一种显示基板及其制备方法和一种显示设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制备方法和一种显示设备。
【背景技术】
[0002]随着显示技术的不断发展，显示设备中采用的发光部件种类越来越丰富，OLED(Organic Light-Emitting D1d,有机电致发光二极管)是一种在显示设备中非常常用的发光部件，基于OLED发光部件的显示设备以具有轻薄、低功耗、视角宽及响应速度快等优点，受到人们的青睐。
[0003]在OLED显示设备中，OLED具有多层结构，通常，该多层结构中各层分别为阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极。一种可行的生产过程是将阳极形成到基板上，再通过镀膜加工方式(如真空热蒸镀、有机气相淀积等)按照空穴传输层、发光层和电子传输层的顺序，将它们设置在阳极的上层，最后将阴极设置在最上层，进而形成多层结构的0LED。通常，每个OLED划分有多个发光单元，每个发光单元内设置有一种基色的发光层。
[0004]在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题:
[0005]在将空穴传输层、发光层和电子传输层等使用的有机材料镀膜到基板上时，由于镀膜工艺的局限性，所形成的镀膜宽度具有一定的下限，而且，在上述结构中，每个发光单元内设置有一种基色的发光层，每个发光单元的宽度则不会小于镀膜宽度的下限，因此，每个OLED在基板上的宽度无法低于镀膜宽度下限与发光单元数目的乘积，这对显示分辨率的提闻造成了限制。
【发明内容】
[0006]为了解决现有技术的问题，本发明实施例提供了一种显示基板及其制备方法和一种显示设备。所述技术方案如下:
[0007]第一方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括多个像素，每个像素划分有多个发光单元，每个发光单元包括阳极、阴极、载流子传输层和发光层，其中:
[0008]所述多个发光单元中的至少一个发光单元中包括一个发光层和至少一个工艺辅助层；
[0009]所述工艺辅助层与其它发光单元中的发光层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体。
[0010]可选地，所述多个发光单元分别为第一发光单元、第二发光单元、第三发光单元和第四发光单元；
[0011]所述第一发光单元的发光层包括第一发光层，所述第二发光单元中包括第一工艺辅助层及第二发光层，所述第三发光单元中包括第三发光层及第二工艺辅助层，所述第四发光单元中包括第四发光层；
[0012]其中，所述第一发光层和所述第一工艺辅助层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体，所述第二发光层和所述第三发光层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体，所述第二工艺辅助层和所述第四发光层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体。
[0013]可选地，所述第一工艺辅助层与所述第二发光层之间包括第一阻挡层，所述第三发光层与所述第二工艺辅助层之间包括第二阻挡层，其中，所述第一阻挡层与所述第二阻挡层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体。
[0014]可选地，所述载流子传输层包括空穴传输层，所述第一载流子为空穴，所述第一发光单元中的空穴传输层包括第一空穴传输层及第二空穴传输层，所述第二发光单元中的空穴传输层包括第三空穴传输层、第四空穴传输层及第五空穴传输层，所述第三发光单元中的空穴传输层包括第六空穴传输层及第七空穴传输层，所述第四发光单元的空穴传输层包括第八空穴传输层；
[0015]其中，所述第一空穴传输层、所述第三空穴传输层、所述第六空穴传输层及所述第八空穴传输层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体，所述第二空穴传输层及所述第四空穴传输层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体，所述第五空穴传输层及所述第七空穴传输层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体。
[0016]可选地，所述第一发光单元对应的微腔的腔长为第一预设腔长，所述二发光单元对应的微腔的腔长为第二预设腔长，所述第三发光单元对应的微腔的腔长为第三预设腔长，所述第四发光单元对应的微腔的腔长为第四预设腔长。
[0017]可选地，所述每个发光单元对应的阳极的厚度相同。
[0018]可选地，所述第二发光层及所述第三发光层由对应的频率范围中包括红光和绿光的频率的一种发光材料构成；或者，所述第二发光层及所述第三发光层的材料包含第一发光材料和第二发光材料，所述第一发光材料为对应的频率范围中包括红光的频率的发光材料，所述第二发光材料为对应的频率范围中包括绿光的频率的发光材料；
[0019]所述第一发光层及所述第一工艺辅助层由对应的频率范围中包括天蓝光的频率的发光材料构成；
[0020]所述第二工艺辅助层及所述第四发光层由对应的频率范围中包括深蓝光的频率的发光材料构成。
