一种电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种柜体稳定仪，更确切地说，是一种电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪。
【背景技术】
[0002]电解锰可控硅整流柜是一种在工业生产上使用比较普遍的工业设备，具有较为广阔的应用前景。但是，目前普遍使用的电解锰可控硅整流柜的柜体容易受外界影响而发生倾斜。
【发明内容】
[0003]本发明主要是解决现有技术所存在的技术问题，从而提供一种智能控制柜体平衡的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪。
[0004]本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
一种电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪，包含一固定底座，在所述的固定底座上设有一平衡槽，在所述的平衡槽上设有一机械调节器，在所述的机械调节器上设有一柜体连接柱。
[0005]作为本发明较佳的实施例，所述的固定底座由铸钢制成。
[0006]作为本发明较佳的实施例，所述的平衡槽的表面设有抗氧化层。
[0007]由于本发明的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪在本体上设置了一个由铸钢制成的固定底座，在固定底座上设置了一个平衡槽，平衡槽内还设置了一个机械调节器，该调节器可以通过与其连接的连接柱来控制柜体的平衡，从而大大提高了电解锰可控硅整流柜的稳定性。
[0008]
【附图说明】
[0009]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0010]图1为本发明的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪的立体结构示意图；
图2为图1中的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪的立体结构示意图，此时为另一视角。
[0011]
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图对本发明的优选实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0013]本发明提供了一种智能控制柜体平衡的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪。
[0014]如图1、图2所示，一种电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪I，包含一固定底座2，在所述的固定底座2上设有一平衡槽3，在所述的平衡槽3上设有一机械调节器4，在所述的机械调节器4上设有一柜体连接柱5。
[0015]如图1、图2所示，所述的固定底座2由铸钢制成。
[0016]如图1、图2所示，所述的平衡槽3的表面设有抗氧化层。
[0017]该发明的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪在本体上设置了一个由铸钢制成的固定底座，在固定底座上设置了一个平衡槽，平衡槽内还设置了一个机械调节器，该调节器可以通过与其连接的连接柱来控制柜体的平衡，从而大大提高了电解锰可控硅整流柜的稳定性。
[0018]以上仅仅以一个实施方式来说明本发明的设计思路，在系统允许的情况下，本发明可以扩展为同时外接更多的功能模块，从而最大限度扩展其功能。
[0019]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
【主权项】
1.一种电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪(1)，包含一固定底座(2)，其特征在于，在所述的固定底座(2)上设有一平衡槽(3)，在所述的平衡槽(3)上设有一机械调节器(4)，在所述的机械调节器(4)上设有一柜体连接柱(5)。2.根据权利要求1所述的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪，其特征在于，所述的固定底座(2)由铸钢制成。3.根据权利要求2所述的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪，其特征在于，所述的平衡槽(3)的表面设有抗氧化层。
【专利摘要】本发明公开了一种电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪，包含一固定底座，在所述的固定底座上设有一平衡槽，在所述的平衡槽上设有一机械调节器，在所述的机械调节器上设有一柜体连接柱，所述的固定底座由铸钢制成, 所述的平衡槽的表面设有抗氧化层。由于本发明的电解锰可控硅整流柜柜体稳定仪在本体上设置了一个由铸钢制成的固定底座，在固定底座上设置了一个平衡槽，平衡槽内还设置了一个机械调节器，该调节器可以通过与其连接的连接柱来控制柜体的平衡，从而大大提高了电解锰可控硅整流柜的稳定性。
【IPC分类】H02M7/00, H05K5/02
【公开号】CN104967333
【申请号】CN201510375139
【发明人】王丽
【申请人】王丽
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年7月1日