一种新型SMT搭载识别mark装置的制作方法

文档序号:17107523发布日期:2019-03-15 19:19阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种新型SMT搭载识别mark装置,其特征在于,mark识别装置为圆盘形,分为外圆和内菱形,所述外圆上表层设置抗刮膜,所述抗刮膜通过粘合剂粘合在所述外圆上表层,所述内菱形上表面设置复合材料膜,所述复合材料膜粘合在内菱形上,所述复合材料膜上设有多个同心圆,所述多个同心圆之间的间距由内到外依次递增。

2.根据权利要求1所述一种新型SMT搭载识别mark装置,其特征在于,所述外圆直径为3.0-3.5mm。

3.根据权利要求1所述一种新型SMT搭载识别mark装置,其特征在于,所述内菱形中部的尖角位置为倒圆角Φ0.2mm。

4.根据权利要求1所述一种新型SMT搭载识别mark装置,其特征在于,所述抗刮膜采用光学抗冲击TPC高分子材料制成,有效减少冲击带来的损伤。

5.根据权利要求1所述一种新型SMT搭载识别mark装置,其特征在于,所述mark识别装置为铜料制成。

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