[0021]可选地，所述第二发光层及所述第三发光层由对应的频率范围中包括红光和绿光的频率的一种发光材料构成；或者，所述第二发光层及所述第三发光层的材料包含第一发光材料和第二发光材料，所述第一发光材料为对应的频率范围中包括红光的频率的发光材料，所述第二发光材料为对应的频率范围中包括绿光的频率的发光材料；
[0022]所述第一发光层及所述第一工艺辅助层由对应的频率范围中包括天蓝光的频率的发光材料构成；
[0023]所述第二工艺辅助层及所述第四发光层由对应的频率范围中包括绿光的频率的发光材料构成。
[0024]第二方面，提供了一种显示设备，所述显示设备包括显示基板。
[0025]第三方面，提供了一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括多个像素，每个像素划分有多个发光单元，所述方法包括:
[0026]将每个发光单元的第一电极形成在基板上，通过镀膜加工方式，在所述第一电极的上层，形成载流子传输层；
[0027]通过镀膜加工方式，在所述多个发光单元中的部分发光单元的载流子传输层的上层，形成发光层；
[0028]通过镀膜加工方式，在所述部分发光单元中的至少一个发光单元的发光层的上层，以及所述部分发光单元之外的发光单元的载流子传输层的上层，形成发光层；其中，所述至少一个发光单元中包括一个发光层和一个工艺辅助层，所述工艺辅助层与其它发光单元中的发光层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体；
[0029]在每个发光单元的发光层的上层形成第二电极。
[0030]可选地，所述通过镀膜加工方式，在所述部分发光单元中的至少一个发光单元的发光层的上层，以及所述部分发光单元之外的发光单元的载流子传输层的上层，形成发光层，包括:
[0031]通过镀膜加工方式，在所述部分发光单元中的至少一个发光单元的发光层的上层，形成用于阻挡第一载流子和激子的阻挡层；其中，所述第一载流子为空穴或电子；
[0032]通过镀膜加工方式，在所述至少一个发光单元的阻挡层的上层，以及所述部分发光单兀之外的发光单兀的载流子传输层的上层，形成发光层。
[0033]可选地，所述多个发光单元分别为第一发光单元、第二发光单元、第三发光单元和第四发光单元；
[0034]所述在所述多个发光单元中的部分发光单元的载流子传输层的上层，形成发光层，包括:
[0035]在所述第二发光单元的载流子传输层的上层形成第二发光层，在所述第三发光单元的载流子传输层的上层形成第三发光层；其中，所述第二发光层和所述第三发光层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体；
[0036]所述在所述部分发光单元中的至少一个发光单元的发光层的上层，形成用于阻挡第一载流子和激子的阻挡层，包括:
[0037]在所述第二发光层的上层形成用于阻挡第一载流子和激子的第一阻挡层，在所述第三发光层的上层形成用于阻挡第一载流子和激子的第二阻挡层；其中，所述第一阻挡层与所述第二阻挡层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体；
[0038]所述在所述至少一个发光单元的阻挡层的上层，以及所述部分发光单元之外的发光单兀的载流子传输层的上层，形成发光层，包括:
[0039]在所述第一阻挡层的上层形成第一工艺辅助层，在所述第一发光单元的载流子传输层的上层形成第一发光层，在所述第二阻挡层的上层形成第二工艺辅助层，在所述第四发光单元的载流子传输层的上层形成第四发光层；其中，所述第一发光层和所述第一工艺辅助层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体，所述第二工艺辅助层和所述第四发光层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体。
[0040]可选地，所述载流子传输层为空穴传输层，所述第一电极为阳极，所述第二电极为阴极，所述第一载流子为空穴；
[0041]所述在所述第一电极的上层，形成载流子传输层，包括:
[0042]在所述第一发光单元中的第一电极的上层形成第一空穴传输层，在所述第二发光单元中的第一电极的上层形成第三空穴传输层，在所述第三发光单元中的第一电极的上层形成第六空穴传输层，在所述第四发光单元中的第一电极的上层形成第八空穴传输层；其中，所述第一空穴传输层、所述第三空穴传输层、所述第六空穴传输层及所述第八空穴传输层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体；
[0043]在所述第一发光单元中的所述第一空穴传输层的上层形成第二空穴传输层，在所述第二发光单元中的所述第三空穴传输层的上层形成第四空穴传输层；其中，所述第二空穴传输层及所述第四空穴传输层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体；
[0044]在所述第二发光单元中的所述第四空穴传输层的上层形成第五空穴传输层，在所述第三发光单元中的所述第六空穴传输层的上层形成第七空穴传输层；其中，所述第五空穴传输层及所述第七空穴传输层是使用相同的材料经过一次镀膜形成的一个整体。
[0045]可选地，所述第一电极为阳极，所述第二电极为阴极，所述载流子传输层为空穴传输层;
[0046]所述在每个发光单元的发光层的