光学膜的制造方法、光学膜和图像显示装置与流程

本申请是分案申请，其母案申请的申请号：201480003729.2(pct/jp2014/072316)，申请日：2014.08.26，优先权日：2013.11.14，发明名称：光学膜的制造方法、光学膜和图像显示装置。

本发明涉及一种光学膜及其制造方法，所述光学膜含有通过胶粘剂层或粘合剂层将至少第一膜和第二膜贴合而成的层叠结构，所述胶粘剂层或粘合剂层包含胶粘剂组合物或粘合剂组合物的固化物层。本发明进一步涉及使用上述光学膜的液晶显示装置、有机el显示装置、pdp等图像显示装置。

背景技术：

在钟表、手机、pda、笔记本电脑、电脑用监视器、dvd播放器、tv等中，液晶显示装置正在急剧拓展市场。液晶显示装置是使液晶的开关所致的偏振状态可视化的装置，从其显示原理出发，使用偏振片。特别是在tv等用途中，越来越要求高亮度、高对比度、广视角，对于偏振膜也越来越要求高透射率、高偏振度、高的色彩重现性等。

作为偏振片，出于具有高透射率、高偏振度的原因，例如使碘吸附于聚乙烯醇(以下也简称为“pva”)并进行拉伸而成的结构的碘类偏振片最为普遍且得到广泛使用。通常，偏振膜使用通过将聚乙烯醇类的材料溶于水而成的、所谓的水性胶粘剂在偏振片的两面贴合有透明保护膜的偏振膜。但是，近年来，由于具有可省略干燥工序、尺寸变化小等优点，使用不含有水、有机溶剂的活性能量射线固化型树脂组合物正成为主流。

在使用活性能量射线固化型树脂组合物将多个膜贴合来制造光学膜的情况下，例如通常如下制造：仅在透明保护膜的贴合面涂布胶粘剂组合物，从该贴合面侧贴合偏振片等，制造含有层叠结构的光学膜。但是，现有的制造方法中，在涂布胶粘剂组合物等之前的偏振片、透明保护膜等的表面附着有灰尘、尘埃等异物、或者胶粘剂组合物含有微小异物的情况下，异物会残留在胶粘剂层中，结果，有时产生外观缺陷。

下述专利文献1中，记载了一种光学膜的制造方法，其为包括在透明支撑体上或形成于该透明支撑体上的底涂层上薄层涂布湿法涂布量为10ml/m²以下的光学功能层的工序的光学膜的制造方法，该光学膜的制造方法中，包括在涂布光学功能层之前从透明支撑体上或底涂层上除去高度为10μm以上的异物的工序。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-180905号公报

技术实现要素：

发明所要解决的问题

但是，本发明人研究的结果是，上述专利文献1记载的技术中，在透明支撑体上等已经存在异物的状态下，尝试通过压延处理等将异物压碎而除去，因此，异物的除去精度不高，在除去工序后仍残留微小的异物。因此，实际情况是，上述专利文献1记载的技术特别是在厚度薄、存在微小异物的情况下，难以应用于外观缺陷成为问题的薄型光学膜的制造方法。

本发明是考虑上述实际情况而完成的，其目的在于提供即使光学膜为薄型也可防止由异物和/或气泡引起的外观缺陷的产生的光学膜的制造方法。

用于解决问题的手段

本发明人为了解决上述问题反复进行了深入研究，结果发现，在制造含有将至少两片膜贴合而成的层叠结构的光学膜时，通过采用特定的涂布方式在所贴合的两片膜的两个贴合面涂布胶粘剂组合物或粘合剂组合物，能够一次性地实施异物和/或气泡的除去以及胶粘剂组合物或粘合剂组合物的涂布。本发明是进行深入研究后得到的，其具备如下构成。

即，本发明涉及一种光学膜的制造方法，其特征在于，其为如下光学膜的制造方法，所述光学膜含有通过胶粘剂层或粘合剂层将至少第一膜和第二膜贴合而成的层叠结构，所述胶粘剂层或粘合剂层包含胶粘剂组合物或粘合剂组合物的固化物层，所述光学膜的制造方法中具有涂布工序，所述涂布工序中，使用后计量涂布方式，在所述第一膜的贴合面和所述第二膜的贴合面这两个面上涂布所述胶粘剂组合物或所述粘合剂组合物，由此将异物和/或气泡除去。

