境、高洁净度、高密封环境以及高真空环境等要求。时下大多企业的现状是生产设备功能单一，从而导致生产工艺繁琐。产品过多的流转势必会导致产品良品率有所降低，危险系数加大，且生产效率较低增加生产成本。研发设计集众多生产功能为一体的全自动设备，是现有半导体行业急需攻克的方向。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供全自动多功能处理设备，通过集产品热处理、激活释放、封装、高密封环境以及高真空工作环境为一体的全自动设备，解决了现有的生产设备功能单一，从而导致生产工艺繁琐，导致产品良品率有所降低，危险系数加大等问题。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明为全自动多功能处理设备，包括工作台，所述工作台依次固定有热处理腔室、激活释放腔室、封装腔室和过度腔室；所述热处理腔室、激活释放腔室、封装腔室、过度腔室之间通过真空阀门连接；所述热处理腔室、激活释放腔室、封装腔室、过度腔室之间通过轨道进行联动；所述热处理腔室内安装有第一升降架、水循环系统和第一机械泵；所述激活释放腔室内安装有第二升降架和第二机械泵；所述封装腔室内安装有第三机械泵和一分子泵；所述轨道、第一升降架、第二升降架形成轨道联动系统。

进一步地，所述热处理腔室、激活释放腔室、封装腔室和过度腔室均分别设置有一观察窗。

进一步地，所述热处理腔室一端口和过度腔室一端口分别设置有门。

进一步地，所述过度腔室的观察窗外部安装有视频采集装置。

本发明具有以下有益效果：

1、本发明通过集产品热处理、激活释放、封装、高密封环境以及高真空工作环境为一体的全自动设备。在极大减少产品周转的同时，保证了产品生产所需工作环境，大大提高了产品生产效率，节约企业生产成本。

2、本发明具有功能多元化，产品周转处于高稳定环境，极大程度的减少人为因素对产品质量的损害，生产效率高，质量稳定。

当然，实施本发明的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的全自动多功能处理设备示意图；

图2为图1的侧视图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“开孔”、“上”、“下”、“厚度”、“顶”、“中”、“长度”、“内”、“四周”等指示方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

请参阅图1-2所示，本发明为一种全自动多功能处理设备，包括工作台1，工作台1依次固定有热处理腔室2、激活释放腔室4、封装腔室5和过度腔室6；热处理腔室2、激活释放腔室4、封装腔室5、过度腔室6之间通过真空阀门3连接；热处理腔室2、激活释放腔室4、封装腔室5、过度腔室6之间通过轨道进行联动；热处理腔室2内安装有第一升降架、水循环系统和第一机械泵；激活释放腔室4内安装有第二升降架和第二机械泵；封装腔室5内安装有第三机械泵和一分子泵；轨道、第一升降架、第二升降架形成轨道联动系统。

其中，热处理腔室2、激活释放腔室4、封装腔室5和过度腔室6均分别设置有一观察窗9。

其中，热处理腔室2一端口和过度腔室6一端口分别设置有门7。

其中，过度腔室6的观察窗9外部安装有视频采集装置，视频采集装置安装在一外壳内，视频采集装置连接有一无线通信模块，将视频采集装置采集的数据信息通过无线通信模块发送到终端设备。过度腔室6内还安装有一托板8，托板8并排固定有与轨道配合的轨道轮。

热处理腔室：本腔室主要用于产品的热处理需求，腔室内设有升降架用于放置产品。本腔室配有机械泵可以满足低真空的产品需求，且设有水冷系统以满足降温的需求。在产品热处理时，操控显示器会实时显示时下腔室内部真空度、温度等相关数据。

激活释放腔室：本腔室主要用于对产品激活，释放等相关工艺，腔室内设有升降架用于放置产品。本腔室配有机械泵可以满足低真空的产品需求。在激活释放时，操控显示器会实时显示时下腔室内部真空度等相关数据。

封装腔室：本腔室主要是用于产品的封装，腔室内设有封装平台以及封装设备。本腔室配有机械泵以及分子泵可以满足产品低、高真空工作环境的不同需求。在封装时，操控显示器会实时显示时下腔室内部真空度、温度等相关数据。

过度腔室：本腔室主要是用于产品生产结束时取出的过度作用。

轨道联动系统：本系统主要是用于各个腔室之间产品的传递，轨道与各腔室升降架联动配合实现产品在各腔室之间的周转。

真空阀门装置：本装置主要是用于各个腔室之间的隔离及联通。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种全自动多功能处理设备，涉及半导体制造设备技术领域，包括工作台，工作台依次固定有热处理腔室、激活释放腔室、封装腔室和过度腔室；热处理腔室内安装有第一升降架、水循环系统和第一机械泵；激活释放腔室内安装有第二升降架和第二机械泵；封装腔室内安装有第三机械泵和一分子泵；轨道、第一升降架、第二升降架形成轨道联动系统。本发明通过集产品热处理、激活释放、封装、高密封环境以及高真空工作环境为一体的全自动设备。在极大减少产品周转的同时，保证了产品生产所需工作环境，大大提高了产品生产效率，节约企业生产成本。

技术研发人员：王莹
受保护的技术使用者：合肥芯欣智能科技有限公司
技术研发日：2017.12.01
技术公布日：2018.04.06