显示器及其制造方法、制造装置、显示方法、可穿戴设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示器及其制造方法、制造装置、显示方法、可穿戴设备。
【背景技术】
[0002]随着移动通信技术的快速发展，越来越多的电子产品具有移动通信功能，如可穿戴设备。可穿戴设备因其简单、快捷、人性化等特点受到了广泛关注。可穿戴设备的显示器大部分采用有机发光二极管(英文:0rganic Light-Emitting D1de ;简称:0LED)显示技术对图像进行显示。OLED显示技术主要通过低温多晶娃(英文:Low Temperature PloySilicon ;简称:LTPS)技术来实现。
[0003]现有技术中的可穿戴设备的显示器的显示区域通常不是规则的矩形，而是圆形等异形结构，该结构的像素排列如图1所示，像素排列得接近圆形。图1中的100为像素。
[0004]由于上述可穿戴设备的显示器的显示区域不是规则的矩形，尽管像素排列得非常接近圆形，但无法成为圆形，显示区域周边的像素排列呈阶梯状，所以当显示器对图像进行显示时，图像周边会呈锯齿状，直接影响图像的显示效果，因此，显示质量较差。
【发明内容】
[0005]为了解决显示器显示质量较差的问题，本发明提供了一种显示器及其制造方法、制造装置、显示方法、可穿戴设备。所述技术方案如下:
[0006]第一方面，提供了一种显示器，所述显示器包括:
[0007]第一衬底基板；
[0008]所述第一衬底基板上形成有低温多晶硅LTPS背板，所述LTPS背板形成有开关控制电路；
[0009]形成有所述LTPS背板的第一衬底基板的非显示区域形成有微机电系统MEMS微镜阵列，所述MEMS微镜阵列用于反射显示区域的发光结构发出的光，所述开关控制电路用于控制所述MEMS微镜阵列的开启和关闭；
[0010]形成有所述MEMS微镜阵列的第一衬底基板的显示区域形成有所述发光结构。
[0011]可选的，所述MEMS微镜阵列包括:
[0012]在形成有所述LTPS背板的第一衬底基板的非显示区域上间隔设置的第一下电极和第二下电极；
[0013]形成有所述第一下电极和所述第二下电极的第一衬底基板上形成有支撑柱，所述支撑柱位于所述第一下电极和所述第二下电极之间；
[0014]形成有所述支撑柱的第一衬底基板上形成有上电极，所述上电极在所述开关控制电路的控制下旋转预设角度后，对所述显示区域发出的光进行反射。
[0015]可选的，所述显示器还包括:
[0016]形成有所述发光结构的第一衬底基板上形成有第二衬底基板。
[0017]可选的，所述支撑柱由多晶硅，二氧化硅或铝制成。
[0018]可选的，所述发光结构为电致发光结构。
[0019]第二方面，提供了一种显示器的制造方法，所述制造方法包括:
[0020]在第一衬底基板上形成低温多晶硅LTPS背板，所述LTPS背板形成有开关控制电路；
[0021]在形成有所述LTPS背板的第一衬底基板的非显示区域形成微机电系统MEMS微镜阵列，所述MEMS微镜阵列用于反射显示区域的发光结构发出的光，所述开关控制电路用于控制所述MEMS微镜阵列的开启和关闭；
[0022]在形成有所述MEMS微镜阵列的第一衬底基板的显示区域形成所述发光结构。
[0023]可选的，所述MEMS微镜阵列包括第一下电极、第二下电极、支撑柱和上电极，所述在形成有所述LTPS背板的第一衬底基板的非显示区域形成微机电系统MEMS微镜阵列，包括:
[0024]在形成有所述LTPS背板的第一衬底基板的非显示区域形成所述下电极；
[0025]对形成有所述下电极的第一衬底基板进行图案化，形成所述第一下电极和所述第二下电极，所述第一下电极和所述第二下电极之间存在间隙；
[0026]在形成有所述第一下电极和所述第二下电极的第一衬底基板上形成牺牲层；
[0027]对所述牺牲层进行部分移除，形成残余牺牲层和由所述第一下电极、所述第二下电极、所述残余牺牲层、所述LTPS背板围成的空腔，所述空腔的宽度等于所述第一下电极和所述第二下电极之间的间隙；