在将两片膜贴合而制造具有层叠结构的光学膜的情况下，通常通过在两片膜中的一片膜上涂布胶粘剂组合物或粘合剂组合物并在其上贴合另一片膜来制造(以下也称为“单面涂布方法”)。但是，本发明中，在第一膜的贴合面和第二膜的贴合面这两个面上涂布胶粘剂组合物或粘合剂组合物，使用后计量涂布方式的涂布方式，一边将异物和/或气泡除去，一边实施该涂布。具体而言，使用后计量涂布方式，将要贴合的两片膜的两个贴合面上存在的灰尘、尘埃等异物刮去，并且将来自于胶粘剂组合物或粘合剂组合物的凝胶状物、凝聚物也从两片膜的两个贴合面刮去，同时，在两片膜的两个贴合面上涂布胶粘剂组合物或粘合剂组合物。其结果，本发明所涉及的光学膜的制造方法中，在两片膜的两个贴合面上存在异物的可能性极为降低。其结果，本发明所涉及的光学膜的制造方法中，能够制造由异物引起的外观缺陷的产生得到防止的光学膜。

另一方面，对于单面涂布方法而言，无法将不涂布胶粘剂组合物或粘合剂组合物的膜的贴合面上存在的异物除去，因此，在层叠后形成的胶粘剂层(或粘合剂层)中残留异物的可能性增大。此外，单面涂布方法中，一个膜的胶粘剂(或粘合剂)涂布面与另一个(不存在胶粘剂组合物(或粘合剂组合物)的)膜的贴合面直接接触并贴合。这种情况下，具有粘性的胶粘剂组合物(或粘合剂组合物)与另一个膜的贴合面直接接触，因此，贴合时容易混入气泡。另一方面，本发明所涉及的方法中，在第一膜的贴合面和第二膜的贴合面这两个面上涂布胶粘剂组合物(或粘合剂组合物)，因此，第一膜的胶粘剂(或粘合剂)涂布面与第二膜的胶粘剂(或粘合剂)涂布面接触并贴合。即，在具有粘性的胶粘剂组合物(或粘合剂组合物)相互重叠的情况下贴合，因此，贴合时不易混入气泡，并且气泡容易逸出。因此，本发明所涉及的方法与单面涂布方法相比，在气泡除去效果的方面也优良，因此，能够制造由气泡引起的外观缺陷的产生得到防止的光学膜。

需要说明的是，本发明中，“后计量涂布方式”是指对液膜施加外力来将过量液除去而得到预定的涂布膜厚的方式。本发明所涉及的光学膜的制造方法中，对由胶粘剂组合物或粘合剂组合物构成的液膜施加外力时，贴合面上存在的尘埃、灰尘等异物等被刮去。作为后计量涂布方式的具体例，可以列举凹版辊涂布方式、正向辊涂布方式、气刀涂布方式、刮棒涂布方式等，从异物的除去精度、涂布膜厚的均匀性等观点出发，本发明中，上述涂布方式优选为使用凹版辊的凹版辊涂布方式。另外，本发明中，“除去异物和/或气泡”是指将异物和气泡中的至少一者或两者除去。

上述制造方法中，优选后计量涂布方式为所述胶粘剂组合物或粘合剂组合物循环并进行涂布的方式，所述制造方法具有如下的异物除去功能：将通过涂布从所述第一膜和/或所述第二膜混入到所述胶粘剂组合物或粘合剂组合物中的异物，从所述胶粘剂组合物或粘合剂组合物中除去。后计量涂布方式中，将由胶粘剂组合物或粘合剂组合物构成的涂布液涂布到第一膜和第二膜的贴合面上，若该涂布液含有通过涂布从第一膜和/或第二膜的贴合面除去的异物，则在涂布后的第一膜和第二膜的贴合面上存在异物的可能性增大。但是，在所使用的涂布方式具备将通过涂布从第一膜和/或第二膜混入到胶粘剂组合物或粘合剂组合物中的异物从胶粘剂组合物或粘合剂组合物中除去的异物除去功能的情况下，能够显著减少涂布液中的异物量。由此，能够显著降低在涂布后的第一膜和第二膜的贴合面上存在异物的可能性。

上述制造方法中，优选所述凹版辊的旋转方向与所述第一膜和所述第二膜的行进方向为相反方向。这种情况下，将第一膜的贴合面和第二膜的贴合面上存在的尘埃、灰尘等异物、以及来自于胶粘剂组合物或粘合剂组合物的凝胶状物、凝聚物刮去的效果有效地提高，能够更有效地防止最终得到的光学膜的外观缺陷。

