一种无线充电线圈的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型属于线圈技术，特别设及的是平面结构的线圈，例如是无线充电技术 用的线圈。
【背景技术】
[0002] 感应充电线圈或者说非接触式充电线圈，是源于无线电力输送技术产生的一种新 型充电技术，可W用于近距离非接触式利用近场感应传导原理传输能量的无线充电装置， 通过无线方式为移动通信设备，PC(个人计算机)设备和小型智能电子产品，智能穿戴产品 等充电。
[0003] 对于移动通信设备，PC设备和小型智能电子产品的无线充电装置用的线圈，线圈 的电感值要求在12UHW上，对线圈总长的直流阻抗值要求小于lohm，整个充电系统的效率 要求大于65%，充电过程中线圈溫度上升要求小于10°C。目前最常用的无线充电线圈的制 作方式是用漆包线绕制，俗称绕线工艺，参看图1和图2,使用该方法具有W下缺点：
[0004] 1.因漆包线绕制线圈的横截面为圆形，只能通过增大横截面的通径来增加横截面 积，不能够根据电子产品的实际可容纳的厚度空间而调整截面形状；
[0005] 2.绕制工艺只能绕圆形，方形和楠圆等规则外形的线圈（受绕线工艺和制程的限 制），无法根据不同产品的空间形状和环境来设计线圈的外形；
[0006] 3.漆包线绕制的线圈，整个线圈的平整度误差比较大，误差甚至大于线径的1.5倍 W上，也就是说，如果电子产品的厚度空间是0〇. 5 mm，那么只能选择0〇. 3 mm~化3 5 mm 线径的线圈，否则产品将容纳不下线圈；
[0007] 4.线圈容易散架；
[000引5.漆包线表层需占用一定厚度空间，不利于产品小型化。 【实用新型内容】
[0009] 本实用新型所要解决的技术问题是提供一种无线充电线圈，能够用于厚度空间有 限的产品环境中，可根据不同的空间环境定制线圈单线盘成的形状，充电效率高。
[0010] 为解决上述问题，本发明提供了一种无线充电线圈，其特征在于，包括一金属板 件，所述金属板件按照线圈图案设计去除线圈图案之外的金属，形成一缕空的金属线圈板 件，金属线圈板件表面具有抗氧化保护层及在用于连接电性部件的部位上具有电锻保护 层，所述金属线圈板件形成线圈成品或裁切成单个的线圈成品。
[0011] 根据本实用新型的一个实施例，所述金属板件上表面和/或下表面还附有一层起 线圈固定作用的晓性薄膜。
[0012] 根据本实用新型的一个实施例，所述晓性薄膜为带背胶的PI材料膜，或PET材料 膜，用W保持蚀刻后线圈的形状。
[0013] 根据本实用新型的一个实施例，所述线圈成品根据实际应用中不同的空间形状要 求而确定。
[0014] 根据本实用新型的一个实施例，所述金属板件的厚度在0.01mm~5mm之间。
[0015] 根据本实用新型的一个实施例，所述金属板件的基材为铜，银，侣，或含有铜、银、 侣中任意一种或几种材料的合金材料。
[0016] 采用上述技术方案后，本实用新型相比现有技术具有W下有益效果：
[0017] 利用金属板材进行化学处理后得到所需的线圈，可W根据电子产品的实际厚度空 间来选择适合的板厚，而且单线横截面形状可W为近似矩形或梯形，从而可W根据充电效 率的要求来设计调整横截面的长宽比，得到最佳横截面积，可用于厚度空间较小的产品环 境中，充电效率也可W调整到最佳状态;无需像【背景技术】中的漆包线一样在表层包覆绝缘 层，由于金属板件刻蚀之后具有一定的硬度，因而无线充电线圈具有固定形状，不易变形或 散架，因而无需表面的绝缘层，也减薄了线圈；利用金属板材进行化学蚀刻可W制作不规则 形状的线圈，而不再限制于漆包线绕制方式(漆包线绕制只能绕制形成部分规则形状），因 而可W根据产品的不同空间形状和环境来设计线圈的外形。
【附图说明】
[0018] 图1为现有技术的漆包线绕制线圈的结构示意图；
[0019] 图2为图1中的线圈沿剖切线A-A进行剖切后的局部结构示意图；
[0020] 图3为本实用新型一个实施例的无线充电线圈制作方法的流程示意图；
[0021 ]图4为本实用新型一个实施例的无线充电线圈的结构示意图；
[0022] 图5为图4中的无线充电线圈沿剖切线B-B进行剖切后的局部结构示意图；
[0023] 图6为本实用新型另一个实施例的无线充电线圈的结构示意图。
【具体实施方式】
[0024] 为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本 实用新型的【具体实施方式】做详细的说明。
[0025] 在下面的描述中阐述了很多具体细节W便于充分理解本实用新型。但是本实用新 型能够W很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可W在不违背本实用新 型内涵的情况下做类似推广，因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。
[0026] 图3示出了一种无线充电线圈制作方法，包括W下步骤：
[0027] SI:提供一金属板件，若金属板件表面有杂质，则先清洗金属板件去除杂质；
[0028] S2:在所述金属板件上表面和/或下表面按线圈图案进行曝光显影工艺形成线圈 图案掩膜，其中，若俩表面均形成线圈图案掩膜时，俩表面的线圈图案对称；
[0029] S3:对所述金属板件进行化学刻蚀，去除金属板件上线圈图案之外区域的金属，形 成缕空的金属线圈板件；
[0030] S4:经过再清洗、表面抗氧化保护和电锻保护处理后，形成线圈成品或再裁切形成 单个的线圈成品。
[0031] 下面通过具体的实施例对图1的方法进行详细的描述。
[0032] 在步骤Sl中，选用金属板件的材料，用于蚀刻制造线圈的金属板材可W是铜，银， 侣，或运些材料的一种或几种与其它材料的合金板材，或者运些材料的几种的组合形成的 合金板材，但是并不限于此，其他可W能够导电的用来形成线圈的硬质金属材料均可W用 来作为本实用新型的金属板件，将金属板材裁切成事先按线圈排版设计好的尺寸，其中，一 金属板件可W用来形成多个线圈，最后再裁切成单个的小线圈，或者也可W直接用来形成 一个线圈，金属板材的厚度例如可W为0.01mm~5mm，之后将金属板件进行清洗，清洗工艺 可W采用现有技术中已有的清洗工艺，当然，如果金属板件的表面能够保证没有或很少有 杂质的话，不清洗也是可W的。
[0033] 在步骤S2中，对金属板件按照线圈图案进行曝光显影工艺，如果是两面都要蚀刻， 那么两面都要做暴光显影，且要对称，误差小于0.03mm，保证刻蚀的单线侧壁的平整度，在 干净的金属板件上表面和/或下表面形成线圈图案掩膜，该掩膜的形状和线圈的形状是对 应一致的，用来防止后续刻蚀工艺将线圈部分刻蚀掉，也就是说线圈图案掩膜是用来在刻 蚀工艺中保护线圈部分的，掩膜可W采用现有技术中的掩膜涂布技术，如果是进行单面刻 蚀的话，在金属板件的上表面或下表面涂布掩膜;如果进行双面刻蚀的话，在金属板件的上 表面和下表