共轴调节装置及使用该装置的共轴调节方法

文档序号:10625746阅读:2790来源:国知局
共轴调节装置及使用该装置的共轴调节方法
【专利摘要】本发明涉及半导体生产和加工领域。本发明提供了一种共轴调节装置,用于在半导体设备中对晶圆固定盘和喷头进行共轴调节,该共轴调节装置包括晶圆固定盘、定位板、定位座、喷头以及激光器件;其中的晶圆固定盘能够在竖直方向上升或下降,并在水平方向沿着X轴、Y轴平移,晶圆固定盘上开有定位孔,用于安装定位板;定位板的下方设置有遮挡物,该遮挡物上开有至少两条狭缝,两条狭缝的相交线在晶圆固定盘的中心轴Z上;其中的喷头开有安装孔,定位座通过安装孔和定位柱安装于喷头,定位座上搭载有激光器件的发射部和接收部。
【专利说明】
共轴调节装置及使用该装置的共轴调节方法
技术领域
[0001]本发明属于半导体加工和制造领域,更具体地说,涉及一种晶圆加工过程中对晶圆固定盘和喷头进行精确定位的装置和方法。
【背景技术】
[0002]半导体行业已经进入了高速发展的上行通道,基于TSV制程的高精尖半导体技术为广大芯片厂商所推崇,与之对应的,相应的半导体加工技术也开始了又一轮的革新。
[0003]为了获得更高品质的晶圆产品,对部分晶圆进行无应力化学抛光(SFP工艺),通过对晶圆表面进行研磨达到相应的厚度是必要的,图1给出了 SFP工艺中所使用到的加工设备。该设备包括工艺腔103,工艺腔103下方伸出喷头101,而在工艺腔103的上方设置有固持晶圆的晶圆固定盘102。工艺过程中,晶圆固定盘102抓取晶圆进入工艺腔103并运动至中心位置后,工艺腔103闭合,由喷头101朝向晶圆固定盘102喷出抛光液,对晶圆表面进行刻蚀。SFP工艺对处理后的晶圆均匀度有着极高的要求,为了使晶圆得到均匀地刻蚀,需要将晶圆固定盘102在刻蚀位置时的中心与喷头101的中心对齐,也即二者拥有共同的中心轴。
[0004]由于晶圆固定盘102的运动过程通常由计算机控制,只要设置好程序,晶圆固定盘102在抓取晶圆后都能准确的回到初始位置,但是晶圆固定盘102的初始位置有必要人为调节和设置,以使晶圆固定盘102在初始位置处与喷头101共轴,为后续抛光工艺的进行做好准备。
[0005]对于这一基于半导体生产实践中所遇到的技术问题,发明人尚未发现比较契合的现有技术,因此自行研发予以解决。

【发明内容】

[0006]为了解决上述实际生产中遇到的技术问题,本发明提供了一种共轴调节的装置,通过增加配件并对配件进行特殊的结构设计,使其符合一定的要求,结合激光定位技术,共同解决了 SFP工艺设备中晶圆固定盘和喷头的共轴调节问题。本发明同时提出了相应的共轴调节方法,以使本领域技术人员能够便捷地利用该装置进行共轴调节。
[0007]上述目的的实现,有赖于以下技术方案:
[0008]一种共轴调节装置,用于在半导体设备中对晶圆固定盘和喷头进行共轴调节,包括晶圆固定盘、定位板、定位座、喷头以及激光器件;
[0009]所述晶圆固定盘在竖直方向具有上升和下降的自由度,在水平方向具有沿着或平行于横向的X轴方向平移的自由度和沿着或平行于纵向的Y轴方向平移的自由度,所述X轴垂直于所述Y轴;
[0010]所述晶圆固定盘上开设有一组定位孔,所述定位板通过相应数目的定位桩与所述晶圆固定盘连接,所述定位板由定位孔和定位桩配合固定于晶圆固定盘后,所述晶圆固定盘与所述定位板的相对位置唯一;
[0011]所述定位板的下方设置有遮挡物,该遮挡物至少留有两条沿着所述晶圆固定盘的径向贯通的第一狭缝和第二狭缝,所述第一狭缝所在的面和所述第二狭缝所在的面均垂直于水平面,所述第一狭缝所在的面与第二狭缝所在的面的相交线位于所述晶圆固定盘的中心轴Z上,且所述第一狭缝所在的面平行于X轴,所述第二狭缝所在的面平行于Y轴;
[0012]所述喷头上开设有至少两组安装孔,分别为第一组安装孔和第二组安装孔,所述第一组安装孔和所述第二组安装孔在水平面内绕喷头的中心轴Z’呈90°旋转对称,所述定位座通过相应数目的定位柱与所述第一组安装孔配合固定于所述喷头,或者所述定位座通过相应数目的定位柱与所述第二组安装孔配合固定于所述喷头;
