一种基于rtd的量测工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造领域，具体涉及一种基于RTD的量测工艺。
【背景技术】
[0002]目前，在半导体制造中一般采用基于WLT (wafer level traceability)的智能采样系统(Smart Sampling System,简称SSS)进行后续量测工序，即在晶圆到达量测站点还未触发RTD (Real Time Dispatching)系统时，lot就已经被SSS系统分配好基于WLT的采样组别，以进行后续的量测工艺，在此过程中线上的操作员无法对上述的采样组别进行配置，进而使得在run货时，无法确保是采用最有价值的lot进行量测，使得无效量测次数增加(同时还增大了生产周期(cycle time))的同时，还增大了量测数据片面性的风险；另夕卜，基于WLT的SSS是根据主机台的信息作为采样的依据，进而使得出货量巨大的腔室机台量测效率极低，且该系统操作复杂，不易操作。
【发明内容】
[0003]本发明记载了一种基于RTD的量测工艺，其中，所述量测工艺包括:
[0004]于SSS系统中设定并维护晶圆批次的采样规则和晶圆追溯信息；
[0005]利用RTD系统将所述SSS系统中晶圆批次的特征信息与量测机台当前队列中晶圆批次进行匹配，以获取每个所述晶圆批次所在的采样组及其晶圆追溯信息；
[0006]根据所述晶圆追溯信息获取每个所述采样组中的最有价值量测晶圆批次，并将所述最有价值量测晶圆批次的优先级设置为最高；
[0007]根据所述采样组当前进行量测工艺的状态，来设置该采样组中每个晶圆批次的优先级；
[0008]按照每个所述晶圆批次的优先级顺序，所述量测机台按照所述采样规则对当前队列中晶圆批次进行量测工艺。
[0009]上述基于RTD的量测工艺，其中，所述量测工艺还包括:
[0010]按照每个所述晶圆批次的优先级顺序对所述量测机台当前队列中的晶圆批次进行排序和显示。
[0011]上述基于RTD的量测工艺，其中，所述量测工艺的状态包括量测结果合格，量测结果不合格和没有量测结果；
[0012]当所述量测工艺的状态为量测结果合格时，则该采样组中所有的晶圆批次的优先级均设置为最低；
[0013]当所述量测工艺的状态为量测结果不合格时，则在当前RTD顺序中，将该采样组中的最有价值量测晶圆批次置前，设定所述量测机台需要对该最有价值量测晶圆批次进行量测工艺，并设置需要获取所述最有价值量测晶圆批次的量测工艺的状态，同时将该采样组中所有的晶圆批次的优先级均设置为最低；
[0014]当所述量测工艺的状态为没有量测结果时，若该采样组中没有晶圆批次进入所述量测机台，则将该采样组中的最有价值量测晶圆批次置前，并设置所述量测机台需要对该最有价值量测晶圆批次进行量测工艺，以及设置需要获取所述最有价值量测晶圆批次的量测工艺的状态，同时将该采样组中所有的晶圆批次的优先级均设置为最低；若该采样组中已有晶圆批次进入所述量测机台，则将该采样组中剩余的晶圆批次的优先级均设置为最低，并设置需要获取已进入所述量测机台的晶圆批次的量测工艺的状态。
[0015]上述基于RTD的量测工艺，其中，所述RTD系统将所述SSS系统中晶圆批次的特征信息与量测机台当前队列中晶圆批次进行匹配，还能获取每个所述采样组当前进行量测工艺的状态。
[0016]上述基于RTD的量测工艺，其中，根据所述晶圆追溯信息获取每个所述采样组中的最有价值量测晶圆批次的步骤包括:
[0017]将该采样组中每个晶圆批次所经过工艺的信息与所述晶圆追溯信息进行对比，将与所述晶圆追溯信息匹配的晶圆批次设置为最有价值量测晶圆批次。
[0018]上述基于RTD的量测工艺，其中，所述采样规则包括每个所述量测机台的流片信息、一采样组内进行量测工艺的间隔时间和晶圆批次片数阈值信息，所述晶圆追溯信息为每个晶圆批次的腔室信息。
[0019]本申请还提供了一种基于RTD的量测工艺，其中，所述工艺包括:
[0020]于SSS系统中设定并维护GTS信息、GWT信息、GBT信息和晶圆批次经过的腔室信息来设定采样组规则；
[0021]所述SSS系统根据每个晶圆批次所经过的工艺信息，对达到当前量测机台的晶圆批次划分至相应的采样组；
[0022]其中，所述GTS信息为一个采样组所能涵盖的最大时间值，所述GWT信息为当前晶圆批次的量测信息与其可以依赖的将会到达的晶圆批次的量测信息之间的时间值，所述GBT信息为当前晶圆批次的量测信息与其可以依赖的已经建立的采样组的量测信息之间的时间值。
[0023]上述基于RTD的量测工艺，其中，所述工艺还包括:
[0024]将每个所述晶圆批次的采样组信息反馈至MES系统。
[0025]综上所述，本申请一种基于RTD的量测工艺，通过预先在量测机台上设置采样及WLT相关信息(如flow信息、时间、lot片数阈值信息等)后，对该量测机台上队列中(基于RTD系统)的lot进行匹配分组(可根据其经过的主机台信息进行分组)，并于同一组中对每个wafer进行排序；根据上述的排序及预设的信息对wafer进行抽样量测工艺。另夕卜，当对经过腔室(chamber)机台的wafer进行量测工艺时，还可基于其经过的腔室信息对其进行分组排序，及后续的抽样量测工艺。由于工程师可随时根据量测工艺需求来及时的调整不同的wafer进行抽样检测的量测机台、分组信息及抽样规则，并基于RTD派货信息的基础上，针对经过不同机台类型的wafer进行针对性的抽样量测，进而在确保量测工艺准确性的同时，能够有效的避免其抽样的片面性，且还能合理的调配每个量测机台的工作量。
