一种样品等离子处理专用电极外置装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种样品等离子处理专用电极外置装置，包括：真空舱体、阳极、连接装置、绝缘柱和阴极。所述真空舱体采用石英玻璃，真空舱体为圆柱形，内含样品材料和处理气体；所述阳极和阴极紧贴于真空舱体外表面，所述阳极和阴极的两侧端部，分别通过连接装置连接在所述绝缘柱上，安装在绝缘柱上的阳极和阴极组成一个和真空舱体同心的圆柱，使得电极更接近待处理的样品材料。当进行等离子处理时，真空舱体内部洁净度很高，因此能够对要求真空舱体高度洁净的样品材料进行等离子处理，同时，那些对金属有腐蚀性的样品材料也不会对真空舱体、阳极和阴极造成腐蚀。
【专利说明】
一种样品等离子处理专用电极外置装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及电极外置装置，特别是涉及一种样品等离子处理专用电极外置装置。
【背景技术】
[0002]等离子表面处理是一种新兴的高科技表面处理方法，通过处理可以使材料表面实现亲水、疏水等特殊功能，以便大幅度增强表面的粘合、焊接、涂镀或者是防水防腐蚀等能力。这一处理手段目前被广泛地应用于电子、芯片、航空航天、兵器、汽车等领域，而且随着科技的发展此技术的应用也越来越广泛。
[0003]现有通常的等离子表面处理技术是，在真空舱体内，导入射频或高频电源，连接到并联的、水平布置(或垂直)的一个或者数个电极板上。电极板之间有一定的间隙，可以在间隙处放入水平托盘，需要处理的样品就放置在托盘上。进行处理时，样品放入托盘并把托盘置入舱体，用真空栗把舱体内的真空度抽到0.1-0.6mbar左右，通入处理气体并接通射频电源。因为接入的射频电源一般电压在1000V至1600V之间，舱体内的电极板被接通射频电源后会击穿舱体内通入的处理气体，将气体分子电离产生等离子，电极板和舱体之间存在电位差，等离子在电位差的作用下从电极板向舱体或者接地的阴极运动，并轰击放置在托盘上的样品，从而使样品得到处理。
[0004]但是这种常用的等离子处理设备结构对于要求真空舱体极端洁净或对金属有腐蚀性的样品材料处理是非常困难的，主要存在的问题是:1、对金属有腐蚀性的样品材料，会对真空舱体和电极产生腐蚀;2、等离子会对电极溅射，从而产生一些污染物。
【发明内容】
[0005]为了解决以上问题，本实用新型采用的是石英玻璃材质真空舱体(I)及电极外置技术，用于对舱室要求极端洁净或对金属有腐蚀性样品进行等离子处理，以及用于处理气体对金属有腐蚀性的工艺。
[0006]为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是:一种样品等离子处理专用电极外置装置，包括:真空舱体、阳极、连接装置、绝缘柱和阴极。
[0007]可选地，所述真空舱体采用石英玻璃，真空舱体为圆柱形，内含样品材料及处理气体。
[0008]可选地，所述阳极和阴极紧贴于真空舱体外表面，所述阳极接射频电源，阴极接地。
[0009]可选地，所述阳极和阴极为弧形电极，上面均布圆孔，圆孔直径为3-20mm。
[0010]可选地，所述阳极和阴极的两侧端部，分别通过连接装置连接在所述绝缘柱上，安装在绝缘柱上的阳极和阴极组成一个和真空舱体同心的圆柱，使得电极更接近待处理的样品材料。
[0011 ]可选地，所述连接装置为螺栓。
[0012]可选地，所述绝缘柱采用聚四氟乙烯或陶瓷，绝缘柱高度为5-50mm。
[0013]本实用新型具体具体操作时，将样品材料放进真空舱体内，启动真空栗，当真空舱体内部真空至0.1-0.6mbar以达到等离子发生时所需要的真空度时，启动处理气体输入，并维持真空度保持稳定。启动设定好了功率的射频电源，这时与射频电源连接的电极带电，并电离处理气体，产生等离子，等离子充满整个真空舱体内部，从而对样品材料进行等离子处理，处理完后，关闭电机和射频电源，通入空气以使真空舱体内的真空与大气连通，使真空舱体内恢复常压，打开舱门，将样品材料拿出，完成处理。