[0028]向所述空腔填充支撑材料，形成所述支撑柱；
[0029]在形成有所述支撑柱的第一衬底基板上形成所述上电极，所述上电极在所述开关控制电路的控制下旋转预设角度后，对所述显示区域的发光结构发出的光进行反射；
[0030]对所述残余牺牲层进行移除，形成所述MEMS微镜阵列。
[0031]可选的，在所述在形成有所述MEMS微镜阵列的第一衬底基板的显示区域形成所述发光结构之后，所述方法还包括:
[0032]在形成有所述发光结构的第一衬底基板上形成第二衬底基板。
[0033]可选的，在形成有所述发光结构的第一衬底基板上形成第二衬底基板之后，所述方法还包括:
[0034]通过OLED蒸镀技术和OLED封装技术形成所述显示器。
[0035]可选的，所述支撑材料为多晶硅，二氧化硅或铝。
[0036]可选的，所述发光结构为电致发光结构。
[0037]第三方面，提供了一种显示器的制造装置，所述制造装置包括:
[0038]背板形成单元，用于在第一衬底基板上形成低温多晶硅LTPS背板，所述LTPS背板形成有开关控制电路；
[0039]微镜阵列形成单元，用于在形成有所述LTPS背板的第一衬底基板的非显示区域形成微机电系统MEMS微镜阵列，所述MEMS微镜阵列用于反射显示区域的发光结构发出的光，所述开关控制电路用于控制所述MEMS微镜阵列的开启和关闭；
[0040]发光结构形成单元，用于在形成有所述MEMS微镜阵列的第一衬底基板的显示区域形成所述发光结构。
[0041]可选的，所述MEMS微镜阵列包括第一下电极、第二下电极、支撑柱和上电极，所述微镜阵列形成单元，包括:
[0042]下电极形成子单元，用于在形成有所述LTPS背板的第一衬底基板的非显示区域形成所述下电极；
[0043]第一形成子单元，用于对形成有所述下电极的第一衬底基板进行图案化，形成所述第一下电极和所述第二下电极，所述第一下电极和所述第二下电极之间存在间隙；
[0044]牺牲层形成子单元，用于在形成有所述第一下电极和所述第二下电极的第一衬底基板上形成牺牲层；
[0045]第二形成子单元，用于对所述牺牲层进行部分移除，形成残余牺牲层和由所述第一下电极、所述第二下电极、所述残余牺牲层、所述LTPS背板围成的空腔，所述空腔的宽度等于所述第一下电极和所述第二下电极之间的间隙；
[0046]支撑柱形成子单元，用于向所述空腔填充支撑材料，形成所述支撑柱；
[0047]上电极形成子单元，用于在形成有所述支撑柱的第一衬底基板上形成所述上电极，所述上电极在所述开关控制电路的控制下旋转预设角度后，对所述显示区域的发光结构发出的光进行反射；
[0048]移除子单元，用于对所述残余牺牲层进行移除，形成所述MEMS微镜阵列。
[0049]可选的，所述制造装置还包括:
[0050]第一形成单元，用于在形成有所述发光结构的第一衬底基板上形成第二衬底基板。
[0051]可选的，所述制造装置还包括:
[0052]第二形成单元，用于通过OLED蒸镀技术和OLED封装技术形成所述显示器。
[0053]可选的，所述支撑材料为多晶硅，二氧化硅或铝。
[0054]可选的，所述发光结构为电致发光结构。
[0055]第四方面，提供了一种显示器的显示方法，所述显示器为第一方面所述的显示器，所述显示器包括形成有低温多晶硅LTPS背板的第一衬底基板的非显示区域形成有微机电系统MEMS微镜阵列，形成有所述MEMS微镜阵列的第一衬底基板的显示区域形成有发光结构，所述LTPS背板形成有开关控制电路，所述MEMS微镜阵列包括第一下电极、第二下电极、支撑柱和上电极，所述显示方法包括:
[0056]在需要进行图像显示时，通过所述开关控制电路控制所述上电极、所述第一下电极和所述第二下电极的电压，使所述上电极旋转至能够反射所述显示区域的发光结构发出的光的位置；
[0057]在不需要进行图像显示时，通过所述开关控制电路控制所述上电极、所述第一下电极和所述第二下电极的电压，使所述上电极旋转至无法反射所述显示区域的发