反应腔与石英管的隔离装置及其控制方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种半导体制造设备的领域，特别涉及一种蚀刻机台中反应腔与石英管的隔离装置及其控制方法。
【背景技术】
[0002]目前，如图1所示的一种蚀刻用的机台(例如⑶E200型)中，反应气体在经过石英管10输送的过程时，由绕在石英管10上施加有射频电源RF的线圈40作用，形成所述反应气体的等离子体。所述等离子体导入与石英管末端11连通的反应腔20，对设置于反应腔20内底部基座上的基片进行蚀刻处理。处理完成后的气体通过与反应腔20连通的排气管道30排出。
[0003]然而，上述现有结构的机台中，没有能够将反应腔和石英管隔离的装置。因而在定期更换石英管时，必须对反应腔进行一项通气操作(Vent Chamber),即经由石英管通气体使反应腔内从真空状态调整为大气压状态。另外，现有结构中如果发生反应腔泄漏率高的情况，会很难发现泄漏源的所在位置。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是提供一种反应腔与石英管的隔离装置及其控制方法，以便在定期更换石英管时避免对反应腔进行通气操作，简化维护工作，还可以方便寻找泄漏源的位置。
[0005]为了达到上述目的，本发明的一个技术方案是提供一种反应腔与石英管的隔离装置，所述反应腔与石英管的末端管道连通，所述反应腔还与排气管道连通；
所述隔离装置包含:接入在石英管末端管道中的第一隔离阀，连通该末端管道与排气管道的连接通道，及接入该连接通道中的第二隔离阀；通过所述第一隔离阀的开启或关闭，来控制是否将石英管中的气体送入反应腔内；而通过所述第二隔离阀的开启或关闭，来控制是否将石英管中的气体通过连接通道送入排气管道，进而通过排气管道排出。
[0006]本发明的另一个技术方案是提供一种反应腔与石英管的隔离装置的控制方法，在石英管的末端管道中设置第一隔离阀，使该第一隔离阀在正常工作时处于常开状态，将石英管中的气体送入与末端管道连通的反应腔内；而在进行更换石英管的定期维护或进行查漏时，使所述第一隔离阀切换至关闭状态，以阻止石英管中的气体继续输送至反应腔。
[0007]进一步设置连接通道将所述石英管的末端管道与排气管道连通，并在该连接通道中设置第二隔离阀，使该第二隔离阀在正常工作时处于常闭状态，以阻止石英管中的气体通过连接通道进入排气管道；而在更换石英管的定期维护完成后，才将第二隔离阀切换至打开状态，将石英管经由连接通道、排气管道与外部的排气泵接通，从而将石英管入口到第一隔离阀之间的部分抽成真空。
[0008]与现有技术相比，本发明所述反应腔与石英管的隔离装置及其控制方法，其优点在于:如若更换石英管时，由于本发明可以通过第一隔离阀将反应腔的气体入口封闭，就不再需要对反应腔进行通气操作了。而在查漏时，将第一隔离阀关闭，就可以更快速地分辨泄漏源是位于第一隔离阀以上(石英管)的部分，还是位于第一隔离阀以下(反应腔)的部分。因此，可以有效简化工作，节省维护和查漏时间。
【附图说明】
[0009]图1是现有蚀刻机台中反应腔与石英管的结构示意图；
图2是本发明所述蚀刻机台中反应腔与石英管及其隔离装置的示意图。
【具体实施方式】
[0010]如图2所示，本发明所述的隔离装置，设置于蚀刻机台中。该蚀刻机台设有石英管10，及与石英管10的末端管道11连通的反应腔20。反应气体在经过石英管10输送的过程时，由绕在石英管10上施加有射频电源RF的线圈40作用，形成所述反应气体的等离子体。所述等离子体通过石英管10送入反应腔20，对设置于反应腔20内底部基座上的基片进行蚀刻处理。反应腔20还与排气管道30连通，通过与排气管道30连接的排气泵(图中未示出)，将反应腔20内抽真空和将处理完成的气体经由排气管道30排出。
[0011]本发明所述的隔离装置，包含接入在石英管10末端管道11中的第一隔离阀61，连通该末端管道11与排气管道30的连接通道，及接入该连接通道中的第二隔离阀62。