[0014]本实用新型的有益效果是:当进行等离子处理时，真空舱体内部洁净度很高，因此能够用于对真空舱体要求极端洁净的样品材料进行等离子处理，同时，那些对金属有腐蚀性的样品材料及处理气体也不会对真空舱体、阳极和阴极造成腐蚀;此布局方式同样适用于其它真空设备，如真空镀膜设备、真空干燥机、真空沉积设备、真空清洗机等;该装置使用的零件均结构简单，易于实现，成本低。
【附图说明】
[0015]图1是本实用新型的样品等离子处理专用电极外置装置连接示意图；
[0016]图中:1、真空舱体，2、阳极，3、连接装置，4、绝缘柱，5、阴极。
【具体实施方式】
[0017]下面结合附图对本实用新型进一步说明。
[0018]如图1所示，本实用新型的一种样品等离子处理专用电极外置装置，包括:真空舱体1、阳极2、连接装置3、绝缘柱4和阴极5。
[0019]所述真空舱体I采用石英玻璃，真空舱体I为圆柱形，内含样品材料及处理气体。
[0020]所述阳极2和阴极5紧贴于所述真空舱体I外表面，所述阳极接射频电源，阴极接地。
[0021 ] 具体地，所述阳极2和阴极5为弧形电极，上面均布圆孔，圆孔直径为3-20_。
[0022]所述阳极2和阴极5的两侧端部分别通过连接装置3连接在绝缘柱4上，安装在绝缘柱上的阳极2和阴极5组成一个和真空舱体I同心的圆柱，使得电极更接近待处理的样品材料。
[0023]具体地，所述连接装置3选用螺栓，但其他能够将阳极2和阴极5连接在绝缘柱4上的装置均可使用，在此对连接装置不做限定。
[0024]所述绝缘柱4采用聚四氟乙烯或陶瓷，绝缘柱4高度为5-50mm。
[0025]本实用新型具体具体操作时，将样品材料放进真空舱体I内，启动真空栗，当真空舱体I内部真空至0.1-0.6mbar以达到等离子发生时所需要的真空度时，启动处理气体输入，并维持真空度保持稳定。启动设定好了功率的射频电源，这时与射频电源连接的电极带电，并电离处理气体，产生等离子，等离子充满整个真空舱体I内部，从而对样品材料进行等离子处理，处理完后，关闭电机和射频电源，通入空气以使真空舱体I内的真空与大气连通，使真空舱体(I)内恢复常压，打开舱门，将样品材料拿出，完成处理。
[0026]本实用新型的有益效果是:当进行等离子处理时，真空舱体内部洁净度很高，因此能够用于对真空舱体要求极端洁净的样品材料进行等离子处理，同时，那些对金属有腐蚀性的样品材料及处理气体也不会对真空舱体、阳极和阴极造成腐蚀;此布局方式同样适用于其它真空设备，如真空镀膜设备、真空干燥机、真空沉积设备、真空清洗机等;该装置使用的零件均结构简单，易于实现，成本低。
[0027]以上结合附图对本实用新型的实施方式进行了详细说明，但是本实用新型不限于上述实施方式，凡依据本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰，皆应属本实用新型的涵盖范围。
【主权项】
1.一种样品等离子处理专用电极外置装置，其特征是:包括:真空舱体(I)、阳极(2)、连接装置(3)、绝缘柱(4)和阴极(5); 所述真空舱体(I)采用石英玻璃材质，真空舱体(I)为圆柱形，内含样品材料及处理气体;所述阳极(2)和阴极(5)紧贴于真空舱体(I)外表面，所述阳极(2)和阴极(5)的两侧末端相连后组成一个和真空舱体(I)同心的圆柱。2.根据权利要求1所述的一种样品等离子处理专用电极外置装置，其特征是，所述阳极(2)接射频电源，所述阴极(5)接地。3.根据权利要求1或2所述的一种样品等离子处理专用电极外置装置，其特征是，所述阳极(2)和阴极(5)为弧形电极，上面均布圆孔，所述圆孔直径为3-20_。4.根据权利要求1或2所述的一种样品等离子处理专用电极外置装置，其特征是，所述阳极(2)和阴极(5)的两侧端部，分别通过连接装置(3)连接在所述绝缘柱(4)上。5.根据权利要求4所述的一种样品等离子处理专用电极外置装置，其特征是，所述连接装置(3)为螺栓。6.根据权利要求4所述的一种样品等离子处理专用电极外置装置，所述绝缘柱(4)采用聚四氟乙烯或陶瓷，绝缘柱(4)高度为5-50mm。
【文档编号】H01J37/32GK205582880SQ201620340323
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年4月21日
【发明人】郑亮
【申请人】郑亮