一种晶体硅异质结太阳电池结构的制作方法

文档序号:16109861发布日期:2018-11-30 19:40阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种晶体硅异质结太阳电池结构,其特征在于:在制绒的n型晶体硅片的一面或两面依次沉积本征非晶硅基薄膜、掺杂非晶硅薄膜、氧化铟钛ITiO薄膜;所述在制绒的n型晶体硅片的一面依次沉积本征非晶硅基薄膜、掺杂非晶硅薄膜、ITiO薄膜,另一面依次沉积本征非晶硅基薄膜、掺杂非晶硅薄膜和除ITiO薄膜外的导电氧化物薄膜;所述除ITiO薄膜外的导电氧化物薄膜为ITO薄膜或IWO薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种晶体硅异质结太阳电池结构,其特征在于:所述晶体硅异质结太阳电池的两面结构中的掺杂非晶硅薄膜分别为n型掺杂非晶硅薄膜和p重掺杂非晶硅薄膜。

3.根据权利要求1所述的一种晶体硅异质结太阳电池结构,其特征在于:所述ITiO薄膜的载流子迁移率为20~100cm2/Vs,电阻率为2*10-4~10*10-4Ωcm,透射率大于90%。

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