基板I的宽度方向的尺寸相同。需要说明的是，本说明书中，将“前表面”用作表示朝向EL显示装置100的观察者一侧的面的术语，将“后表面”用作表示朝向其相反侧的面的术语。
[0031]从外部设备供给的图像数据，通过驱动电路24转换成表示每个像素20的亮度的电压信号，输出至视频信号线25，供给至由扫描电路22选择的、与扫描信号线23相对应的像素20。像素20利用设置于各个像素20的像素电路，以与所供给的电压信号相应的亮度进行发光。由此，通过以格子状设置于显示区域21的多个像素20以与给予的图像数据相应的亮度进行发光，EL显示装置100在显示区域21形成图像。
[0032]图2是表示制造中途的EL显示装置100形成于分割前的母玻璃上的状态的透视简图。母玻璃是将大张阵列母基板101和与其形状大小相同的密封母基板109贴合而成，多个EL显示装置100在其面内规则地排列成格子状。该图中，给出了在其后的工序中对母玻璃进行切割的位置、即切割线110。
[0033]图3是由图2的II1-1II线得到的截面的示意图。所述截面是跨越母玻璃上相邻的2个EL显示装置100的位置上的截面。
[0034]EL显示装置100包括显示区域21和作为其外围区域的边框区域27，所述显示区域21中，将多个像素规则地配置在绝缘性的阵列母基板101上，通过控制与各像素相对应的位置上的EL层6的发光量而形成图像。阵列母基板101上形成有规则地(在本实施方式的情况下，为格子状)配置着用于控制流过各像素的电流的量的电气回路的电路层2，所述电气回路由TFT (Thin Film Transistor，薄膜晶体管)等构成。需要说明的是，本实施方式中，阵列母基板101为玻璃基板，但只要为绝缘性的基板，则其材质没有特别限定，也可以为合成树脂等其他材质。此外，其为透明、不透明均可。
[0035]电路层2包括适当的绝缘层、布线(包括扫描信号线、视频信号线、电源线及接地线等)和TFT(包括栅极、源极、漏极的各个电极和半导体层)。构成电路层2的电气回路及其截面结构是公知的，因此，此处将其详细内容省略，将它们简单化地仅表示为电路层2。
[0036]在电路层2上，按每个像素独立地设置有反射层3。反射层3具有反射由设置于其更上层的EL层6发出的光的功能。反射层3可以利用适当的金属膜形成，例如可以使用铝、铬、银或它们的合金。需要说明的是，反射层3可以由下文所述的下部电极4同时担任，故可省略。或者，在反射层3和下部电极4被任意的绝缘层等绝缘的情况下，反射层3不必按每个像素独立地设置，可以例如以覆盖显示区域21(参照图2)的整个面的方式进行设置。
[0037]在反射层3的更上层，按每个像素设置下部电极4。下部电极4通过作为绝缘层的像素分离膜5(亦称为堤(bank))而相互隔开、绝缘。下部电极4是透明导电膜，优选使用ITO(氧化铟锡)、InZnO(氧化锌锡)等导电性金属氧化物、在上述导电性金属氧化物中混入银、镁等金属而得的导电膜、将银、镁等金属薄膜与导电性金属氧化物层合而得的导电膜。在下部电极4同时作为反射层3的情况下，可将其制成单一的金属薄膜。此外，像素分离膜5只要为绝缘性的材料即可，可以为任意材料，可以利用聚酰亚胺、丙烯酸树脂等有机绝缘材料或氮化硅形成。沿着各像素的边界配置像素分离膜5，将各像素相互分离。本实施方式中，像素分离膜5为聚酰亚胺。
[0038]在下部电极4及像素分离膜5的上层设置EL层6。EL层6设置为在显示区域21的整个面中共用，而不是按每个像素独立地设置。因此，在像素分离膜5的上部也形成有EL层6。此外，EL层6的发光颜色为白色。通常而言，所述白色的发光可通过将发出复色(例如红、绿、蓝中的各种颜色)光、黄色和蓝色光的EL材料层合而以合成色的形式获得，本实施方式中，EL层6的具体构成没有特别限定，关于其单层/层合的区别和其层结构，只要结果能够获得白色发光，则可以为任意结构。此外，构成EL层6的材料为有机材料或无机材料均可，但本实施方式中使用了有机材料。