[0013]所述定位座上安装有激光器件,该激光器件包括发射部和接收部,所述发射部向所述接收部定向发射激光束,所述接收部接收到所述发射部发射出的激光束时所述激光器件产生感应信号,当所述定位座按照第一组安装孔和定位柱所确定的方式安装于所述喷头时,所述激光器件在所述发射部和所述接收部之间形成射线段L,该射线段L平行于水平面和X轴,且所述射线段L与所述喷头的中心轴V相交;当所述定位座按照第二组安装孔和定位柱所确定的方式安装于所述喷头时,所述激光器件在所述发射部和所述接收部之间形成射线段L’,该射线段L’平行于水平面和Y轴,且L’与所述喷头的中心轴Z’相交。
[0014]进一步地,在进行共轴调节的过程中,所述激光束落入所述遮挡物的遮挡区域内并沿着平行于X轴的方向直射所述遮挡物,此时调节所述晶圆固定盘带动所述定位板沿着Y轴方向平移,当所述激光束被遮挡物遮挡时,所述激光器件无感应信号;当所述激光束恰好穿过所述第一狭缝时,所述激光器件产生感应信号后停止移动。
[0015]进一步地,在进行共轴调节的过程中,所述激光束落入所述遮挡物的遮挡区域内并沿着平行于Y轴的方向直射所述遮挡物,此时调节所述晶圆固定盘带动所述定位板沿着X轴方向平移,当所述激光束被遮挡物遮挡时,所述激光器件无感应信号;当所述激光束恰好穿过第二狭缝时,所述激光器件产生感应信号后停止移动。
[0016]优选地,所述狭缝的宽度为I?3mm。
[0017]可选地,所述激光器件所产生的激光束的波长为550?lOOOnm。
[0018]优选地,所述遮光物的横切面为正方形。
[0019]优选地,所述两条狭缝在所述横切面的投影为所述正方形的中线。
[0020]优选地,所述遮光物的横切面为圆形。
[0021]优选地,所述两条狭缝在所述横切面的投影构成所述圆形的两条相互垂直的直径。
[0022]一种使用上述共轴调节装置对晶圆固定盘和喷头进行共轴调节的方法,包括步骤:
[0023]将所述定位板按照所述定位孔及定位桩所确定的方式安装于所述晶圆固定盘上;
[0024]将所述定位座按照所述第一组安装孔及定位柱所确定的方式安装于所述喷头上;
[0025]打开所述激光器件,由所述激光器件的发射部向接收部定向发射激光束;
[0026]调节所述晶圆固定盘的水平位置及竖直位置,使所述激光束落入所述遮挡物的遮挡区域内并沿着平行于X轴的方向直射所述遮挡物;控制所述晶圆固定盘带动所述定位板沿着Y轴方向平移,至得到感应信号后停止移动;
[0027]拆下所述定位座,将所述定位座水平旋转90°,重新按照所述第二组安装孔及定位柱所确定的方式安装于所述喷头上;
[0028]调节所述晶圆固定盘的水平位置及竖直位置,使所述激光束落入所述遮挡物的遮挡区域内并沿着平行于Y轴的方向直射所述遮挡物;控制所述晶圆固定盘带动所述定位板沿着X轴方向平移,至得到感应信号后停止移动;
[0029]得到所述晶圆固定盘与所述喷头的共轴位置。
[0030]本发明为结合具体实际所作出的研发,填补了半导体领域处理该特定问题的空白,解决了晶圆固定盘与喷头的共轴问题,为SFP工艺当中对晶圆进行均匀抛光提供了保障,进而提高了晶圆产品的品质。
【附图说明】
[0031]图1是本发明涉及到的一种无应力抛光设备的结构示意图;
[0032]图2是本发明所述共轴调节装置的第一实施例的结构示意图;
[0033]图3是本发明所述共轴调节装置的第一实施例共轴调节完成后取下定位板204和定位座206的结构示意图;
[0034]图4a、4b是本发明所述共轴调节装置的第一实施例的晶圆固定盘202的结构示意图;
[0035]图5a、5b、5c是本发明所述共轴调节装置的第一实施例的定位板204的结构示意图;
[0036]图6a、6b是本发明所述共轴调节的装置第一实施例的喷头201的结构示意图;
