技术总结
本实用新型公开了一种准分子激光退火装置，该准分子激光退火装置包括：激光产生单元和工艺腔室，所述工艺腔室内设置有用于检测待处理基板上各位置的实际厚度的厚度检测单元；所述准分子激光退火装置还包括：与所述厚度检测单元连接、用于根据厚度检测单元检测到的所述待处理基板上各位置的实际厚度来判断所述待处理基板是否为异常基板的基板判断单元。本实用新型提供的准分子激光退火装置可在激光退火工艺开始之前有效识别出异常基板，并自动将异常基板运输出工艺腔室外，从而避免异常基板进行激光退火工艺。本实用新型的技术方案可降低激光退火工艺中待处理基板发生碳爆的概率，从而有效避免准分子激光退火设备被污染。
技术研发人员：田雪雁;李小龙
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
文档号码：201720202711
技术研发日：2017.03.03
技术公布日：2017.09.08