【附图说明】
[0026]通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明及其特征、夕卜形和优点将会变得更明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分。并未刻意按照比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。
[0027]图1为本申请一种基于RTD的量测工艺的实施例一的流程示意图；
[0028]图2为实施例一中采样信息设置模块中设置的各种信息图表；
[0029]图3为实施例一中米样特征信息表；
[0030]图4为实施例一中SSS WLT特征信息与Lot匹配关系表；
[0031]图5为实施例一中Lot SWS信息表；
[0032]图6为实施例一中RTD WLT SSS排序示意图；
[0033]图7为本申请一种基于RTD的量测工艺的实施例二的流程示意图；
[0034]图8为实施例二中采样信息特征表；
[0035]图9和图10均为实施例二中采样组信息表；
[0036]图11为实施例二中腔室采样组计算算法表。
【具体实施方式】
[0037]下面结合附图对本发明的【具体实施方式】作进一步的说明:
[0038]实施例一:
[0039]如图1所示，一种基于RTD的量测工艺，包括:
[0040]首先，于SSS系统中设定并维护晶圆批次的采样规则(sampling)和晶圆追溯信肩、Ο
[0041 ] 其次，利用RTD系统(如RTD server)将所述SSS系统中晶圆批次的特征信息与量测机台当前队列中晶圆批次(RTD database)进行匹配，以获取每个所述晶圆批次所在的采样组及其晶圆追溯信息。
[0042]之后，根据所述晶圆追溯信息获取每个所述采样组中的最有价值量测晶圆批次，并将所述最有价值量测晶圆批次的优先级设置为最高。
[0043]再后，根据所述采样组当前进行量测工艺的状态，来设置该采样组中每个晶圆批次的优先级；
[0044]然后，按照每个所述晶圆批次的优先级顺序，所述量测机台按照所述采样规则对当前队列中晶圆批次进行量测工艺；
[0045]最后，按照每个所述晶圆批次的优先级顺序对所述量测机台当前队列中的晶圆批次进行排序和显示(即通过点击RTD Query来获取量测机台run货的信息)。
[0046]具体的:
[0047]首先，可在现有的系统(如SSS系统)中设定并维护采样信息(sampling)和晶圆追溯信息(WLT)的相关信息；其中，上述的采样信息包括流片(flow)信息，时间和晶圆批次(lot)片数阈值信息等，而WLT则包括如腔室追溯信息(chamber Traceable)等。
[0048]优选的，在现有的SSS系统的采样信息设置模块中可设置如图2中所示的各种信息(即如 EDC Plan Setting, Prod ID Setting, Module Setting, EQP Setting, EQPInterval Setting, Chamber Traceable Setting 等)。
[0049]其次，利用RTD系统根据SSS系统中的特征信息与量测机台当前队列(queue)的lot做匹配，找出对应lot当前所在的采样组(sampling group)以及相应的其所经过的主机台的腔室(chamber)信息。
[0050]优选的，如图3所示，采样的特征信息包括组信息(group)、量测状态(verifyResult)、第一个到达时间(first arrive time)、晶圆数(wafer count)和腔室信息(groupWLT chamber，简称GWC)等；上述的集中量测状态具体为:PASS表示该组的采样lot量测结果合格，NULL表示该组的采样lot还没有测量完毕，FAIL表示该组的采样lot测量结果不合格；GWC表示该组量测工艺需要涵盖的经过的主机台的Chamber信息。
[0051]优选的，如图4所示，SSS WLT特性信息与lot匹配关系，包括组别信息(group)、晶圆批次信息(lot)和晶圆批次腔室信息(lotchamber,简称LC),该LC具体为该Lot经过的主机台腔室信息；参见图3和图4，当LC = GWC时，则表示该Lot为最有价值量测Lot (Mostvaluable Lot，简称 MVL)，即图 4 中的 lotl2、lotl3 及 lotl7 均为 MVLo
[0052]之后，RTD系统按照上面已定义的数据，定义出lot的SSS WLT Seq(SWS)的数值；其中，SWS为0表示Lot顺序降为最低(即优先级最低);SWS为1表示该lot为MVL，且该lot需要提前并置换为前面同组Lot的相同位置上。
[0053]优选的，参见图5所示(lot list表示晶圆批次数，group表示组别，verifyresult表示量测结果,MVL lot表示最有价值量测晶圆批次,group have track in lot表示该组中是否已有晶圆进入量测机台，若为“Y “表示该组内已经有lot进量测机台，若为“N”表示该组内没有Lot进量测机台):
[0054]若组内量测结果为PASS，即量测结果合格，则组内所有Lot的SWS为0。
[0055]若组内量测结果为FAIL，即量测结果不合格，则现有RTD顺序中排最前的Lot的与同组MVL Lot位置调换,并在MVL lot上设置提示需要run该lot,该Lot