[0039]进而，在EL层6的上部设置上部电极7。上部电极7也设置为在显示区域21整个面中共用，而不是按每个像素独立地设置。上部电极7也是透明导电膜，优选使用在ΙΤ0、InZnO等导电性金属氧化物中混入银、镁等金属而得的膜、将银、镁等金属薄膜与导电性金属氧化物层合而得的膜、或者单一的金属薄膜。
[0040]在阵列基板I的前表面侧设置密封层8，从而防止氧和水分向以EL层6为代表的各层中的侵入，对各层进行保护。密封层8可以由保护性能优异的任意材料、例如氮化硅、氧化硅、氧氮化硅等无机绝缘材料或适当的有机材料构成，此外，也可以通过将多种不同种类的材料层合而构成密封层8。选择透明的材料用于密封层8。
[0041]配置了以与阵列基板I相对的方式设置的密封母基板109，在密封母基板109的后表面、即与阵列基板I相对的面上，黑矩阵10形成于作为像素的边界的部分，进而以覆盖黑矩阵10的上方的方式，在与各像素相对应的位置上，形成有与各像素的发光颜色相对应的颜色的彩色滤光片11。密封母基板109为玻璃或合成树脂制，对于可视光是透明的。此夕卜，黑矩阵10只要对于可视光为黑色、即为具有吸光性的材料即可，可以为任意材料，例如可以使用在聚酰亚胺、丙烯酸系合成树脂中混入碳而得到的材料。此外，彩色滤光片11是通过在任意的合成树脂(例如丙烯酸系合成树脂)中混入染料材料而分别染成了红色、绿色及蓝色的滤光片。
[0042]进而，以覆盖彩色滤光片11的方式形成保护(overcoat)层12，实现对彩色滤光片11的保护和显示区域21内的密封母基板109的表面的平坦化。在保护层12和密封层8之间填充填充剂13。填充剂13填充在密封材料14 (其在边框区域27内设置成框形)所围绕的、包括显示区域21在内的内侧的区域中。填充剂13及密封材料14均为适当的有机材料，优选使用化学反应型或紫外线固化型合成树脂。
[0043]通过如上所述的结构，通过下部电极4及上部电极7注入由配置于电路层2的电气回路控制的量的空穴及电子时，位于与EL显示装置100的各像素相对应的位置的EL层6以与该电流量相应的亮度进行发光。下部电极4及上部电极7的极性没有特别限定，但本实施方式中，下部电极4作为阳极而发挥作用，并且上部电极7作为阴极而发挥作用。此夕卜，根据以上说明及图1可知，EL显示装置100为所谓的顶部发光(top emiss1n)形式，发出的光透出至阵列母基板I的前侧。
[0044]构成母玻璃的阵列母基板101及密封母基板109在图3所示的相互贴合的状态下，于切割线I1的位置对阵列母基板101及密封母基板109进行切割，从而将EL显示装置100各自分离。切割线110所间隔的废弃区域111被废弃，而不作为制品使用。
[0045]在上文说明过的构成中，在母玻璃上形成EL显示装置100时，对于阵列母基板101的EL层6的下侧的层、即像素分离膜5、下部电极4、反射层3及电路层2，可利用通常的光刻(photolithography)的方法形成。此外，对于密封母基板的保护层12及其上侧的层、即彩色滤光片11、黑矩阵10，也可以利用光刻的方法。
[0046]但是，由于EL层6会像上文所述那样因氧和水分而劣化，因此对于EL层6和到保护层12为止的其上侧的层，不能利用包括蚀刻等湿法工艺(wet process)在内的通常的光刻的方法。因此，本实施方式中，在防止氧和水分的混入的同时形成如下部分，即，通过蒸镀形成EL层6，通过派射形成上部电极7，通过CVD(Chemical Vapor Deposit1n,化学气相沉积)形成密封膜8，通过滴加而实现填充剂13的填充，通过使用分配器(dispenser)的涂布而形成密封材料14。
[0047]此时，在形成EL层6、上部电极7及密封层8时，不采用使用金属掩模等进行的掩蔽，而是进行针对母玻璃的整个面的层形成，因此，如图3所示那样，在废弃区域111内也形成有EL层6、上部电极7及密封层8。
[0048]此处，考虑到母玻璃沿切割线110被切割的状态，EL层6会在其切