[0037]图7a、7b是本发明所述共轴调节的装置第一实施例的定位座206按照第一组安装孔和定位柱所确定的方式安装时的示意图;
[0038]图8是本发明所述共轴调节装置的第一实施例的定位座206按照第二组安装孔和定位柱所确定的方式安装时的示意图;
[0039]图9是本发明所述共轴调节装置的第一实施例的定位座206按照第二组安装孔和定位柱所确定的方式安装时定位座206的俯视图;
[0040]图10a、10b、1c是本发明所述共轴调节装置的第二实施例的定位板304的结构示意图;
[0041]图11a、Ilb是结合本发明第一实施例实施共轴调节方法时X轴方向和Y轴方向均未对齐情况下的示意图;
[0042]图12是结合本发明第一实施例实施共轴调节方法时Y轴方向已对齐情况下的示意图;
[0043]图13a、13b是结合本发明第一实施例实施共轴调节方法时Y轴已对齐但X轴方向未对齐情况下的示意图;
[0044]图14是结合本发明第一实施例实施共轴调节方法时将晶圆固定盘202和喷头201调至共轴情况下的示意图。
【具体实施方式】
[0045]下面结合附图对本发明的具体实施例及实施方式进行说明。
[0046]图2-图9展示了本发明的第一实施例。其中,图2是本发明第一实施例的正视图。可以看到,该实施例中的共轴调节的装置包括晶圆固定盘202、定位板204、定位座206和喷头201,而通常情况下,SFP抛光工艺需要在特定的腔体内进行,所以上述部件均设置于一工艺腔203内。而在定位板204的底面,设置有遮挡物205 ;在定位座206的表面安装有激光器件。该激光器件包括发射部207和接收部208,激光束由发射部207射出至接收部208,当接收部208成功接收到激光束时,激光器件能够产生感应信号,使操作者得到提醒。在该共轴调节的装置中,晶圆固定盘202和喷头201分别具有各自的中心轴Z和中心轴V,进行抛光时理想的状态是晶圆固定盘202的中心与喷头201的中心对齐,中心轴Z和Z’恰好重合,如此抛出的晶圆均匀性最佳。
[0047]图3-图9对该实施例中的各个部件进行了更详尽的介绍。以图3为例,展示了本发明在共轴调节完成后,晶圆固定盘202的中心轴Z已与喷头201的中心轴V重合,此时共轴调节的过程已经完成,晶圆固定盘202的初始位置得到了确定,抛光过程中并不需要定位板204和定位座206,所以定位板204和定位座206被移除,以方便抛光工艺的进行。后续操作过程中,晶圆固定盘202的移动基本由计算机精确操控,晶圆固定盘202在执行其他动作时,例如抓取晶圆的动作,在该动作完成后均能自行回复到图3所示的初始位置,在共轴状态下对晶圆进行抛光。
[0048]在图3中可以看到,相对于图1所示的现有技术,该实施例的晶圆固定盘202和喷头201上均开设有若干定位孔或安装孔。图中还标出晶圆固定盘202所具有的自由度:晶圆固定盘202可以在竖直方向上上升或下降,也即沿着其中心轴Z上下平移;同时晶圆固定盘202还可以在水平方向沿着两条相互垂直的坐标轴X轴、Y轴在横向和纵向水平移动,晶圆固定盘202在上述方向上具有自由度。
[0049]图4a和4b分别示出了第一实施例中晶圆固定盘202的正视图和仰视图。从该图中可以更清楚的看到设置于晶圆固定盘202上的定位孔209的位置关系。该实施例中的晶圆固定盘202上总共设置了两个定位孔209,分别位于图中A点所标记的位置。这两个定位孔209将与图5中定位板204上的两个定位桩212相配合,将定位板204与晶圆固定盘202固定连接起来。
