一种用于双面数字化曝光的基材平整装置的制作方法

本发明涉及数字化光刻领域，特别涉及一种用于双面数字化曝光的基材平整装置。

背景技术：

激光直接成像技术是指直接通过cam工作站输出的数据，驱动激光成像装置，在涂有光致抗蚀剂的基材上进行图形曝光。而基材的平面度对曝光图形的质量至关重要，具体表现在：基材平面度的下降，会使基材脱离曝光镜头的焦平面，从而降低了曝光图形的解析度、对位精度等指标，导致曝光不良。尤其在双面曝光激光直接成像设备中，基材的双面需要同时进行曝光，为不遮挡光路，常用的做法是对基材采取两端拉紧或支撑的方式。但是，基材并不是理想的刚性结构，如印制电路板，在重力的作用下，基材的中部会下沉，下沉的幅度取决于其自身的重量、刚性度和两端拉紧的张力。越长越软的基材，为保证基材在焦平面的有效范围内，所需的拉紧张力往往超过了设备的极限。

技术实现要素：

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出了一种用于双面数字化曝光的基材平整装置，实现对进行曝光的基材进行非接触式支撑。

根据本发明实施例的一种用于双面数字化曝光的基材平整装置，其包括：固定机构、悬浮辅助支撑机构，所述固定机构用于对基材进行初步定位；所述悬浮辅助支撑机构包括涡流组件、磁性组件，所述涡流组件与所述磁性组件相互作用而施加垂直于所述基材表面的支撑力。

根据本发明上述实施例的用于双面数字化曝光的基材平整装置，至少具有如下有益效果：首先通过固定机构对基材进行初步定位，防止基材相对固定机构运动，然后在基材的竖直方向上通过悬浮辅助支撑机构对其进行非接触式支撑，这样就提高了基材表面的平整度，从而有效地保证了基材曝光面与曝光镜头焦平面的一致性，大大提高了曝光图形解析度和对位精度等核心指标；此外，该基材平整装置还具有结构简单、易于加工、成本低等优点。

根据本发明的一些实施例，所述固定机构包括拉紧机构和/或支撑机构。

根据本发明的一些实施例，所述用于双面数字化曝光的基材平整装置还包括检测反馈机构，用于检测所述基材表面的平整度以及根据所述平整度调整所述支撑力的大小。

根据本发明的一些实施例，所述涡流组件包括设置在所述基材上且位于曝光区域外围的涡流线圈、与所述涡流线圈连接的输入触点，所述涡流线圈沿所述基材中心对称分布，所述输入触点与所述检测反馈机构电性连接，所述磁性组件设置在所述基材中心的正上方和/或正下方。

根据本发明的一些实施例，所述涡流线圈通过空间投影成像无掩模光刻技术制造成形。

根据本发明的一些实施例，所述涡流线圈通过fpc制备工艺制造成形。

根据本发明的一些实施例，所述涡流线圈通过热压印技术组装而成。

根据本发明的一些实施例，所述磁性组件包括设置在所述基材上且位于曝光区域外围的永磁体和/或电磁体，所述永磁体和/或电磁体产生的磁场沿所述基材中心对称分布，所述涡流组件设置在所述基材中心的正上方和/或正下方，所述涡流组件与所述检测反馈机构电性连接。

根据本发明的一些实施例，所述磁性组件包括设置在所述基材中心的至少一组永磁体，所述永磁体产生的磁场沿所述基材中心对称分布，所述涡流组件设置在所述基材中心的正上方和/或正下方，所述涡流组件与所述检测反馈机构连接，所述永磁体为透明结构。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本发明实施例的俯视图；

图2为本发明实施例的主视图。

附图标记：

基材100、固定机构200、悬浮辅助支撑机构300、涡流组件310、磁性组件320、涡流线圈311、输入触点312。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本发明中的具体含义。

参考图1和图2，为本发明实施例的一种用于双面数字化曝光的基材平整装置，其包括：固定机构200、悬浮辅助支撑机构300。

曝光时，固定机构200对基材100进行初步定位，以防止基材100相对固定机构200发生移动。

悬浮辅助支撑机构300包括涡流组件310、磁性组件320，涡流组件310工作时通电，在其周围产生磁场并与磁性组件320产生的磁场相互作用，进而产生施加垂直于基材100表面的向上的支撑力，使得基材100表面的平整度达到曝光要求。

在本发明的一些实施例中，固定机构200包括拉紧机构和/或支撑机构。当基材100的刚度足够时，其中间部分下垂的程度在曝光允许的程度内，再施加拉紧力就不再适合，此时只需设置支撑机构以对基材100的边缘进行固定。当基材100的刚度不够时，其中间部分下垂的程度超过曝光允许的程度，此时就需要设置拉紧机构以对基材100的边缘施加平行于基材100表面的拉紧力，以控制基材100中间部分的下垂程度。当然在某些情况下，也可以同时设置拉紧机构和支撑机构，以在基材100不同的位置进行支撑和拉紧。

在本发明的一些实施例中，该用于双面数字化曝光的基材平整装置还包括检测反馈机构，用于检测基材100表面的平整度，并根据该平整度调整支撑力的大小，使得基材100的平整度在曝光工艺允许的范围内。具体的，可以通过平面度检测仪和控制器来组成检测反馈机构，控制器根据平面度检测仪反馈的数据对涡流组件310的工作电流进行调整，从而达到改变支撑力大小的目的。

在本发明的一些实施例中，如图1所示，涡流组件310包括设置在基材100上且位于曝光区域外围的涡流线圈311、与涡流线圈311连接的输入触点312，涡流线圈311位于曝光区域外围，这样其挡不到曝光的光路。涡流线圈311沿基材100中心对称分布，使得其产生的磁场均匀分布。输入触点312与检测反馈机构电性连接，检测反馈机构检测基材100表面的平整度，当基材100的平整度不在曝光工艺允许范围内时，检测反馈机构调节输入触点312的输入电流，从而达到调整支撑力大小的目的。如图2所示，磁性组件320设置在基材100中心的正上方和/或正下方，使得作用在基材100上的磁力更均匀。

在本发明的一些实施例中，进一步的，涡流线圈311通过空间投影成像无掩模光刻技术制造成形，使其成为基材100的一部分，使用时只需引出相应的输入触点312。这样的方式可以大大提高其电性能参数的一致性，增加其电磁耦合程度，降低其分布电容。

在本发明的一些实施例中，进一步的，涡流线圈311通过fpc制备工艺制造成形，其具有重量轻、厚度薄、弯折性好的特点，可以直接通过粘贴的方式附着在基材100的表面。

在本发明的一些实施例中，进一步的，涡流线圈311通过热压印技术组装而成，根据实际工艺和基材100的受力情况，生产多种标准规格的线圈，再通过热压印技术将其成形在基材100上，最后在其上引出输入触点312，这样就可以大大降低生产成本。

在本发明的一些实施例中，磁性组件320包括设置在基材100上且位于曝光区域外围的永磁体和/或电磁体，永磁体和/或电磁体产生的磁场沿基材100的中心对称分布，涡流组件310设置在基材100中心的正上方和/或正下方，涡流组件310与检测反馈机构电性连接。

在本发明的一些实施例中，磁性组件320包括设置在基材100中心的至少一组永磁体，永磁体产生的磁场沿基材100的中心对称分布，涡流组件310设置在基材100中心的正上方和/或正下方，涡流组件310与检测反馈机构连接，永磁体采用透明的磁性材料制作以形成透明结构，这样其挡不到曝光的光路。

本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。