技术总结
本实用新型公开了一种扫描聚焦系统,其特征在于,所述系统包括:电子源、电子加速结构、聚焦结构、偏转结构、电子减速结构和高压控制结构;其中,所述电子源,用于产生电子束;所述电子加速结构,用于对所述电子源产生的电子束进行加速;所述聚焦结构,用于对加速后的电子束进行聚焦;所述偏转结构,用于对聚焦后的电子束进行偏转扫描;所述电子减速结构,用于产生一减速场,对经偏转扫描后的电子束进行减速;所述高压控制结构,用于控制所述电子源、所述电子加速结构和所述电子减速结构的电压。
技术研发人员:李帅;何伟;王鹏
受保护的技术使用者:聚束科技(北京)有限公司
文档号码:201720209843
技术研发日:2017.03.06
技术公布日:2017.09.08