[0050]在定位板204的下方设置有遮挡物205,该遮挡物205可以是可拆卸式的拼装结构,或者是焊接于定位板204的下方,亦可以是与定位板204 —体成型而成。为了实现发明目的,该遮挡物205需要留有至少两条狭缝,分别为第一狭缝214和第二狭缝213。当定位板204由定位孔209和定位桩212固定连接于晶圆固定盘202后,晶圆固定盘202和定位板204之间的相对位置将被唯一确定,在该唯一确定的相对位置下,第一狭缝214和第二狭缝213沿着晶圆固定盘202的径向贯通,以保证将来激光器件产生的激光束能够经由第一狭缝214或第二狭缝213射出;为了表述的方便,将第一狭缝214所在的平面标记为面丽’ NN’,第二狭缝213所在的平面标记为面PP’ QQ’,则面丽’剛’、面??’ QQ,还需要满足面丽’ NN’平行于X轴而垂直于水平面、面PP’ QQ’平行于Y轴而垂直于水平面的条件,且面丽’ NN,与面PP’ QQ,之间的相交线恰好位于所述晶圆固定盘202的中心轴Z轴上。由于X轴与Y轴垂直,所以当然地,面丽’NN’也将垂直于面PP’QQ’。尽管上述条件设置的比较严苛,但均能通过机械结构的设计予以实现。在该遮挡物205上还可设置其他若干条狭缝,但如果想实现发明目的,所选取的两条狭缝必须满足上述条件。
[0051]图5a至5c对本发明第一实施例中的定位板204及遮挡物205做了更全面的展示。其中的图5a、图5b和图5c分别是定位板204的正视图、定位板204的俯视图和定位板204的仰视图。图中a点标记的位置是定位桩212所在的位置。定位桩212可以是与定位板204 —体成型的,也可以是与定位板204相分离、仅在需要将定位板204与晶圆固定盘202固定在一起时作临时使用。定位桩212的数目和位置应当与定位孔209的数目和位置相对应,这样才能将晶圆固定盘202和定位板204之间的相对位置唯一确定且满足条件,但是定位孔209和定位桩212的数目并不限于两个。
[0052]在图5a当中,正视定位板204可以看到狭缝213的QQ’ 一侧,第二狭缝213沿着晶圆固定盘202的径向且贯通,第二狭缝213所在的面PP’ QQ,平行于晶圆固定盘202在纵向运动的方向,也即面PP’QQ’平行于Y轴;相应的,第一狭缝214也沿着晶圆固定盘202的径向且贯通,第一狭缝214所在的面MT NN,平行于晶圆固定盘202在横向运动的方向,也即面丽’ NN’平行于X轴。
[0053]而观察图5c,也即定位板204的仰视图,可以看到面丽’ NN’与面PP’ QQ,的相交线恰好位于晶圆固定盘202的中心轴Z上。在本实施例中,遮挡物205的横切面形状被设计为正方形,且第一狭缝214和第二狭缝213所开的位置在横切面上的投影均恰好位于该正方形的两条中线上,这主要是出于简化设计和操作的考虑。但上述设计并非必须的,仅属于优选设计方案。另外,该遮挡物205的内部可以由实体材料填实,仅留出可供激光束通过的狭缝空间;也可以将内部空出,设计为空心的框架结构。对于第一狭缝214和第二狭缝213的宽度,宜限定在I?3_左右。狭缝宽度小于1_时可能导致进入狭缝的激光束发生衍射;而狭缝宽度大于3mm时,共轴调节的准确度将受到影响,难以准确对中。
[0054]图6a和6b涉及第一实施例中喷头201的结构示意图,图6a和6b分别是喷头201的俯视图和正视图。喷头201的表面设置有两组安装孔,分别为第一组安装孔210和第二组安装孔211。其中,第二组安装孔211与第一组安装孔210关于喷头201的中心轴Z’旋转90°对称。参考图6a和6b,也即第一组安装孔210所在的位置B点顺时针旋转90°后即可得到第二组安装孔211所在的位置C点。相应的,也可以是第二组安装孔211所在的C点逆时针旋转90°后即可得到第一组安装孔210所在的位置B点。这样就可以保证,当定位座206先按照第一组安装孔210和定位柱215所确定的方式安装后,再按照第二组定位孔211和定位柱215所确定的方式安装后,定位座206在水平面内恰好旋转了 90°。但是,其中安装孔210、211的数目并没有强制性的限定,可以不是两个,其位置也并非一定要排在同一条直线上,只要保证第一组安装孔210与第二组安装孔211关于喷头201的中心轴Z’旋转90°对称即可。
