作为RBD诊 断模块111的初始化序列的一部分执行。在另一实施例中，光开关200的设计在光开关200处 于默认状态时将反射光110沿着第一光学输出路径202引导。
[0049]在步骤330中，由控制器接收激光源发射信号。在实施例中，控制器240接收激光源 发射信号245。
[0050]在步骤340中，将接收到的反射光引导至感测装置。在实施例中，光开关200从响应 于激光源发射信号245的控制器240接收信号242,从而将接收到的光110沿着第二光学输出 路径204引导至感测装置230。
[0051]在步骤350中，测量接收到的反射光。在实施例中，感测装置230测量在第二光学路 径240上接收到的反射光110。
[0052]在步骤360中，在跟随步骤340的第一预定时间段之后，将接收到的反射光引导至 阻挡元件。在实施例中，在第一预定时间段(曝光时间）之后，控制器240向光开关200发出将 反射光110沿着第一光学路径202引导至光阻挡元件220的信号242。该步骤可以与步骤350 重叠，其中由感测装置230进行的测量在预定第一曝光时间之后开始。
[0053]在步骤370中，在执行了步骤360之后，在控制器处接收第二激光源发射信号。在实 施例中，控制器240接收第二激光源发射信号245。
[0054]在步骤380中，如果第二激光源发射信号在第一预定时间段（曝光时间）加上第二 预定时间段(恢复时间）之后在控制器处被接收到，那么通过重复步骤340至360使过程继 续，其中步骤340响应于第二激光源发射信号。在实施例中，只有当第二激光源发射信号245 在曝光时间加上恢复时间之后被接收到时，第二激光源发射信号245才开始利用步骤340通 过控制器240进行的另一测量序列。
[0055]备选地，在步骤380中，如果第二激光源发射信号在第一预定时间段(曝光时间）加 上第二预定时间段(恢复时间）内被接收到，则第二激光源发射信号被忽略。在实施例中，如 果第二激光源发射信号245在曝光时间加上恢复时间内被接收到，则第二激光源发射信号 245被控制器240忽略。
[0056]如已知的，在EUV光源100的操作中，EUV光的输出功率可以通过使激光源101的占 空比（也就是在给定间隔中的激光源101发射时的时间量)变化而变化，从而导致EUV光的产 生。该占空比可以从其中激光源101不频繁地发射的诸如由图4a中激光源发射信号245所示 出的低占空比变化至其中激光源101快速地发射的诸如由图4b中的激光源发射信号245所 示出的高占空比、变化至其中激光源101连续地发射的诸如由图4c中的激光源发射信号245 所示出的连续模式操作。
[0057]现在参见图4a，示出了根据实施例的处于低占空比激光源发射模式的RBD模块111 的操作。激光源发射信号245在发出图1的激光源101的发射的信号的时间402处从低电平转 变至高电平。激光源发射信号245在时间404处转变为低，从而发出激光脉冲的结束的信号。 [0058]在实施例中，响应于第一激光源发射信号402,控制器240向光开关200发出将反射 光110引导至感测装置230的信号242,从而开始了测量序列。
[0059] 在控制器240向光开关200发出将反射光110引导至感测装置230用于测量的信号 242之后，控制器240在第一预定曝光时间之后向光开关200发出将反射光110引导至光阻挡 元件220的信号242。在实施例中，光开关200保持处于第二状态持续用时间T1430表示的从 时间402至时间404的第一预定曝光时间。
[0060] 在实施例中，在第一预定曝光时间T1430结束时，控制器240将光开关200从第二状 态改变至第一状态，从而将反射光11 〇远离感测装置230引导并沿着第一光学输出路径202 引导至阻挡元件220。
[0061]如果第二激光源发射信号在第一预定曝光时间加上第二预定恢复时间之后在控 制器240处被接收到，则开始另一测量序列，否则第二激光源发射信号被忽略。如示出的，第 二激光源发射信号410在第一预定曝光时间加上第二预定恢复时间之后被接收到，并且开 始通过控制器240向光开关200发出将反射光110引导至感测装置230的信号412示出的另一 测量。
[0062]感测装置230的在测量反射光时的响应被示出为线420。在实施例中，感测装置230 的响应可以使用对于电子领域已知的指数充电/放电特性来建模。当在曝光时间T1430期间 曝光于反射光110时，感测装置230以指数方式变热。当曝光时间T1430在时间404处结束时， 感测装置230在测量时间T2440期间被读出。在该测量时间T2440期间，感测装置230变凉。该 变凉过程被建模为继续通过时间T3450的指数过程。该恢复时间（时间T2440加上时间 T3450)使感测装置230返回至其中可以进行另一测量序列的状态。注意，恢复时间可以在不 会显著地改变由感测装置230进行的测量的状态下更长。
[0063] 在实施例中，曝光时间T1430被预先确定以防止感测装置230饱和。饱和水平被示 出为图4a的线460。太长的曝光时间Tl导致感测装置230的饱和，这进而导致测量准确度上 的损失。极度饱和会导致对感测装置230造成损坏。相反，太短的曝光时间Tl导致感测装置 230的未使用的动态范围。因此，在实施例中，曝光时间被选择以在没有过度饱和的情况下 最好地利用感测装置230的动态范围。
[0064]在实施例中，曝光时间Tl可以被固定使得感测装置230的饱和在计划的操作下不 会发生。在另一实施例中，曝光时间Tl被调整使得由感测元件感测到的最大像素值在饱和 水平的预定值内。在另一实施例中，曝光时间Tl被调整使得感测装置230中的不超过预定数 量或百分比的像素被饱和。
[0065]类似地，恢复时间T2+T3可以例如在RBD模块111的制造期间被固定。在另一实施例 中，恢复时间T2+T3通过使T3变化来调整，从而使测量时间T2440保持固定。作为示例，恢复 时间T2+T3可以在考虑诸如RBD模块111和感测装置230的操作温度等的环境因素下被调整。 恢复时间T2+T3可以基于由感测装置230测得的峰值来调整，例如通过确定感测装置230从 峰值恢复至准许随后的测量循环的值所需的恢复时间。作为示例，对于特别的感测装置而 言，曝光时间Tl为近似10毫秒，并且恢复时间T2+T3为近似10毫秒;使用不同的感测装置，曝 光时间Tl为近似1毫秒，以及恢复时间T2+T3近似5毫秒。
[0066]现在参见图4b，示出了根据实施例的处于高占空比激光源发射模式的RBD模块111 的操作。当激光源发射信号402在一系列脉冲405内从低转变到高到低到高时，来自控制器 240的控制信号242指示光开关200从第一状态至第二状态，从而开始了测量序列。在从开始 测量序列的第一预定曝光时间T1430之后，控制器200指示控制信号242和光开关200至第一 状态持续恢复时间（时间T2440加上时间T3450)。
[0067]如果第二激光源发射信号在第一预定曝光时间T1430加上第二预定恢复时间T2440加上时间T3450之后在控制器240处被接收到，则开始另一测量序列，否则第二激光源 发射信号被忽略。
[0068] 在第一预定曝光时间T1430加上第二预定恢复时间T2440加上时间T3450期间出现 的附加激光源发射信号245于是被忽略。相比之下，激光源发射信号410在时间408处跟随第 一预定曝光时间T1430加上第二预定恢复时间T2440加上时间T3450,并且开始通过控制器 240向光开关200发出将反射