上述凹版辊的表面可形成有各种图案，例如可形成有蜂窝网图案、梯形图案、格子图案、金字塔图案或斜线图案等。为了有效地防止最终得到的光学膜的外观缺陷的产生，优选在上述凹版辊的表面上形成的图案为蜂窝网图案。在蜂窝网图案的情况下，为了提高胶粘剂组合物或粘合剂组合物涂布后的涂布面的面精度，优选单元容积为1～5cm³/m²，更优选为2～3cm³/m²。同样，为了提高胶粘剂组合物或粘合剂组合物涂布后的涂布面的面精度，优选每1英寸辊的单元线数为200～3000线/英寸。另外，优选上述凹版辊的旋转速度与上述第一膜和上述第二膜的行进速度之比为100～300％。

胶粘剂层(或粘合剂层)的厚度、以及光学膜的总厚度越厚，异物越难以辨认，外观缺陷趋向于越不易被视为问题。另一方面，胶粘剂层(或粘合剂层)的厚度越薄、以及光学膜的总厚度越薄，异物越容易辨认，结果，外观缺陷大多成为问题。但是，本发明所涉及的光学膜的制造方法中，能够制造胶粘剂层(或粘合剂层)中的异物产生率极低的光学膜，因此，在光学膜中薄型化的要求特别高的偏振膜的制造方法的情况下，具体而言，在上述第一膜为透明保护膜、上述第二膜为偏振片的情况下，本发明所涉及的制造方法特别有用。本发明所涉及的制造方法即使在如上述偏振片的厚度为10μm以下的情况那样制造特别薄型的偏振膜的情况下，也能够制造在胶粘剂层(或粘合剂层)中由异物或气泡引起的外观缺陷的产生得到防止的薄型偏振膜，因此优选。

另外，本发明涉及通过上述任意一种制造方法制造而成的光学膜、以及特征在于使用了上述记载的光学膜的图像显示装置。

发明效果

本发明所涉及的光学膜的制造方法中，能够将要贴合的两片膜的两个贴合面上存在的异物以及胶粘剂组合物中或粘合剂组合物中存在的异物效率良好地除去，并且能够防止气泡混入胶粘剂层中或粘合剂层中，因此，能够制造由异物和/或气泡引起的外观缺陷的产生得到防止的光学膜。因此，本发明所涉及的光学膜的制造方法作为起因于异物的外观缺陷特别成为问题的胶粘剂层的厚度薄的光学膜、以及总厚度薄的光学膜、特别是薄型偏振膜的制造方法特别有效。

附图说明

图1是本发明所涉及的光学膜的制造方法的概略图的一例。

图2是本发明中使用的作为后计量涂布方式的凹版辊涂布方式的概略图的一例。

具体实施方式

以下参照附图对本发明所涉及的光学膜的制造方法进行说明。

本发明所涉及的光学膜的制造方法具有涂布工序，所述涂布工序中，使用后计量涂布方式，在第一膜的贴合面和第二膜的贴合面这两个面上涂布胶粘剂组合物或粘合剂组合物的同时，将异物除去。

图1示出了本发明所涉及的光学膜的制造方法的概略图的一例，本实施方式中，示出了采用使用了凹版辊的凹版辊涂布方式作为后计量涂布方式来涂布胶粘剂组合物的例子。图1中，将第一膜1在使用凹版辊涂布方式10涂布胶粘剂组合物3的时刻在图1中向右方进行输送，另一方面，凹版涂布方式10所具备的凹版辊沿顺时针方向旋转。即，凹版辊的旋转方向与第一膜1的行进方向为相反方向。同样，对于第二膜2与凹版辊的关系而言，凹版辊的旋转方向与第二膜2的行进方向也为相反方向。这种情况下，能够有效地提高将第一膜1的贴合面和第二膜2的贴合面上存在的尘埃、灰尘等异物、以及来自胶粘剂组合物的凝胶状物或凝聚物刮去的效果，能够更有效地防止最终得到的光学膜的外观缺陷。

为了进一步有效地防止最终得到的光学膜的外观缺陷，优选凹版辊的旋转速度与第一膜1和第二膜2的行进速度之比为100～300％，优选为150～250％。

图2示出了本发明中使用的作为后计量涂布方式的凹版辊涂布方式的概略图的一例，特别地表示出使用凹版涂布方式10在第一膜1上涂布胶粘剂组合物3的情形。如图2所示，在将凹版辊4按压到第一膜1上的同时将异物除去时，能够更有效地将在第一膜1的贴合面上存在的尘埃、灰尘等异物、以及来自胶粘剂组合物的凝胶状物或凝聚物除去。