[0055]图7展示的是本发明第一实施例中定位座206的结构示意图。其中图7a为该定位座206的俯视图,图7b为该定位座206的正视图。同时图7a和7b展示了本实施例中的定位座206分别按照定位柱215和第一组安装孔210所确定的方式固定安装的情形,图8和图9则展示了定位座206按照定位柱215和第二组安装孔210所确定的方式固定安装的情形。该定位座206上搭载有一套激光器件。该激光器件包括发射部207和接收部208两部分,使用时由发射部207发射激光束,而由接收部接受激光束,当发射部207发射出的激光束恰好被接收部208接收到时,发射部207和接收部208之间的激光束构成一条射线段,该激光器件将产生感应信号并告知操作者;如果接收部208并没有接收到发射部207发射出的激光束,则激光器件中不会产生感应信号。而在定位座206的底部,设置有定位柱215,图中的b点标记了定位柱215在定位座206上的相应位置。定位柱215的数目和位置与喷头201上的第一组安装孔210相匹配对应,而由于第一组安装孔210与第二组安装孔211的位置关于Z’轴旋转90度对称,所以定位柱215的数目和位置同样的也与第二组安装孔211相匹配对应。当定位座206首先按照定位柱215和第一座安装孔210所确定的方式与喷头201相固定后,再将定位座206旋转90°,此时由于第一组安装孔210和第二组安装孔211的对称关系,定位座206将恰好能够按照定位柱215和第二组安装孔211所确定的方式与喷头201相固定。如果定位座206旋转的角度不及90度或超过90度,那么定位座206将无法固定于喷头201上。
[0056]该实施例中定位座206的横切面为圆形,但这并不是必须的。且用于将定位座206和喷头201固定起来的定位柱215与定位桩212相似的,同样可以是与定位座206 —体成型的,也可以是与定位座206相分离的。设置于定位座206上的激光器件,应该满足的条件为:当定位座206按照第一组安装孔210和定位柱215所确定的方式安装至喷头201上时,激光器件在发射部207和接收部208之间将形成射线段L,该射线段L由发射部207射出至接收部208,射线段L平行于水平面和X轴,且射线段L与喷头201的中心轴Z’轴相交;当定位座206按照第二组安装孔210和定位柱215所确定的方式安装至喷头201上时,激光器件在发射部207和接收部208之间将形成射线段L’,该射线段L’由发射部207射出至接收部208,射线段L’平行于水平面和Y轴,且射线段L’与喷头201的中心轴Z’相交。显然地,射线段L与射线段L’是相互垂直的。上述条件的满足同样有赖于精确的结构设计,但这种设计对机械领域的技术人员来说,当然是可以实现的。
[0057]对于调节过程中激光束的选择,宜选取波长在550?100nm范围内的激光,处于这一波段的激光通常是红色激光束,具有良好的准直性,肉眼可见,且能够与狭缝I?3_的宽度相对应,不会发生衍射。
[0058]图1Oa至1c揭示了本发明的第二实施例。该实施例中共轴调节的装置,其它结构与第一实施例基本相同,而其与第一实施例最主要的区别在于遮挡物305的形状不同于第一实施例中的遮挡物205,图5和图1Oa和图1Ob所展示的结构基本相同,均反映了定位板的正视图和俯视图,而观察定位板的仰视图(即图1Oc)则可以发现这一明显区别:第一实施例中定位板204下方的遮挡物205的横切面为正方形,而在第二实施例中定位板304下方的遮挡物305的横切面为圆形,两个遮挡物的形状有所不同。同样是出于简化设计和操作的目的,遮挡物305上开设的两条狭缝在遮挡物305横切面的投影构成了圆形的两条相互垂直的直径。而当定位板304由定位孔309和定位桩312固定连接于晶圆固定盘302后,晶圆固定盘302与定位板304的相对位置将被唯一确定,在该唯一确定的相对位置下,第一狭缝314和第二狭缝313沿着晶圆固定盘302的径向贯通,以保证将来激光器件产生的激光束能够经由第一狭缝314或者第二狭缝313射出;为了表述方便,将第一狭缝314所在的平面标记为面丽’ NN’,第二狭缝313所在的平面标记为面PP’ QQ’,则面丽’ NN’、面PP’ QQ’还需要满足面丽’ NN,平行于X轴而垂直于水平面、面PP’ QQ’平行于Y轴而垂直于水平面的条件,且面丽’剛’与面PP’ QQ’之间的相交线恰好位于所述晶圆固定盘302的中心轴Z轴上。由于X轴与Y轴垂直,所以当然地,面丽’ NN,也将垂直于面PP’ QQ’。
