低反光增印保护膜的制作方法

文档序号:11917639阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种低反光增印保护膜,包括一基材层(1),此基材层(1)上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层(2),此基材层(1)下表面通过有机硅压敏胶层(3)与一雾面离型纸(4)粘合连接,其特征在于:所述雾面离型纸(4)由第一淋膜层(5)、离型纸原纸层(6)、第二淋膜层(7)、雾面涂层(8)和离型剂涂层(9)依次层叠构成,所述雾面涂层朝向离型剂涂层的表面的表面粗糙度为2.821μm~3.324μm;所述制备工艺主要由下列步骤组成:

第一步:在离型纸原纸的两侧表面,用淋膜机各淋膜一层淋膜层,然后冷却;

第二步:在任意一淋膜层上涂覆一层厚度为0.2~2微米的雾面涂层剂,该雾面涂层剂进一步通过以下工艺获得:

步骤1. 将0.6份纳米SiO2粉体、0.25份纳米Al2O3粉体和1份硅烷偶联剂加入8份甲苯中进行超声波处理获得预分散液;

步骤2. 将100份乙烯基硅氧烷、0.5份含氢硅氧烷加入125份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液;

步骤3. 将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌,从而获得调制后的聚合物溶液;

步骤4. 在所述调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金并依次进行机械搅拌和超声波搅拌获得所述雾面离型溶剂;

第三步:将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层;

第四步:在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。

2.根据权利要求1所述的低反光增印保护膜,其特征在于:所述纳米SiO2粉体的直径范围为10~15nm,所述纳米Al2O3粉体的直径范围为25~35nm。

3.根据权利要求1所述的低反光增印保护膜,其特征在于:所述第一、第二淋膜层的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯或者聚氯乙烯。

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