[0012]所述第一隔离阀61的开启或关闭，用来控制是否将石英管10中的气体送入反应腔20内。所述第二隔离阀62的开启或关闭，用来控制是否将石英管10中的气体通过连接通道送入排气管道30，并通过排气管道30排出。
[0013]在正常工作时，第一隔离阀61处于常开状态，第二隔离阀62处于常闭状态。
[0014]而在进行定期维护(即更换石英管10)或进行查漏时，将第一隔离阀61切换到关闭状态，阻止石英管10中的气体继续输送至反应腔20。
[0015]只有在定期维护完成后，才打开第二隔离阀62，将石英管10经由连接通道、排气管道30与排气泵接通，从而将第一隔离阀61以上(即新换上的石英管10内从入口到第一隔离阀61之间)的部分抽成真空。
[0016]使用了本发明所述隔离装置后，如若再更换石英管10，由于可以通过第一隔离阀61将反应腔20的气体入口封闭，则不需要对反应腔20进行通气操作。而在查漏时，将第一隔离阀61关闭，就可以更快速地分辨泄漏源是位于第一隔离阀61以上的部分，还是位于第一隔离阀62以下(反应腔20)的部分。
[0017]尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。
【主权项】
1.一种反应腔与石英管的隔离装置，其特征在于，所述反应腔(20)与石英管(10)的末端管道(11)连通，所述反应腔(20 )还与排气管道(30 )连通； 所述隔离装置包含:接入在石英管(10 )末端管道(11)中的第一隔离阀(61)，连通该末端管道(11)与排气管道(30)的连接通道，及接入该连接通道中的第二隔离阀(62);通过所述第一隔离阀(61)的开启或关闭，来控制是否将石英管(10)中的气体送入反应腔(20)内；而通过所述第二隔离阀(62)的开启或关闭，来控制是否将石英管(10)中的气体通过连接通道送入排气管道(30)，进而通过排气管道(30)排出。2.一种反应腔与石英管的隔离装置的控制方法，其特征在于， 在石英管(10)的末端管道(11)中设置第一隔离阀(61)，使该第一隔离阀(61)在正常工作时处于常开状态，将石英管(10 )中的气体送入与末端管道(11)连通的反应腔(20 )内； 而在进行更换石英管(10)的定期维护或进行查漏时，使所述第一隔离阀(61)切换至关闭状态，以阻止石英管(10)中的气体继续输送至反应腔(20)。3.如权利要求2所述隔离装置的控制方法，其特征在于， 进一步设置连接通道将所述石英管(10)的末端管道(11)与排气管道(30)连通，并在该连接通道中设置第二隔离阀(62)，使该第二隔离阀(62)在正常工作时处于常闭状态，以阻止石英管(10)中的气体通过连接通道进入排气管道(30)； 而在更换石英管(10)的定期维护完成后，才将第二隔离阀(62)切换至打开状态，将石英管(10)经由连接通道、排气管道(30)与外部的排气泵接通，从而将石英管(10)入口到第一隔离阀(61)之间的部分抽成真空。
【专利摘要】本发明提供一种反应腔与石英管的隔离装置及其操作方法，在石英管末端管道中接入第一隔离阀，设置连通该末端管道与排气管道的连接通道，及在该连接通道中接入第二隔离阀；正常工作时第一隔离阀常开而第二隔离阀常闭；如若更换石英管的维护工作时，通过第一隔离阀将反应腔的气体入口封闭，不再需要对反应腔进行通气操作；只有在维护工作完成后才将第二隔离阀打开将石英管通过连接通道、排气管道与外部的排气泵连通，对换上的石英管进行抽真空操作。而在查漏时，将第一隔离阀关闭，可以更快速地分辨泄漏源位置。因此，本发明可以有效简化维护工作，节省维护和查漏时间。
【IPC分类】H01J37/30
【公开号】CN104916517
【申请号】CN201410087105
【发明人】巴文林, 包中诚
【申请人】上海华虹宏力半导体制造有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2014年3月11日