[0059]由于第二实施例中共轴调节的装置的其他部分与第一实施例基本相同,所以仅在图1Oa至1c中给出其与第一实施例的主要区别部分,而对其他相同结构的部分不再赘附。
[0060]参考附图11a、lib、12-14,下面将结合本发明共轴调节的装置的第一实施例给出本发明所述方法的【具体实施方式】:
[0061]一种使用实施例一中共轴调节的装置对晶圆固定,202和喷头201进行共轴调节的方法,包括步骤:
[0062]将定位板204按照定位孔209及定位桩212所确定的方式安装于晶圆固定盘202上;
[0063]将定位座206按照第一组安装孔210及定位柱215所确定的方式安装于喷头201上;
[0064]打开激光器件,由激光器件的发射部207向接收部208定向发射激光束;
[0065]调节晶圆固定盘202的水平位置及竖直位置,使激光束落入遮挡物205的遮挡区域内并沿着平行于X轴的方向直射遮挡物205 ;控制晶圆固定盘202带动定位板204沿着Y轴方向平移,至得到感应信号后停止移动;
[0066]拆下定位座206,将定位座206水平旋转90°,重新按照第二组安装孔211及定位柱215所确定的方式安装于喷头201上;
[0067]调节晶圆固定盘202的水平位置及竖直位置,使激光束落入遮挡物205的遮挡区域内并沿着平行于Y轴的方向直射遮挡物205 ;控制晶圆固定盘202带动定位板204沿着X轴方向平移,至得到感应信号后停止移动;
[0068]得到晶圆固定盘202与喷头201的共轴位置。
[0069]图1la和Ilb所示的情形为晶圆固定盘202的中心轴Z轴在X轴和Y轴均未对齐的情况。在调节的过程中,激光束已落入了遮挡物205的遮挡区域内并沿着平行于X轴的方向直射遮挡物205,此时应调节晶圆固定盘202带动定位板204沿着Y轴方向平移,当激光束被遮挡物205遮挡时,激光器件无感应信号;当激光束恰好穿过第一狭缝214时,如图12所示,激光器件产生感应信号,操作人员得到反馈信息,此时晶圆固定盘202在Y轴方向上已经对齐。
[0070]图13a和13b所示的情形为晶圆固定盘202的中心轴Z轴在Y轴方向上已经对齐,但在X轴方向上仍未对齐的情形。在调节过程中,同样的,激光束已落入了遮挡物205的遮挡区域内并沿着平行于Y轴的方向直射所述遮挡物205,此时应调节晶圆固定盘202带动定位板204沿着X轴方向平移,当激光束被遮挡物205着当时,激光器件无感应信号;当激光束恰好穿过第二狭缝213时,如图14所示,激光器件产生感应信号,操作人员得到反馈信息,此时晶圆固定盘202在X轴、Y轴两个方向上均已对齐,晶圆固定盘202的中心轴Z轴与喷头201的中心轴V相重合,共轴调节就此完成。
[0071]本发明解决了半导体领域遇到的实际问题,具有突出的实质性特点和显著的进步,烦请审查员明鉴,以及早授予专利权为盼。
【主权项】
1.一种共轴调节装置,用于在半导体设备中对晶圆固定盘和喷头进行共轴调节,其特征在于,包括晶圆固定盘、定位板、定位座、喷头以及激光器件; 所述晶圆固定盘在竖直方向具有上升和下降的自由度,在水平方向具有沿着或平行于横向的X轴方向平移的自由度和沿着或平行于纵向的Y轴方向平移的自由度,所述X轴垂直于所述Y轴; 所述晶圆固定盘上开设有一组定位孔,所述定位板通过相应数目的定位桩与所述晶圆固定盘连接,所述定位板由定位孔和定位桩配合固定于晶圆固定盘后,所述晶圆固定盘与所述定位板的相对位置唯一; 所述定位板的下方设置有遮挡物,该遮挡物至少留有两条沿着所述晶圆固定盘的径向贯通的第一狭缝和第二狭缝,所述第一狭缝所在的面和所述第二狭缝所在的面均垂直于水平面,所述第一狭缝所在的面与第二狭缝所在的面的相交线位于所述晶圆固定盘的中心轴Z上,且所述第一狭缝所在的面平行于X轴,所述第二狭缝所在的面平行于Y轴; 所述喷头上开设有至少两组安装孔,分别为第一组安装孔和第二组安装孔,所述第一组安装孔和所述第二组安装孔在水平面内绕喷头的中心轴Z’呈90°旋转对称,所述定位座通过相应数目的定位柱与所述第一组安装孔配合固定于所述喷头,或者所述定位座通过相应数目的定位柱与所述第二组安装孔配合固定于所述喷头; 所述定位座上安装有激光器件,该激光器件包括发射部和接收部,所述发射部向所述接收部定向发射激光束,所述接收部接收到所述发射部发射出的激光束时所述激光器件产生感应信号,当所述定位座按照第一组安装孔和定位柱所确定的方式安装于所述喷头时,所述激光器件在所述发射部和所述接收部之间形成射线段L,该射线段L平行于水平面和X轴,且所述射线段L与所述喷头的中心轴Z’相交;当所述定位座按照第二组安装孔和定位柱所确定的方式安装于所述喷头时,所述激光器件在所述发射部和所述接收部之间形成射线段L’,该射线段L’平行于水平面和Y轴,且L’与所述喷头的中心轴Z’相交。2.根据权利要求1所述的共轴调节装置,其特征在于,在进行共轴调节的过程中,所述激光束落入所述遮挡物的遮挡区域内并沿着平行于X轴的方向直射所述遮挡物,此时调节所述晶圆固定盘带动所述定位板沿着Y轴方向平移,当所述激光束被遮挡物遮挡时,所述激光器件无感应信号;当所述激光束恰好穿过所述第一狭缝时,所述激光器件产生感应信号后停止移动。3.根据权利要求1所述的共轴调节装置,其特征在于,在进行共轴调节的过程中,所述激光束落入所述遮挡物的遮挡区域内并沿着平行于Y轴的方向直射所述遮挡物,此时调节所述晶圆固定盘带动所述定位板沿着X轴方向平移,当所述激光束被遮挡物遮挡时,所述激光器件无感应信号;当所述激光束恰好穿过第二狭缝时,所述激光器件产生感应信号后停止移动。4.根据权利要求1所述的共轴调节装置,其特征在于,所述狭缝的宽度为 I ?3mm。5.根据权利要求1所述的共轴调节装置,其特征在于,所述激光器件所产生的激光束的波长为550?lOOOnm。6.根据权利要求1所述的共轴调节装置,其特征在于,所述遮光物的横切面为正方形。7.根据权利要求6所述的共轴调节装置,其特征在于,所述两条狭缝在所述横切面的投影为所述正方形的中线。8.根据权利要求1所述的共轴调节装置,其特征在于,所述遮光物的横切面为圆形。9.根据权利要求8所述的共轴调节装置,其特征在于,所述两条狭缝在所述横切面的投影构成所述圆形的两条相互垂直的直径。10.一种使用权利要求1中所述共轴调节装置对晶圆固定盘和喷头进行共轴调节的方法,其特征在于,包括步骤: 将所述定位板按照所述定位孔及定位桩所确定的方式安装于所述晶圆固定盘上; 将所述定位座按照所述第一组安装孔及定位柱所确定的方式安装于所述喷头上; 打开所述激光器件,由所述激光器件的发射部向接收部定向发射激光束; 调节所述晶圆固定盘的水平位置及竖直位置,使所述激光束落入所述遮挡物的遮挡区域内并沿着平行于X轴的方向直射所述遮挡物;控制所述晶圆固定盘带动所述定位板沿着Y轴方向平移,至得到感应信号后停止移动; 拆下所述定位座,将所述定位座水平旋转90°,重新按照所述第二组安装孔及定位柱所确定的方式安装于所述喷头上; 调节所述晶圆固定盘的水平位置及竖直位置,使所述激光束落入所述遮挡物的遮挡区域内并沿着平行于Y轴的方向直射所述遮挡物;控制所述晶圆固定盘带动所述定位板沿着X轴方向平移,至得到感应信号后停止移动; 得到所述晶圆固定盘与所述喷头的共轴位置。
【文档编号】H01L21/67GK105990203SQ201510081687
【公开日】2016年10月5日
【申请日】2015年2月15日
【发明人】代迎伟, 金诺, 金一诺, 王坚, 王晖
【申请人】盛美半导体设备(上海)有限公司
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