如图2所示，凹版涂布方式10至少具备凹版辊4。在凹版辊的表面形成有蜂窝网图案、梯形图案、格子图案、金字塔图案或斜线图案等凹凸图案。为了提高胶粘剂组合物或粘合剂组合物涂布后的涂布面的面精度，优选形成蜂窝网图案，优选单元容积为1～5cm³/m²、优选为2～3cm³/m²。同样，为了提高胶粘剂组合物或粘合剂组合物涂布后的涂布面的面精度，优选每1英寸辊的单元线数为200～3000线/英寸。凹版辊4的凹凸图案具有在将胶粘剂组合物(涂布液)3刮起的同时将胶粘剂组合物3涂布到第一膜的贴合面上的功能。本发明中，为了防止异物混入胶粘剂组合物3中，优选胶粘剂涂布液为不暴露于外部大气的密闭体系。

图2所示的例中，在涂布时，有时将第一膜1的贴合面上存在的异物、以及来自胶粘剂组合物3的凝胶状物或凝聚物利用凹版辊4刮去，转移至装有胶粘剂组合物3的容器5内，并再次利用凹版辊4涂布到第一膜的贴合面上。因此，特别是在后计量涂布方式为使胶粘剂组合物或粘合剂组合物循环并进行涂布的方式的情况下，随着胶粘剂组合物3的涂布工序的时间的推移，利用凹版辊4刮去的异物等的蓄积量可能增大。但是，在凹版涂布方式10具有将通过涂布从第一膜和/或第二膜混入到胶粘剂组合物或粘合剂组合物中的异物从胶粘剂组合物或粘合剂组合物中除去的异物除去功能的情况下，所涂布的胶粘剂组合物3中存在的异物等的量总是保持于极微量至零。因此，最终能够极度降低第一膜1的贴合面上的异物等的产生量。本发明中，作为异物除去功能，可以列举过滤器、蒸馏装置、离心分离等。在使用过滤器作为异物除去机构的情况下，如图2所示，例如可以在泵机构8的下游侧配置过滤器7。另外，也可以在泵机构8的上游侧配置过滤器7，其数量没有限制。过滤器7的网孔尺寸可以根据第一膜1和第二膜的材质、胶粘剂组合物3的配合设计等适当变更，但优选为10μm以下，更优选为5μm以下。胶粘剂组合物3可以如图2所示使用槽6等进行循环，也可以将利用凹版辊4涂布后的胶粘剂组合物3废弃。

通过图1所示的后计量涂布方式的涂布方式，在第一膜1的贴合面和第二膜2的贴合面这两个面上涂布胶粘剂组合物3后，使用例如夹持辊9将第一膜1与第二膜2借助胶粘剂组合物(胶粘剂层)进行贴合。

在使用连续生产线制造光学膜的情况下，第一膜和/或第二膜的线速度取决于胶粘剂组合物(或粘合剂组合物)的固化时间，但优选为1～500m/分钟，更优选为5～300m/分钟，进一步优选为10～100m/分钟。线速度过小时，生产率差或者对第一膜/和或第二膜的损伤过大，无法制作能够耐受耐久性试验等的光学膜。线速度过大时，胶粘剂组合物的固化不充分，有时无法得到目标粘接性。

接着，对通过本发明所涉及的制造方法制造的光学膜进行如下说明。该光学膜含有通过胶粘剂层或粘合剂层将至少第一膜和第二膜贴合而成的层叠结构，所述胶粘剂层或粘合剂层包含胶粘剂组合物或粘合剂组合物的固化物层。

<胶粘剂层或粘合剂层>

上述胶粘剂层或粘合剂层只要在光学上是透明的，则没有特别限制，可以使用水性、溶剂性、热熔性、自由基固化型的各种形态的胶粘剂层或粘合剂层。作为光学膜，在制造透明导电性层叠体或偏振膜的情况下，优选透明固化型胶粘剂层。

<透明固化型胶粘剂层>

形成透明固化型胶粘剂层时，作为胶粘剂组合物，例如优选使用自由基固化型胶粘剂。作为自由基固化型胶粘剂，可以例示电子束固化型、紫外线固化型等活性能量射线固化型的胶粘剂。特别优选能够在短时间内固化的活性能量射线固化型胶粘剂，进一步优选能够以低能量固化的紫外线固化型胶粘剂。

作为紫外线固化型胶粘剂，可以大致区分为自由基聚合固化型胶粘剂和阳离子聚合型胶粘剂。此外，自由基聚合固化型胶粘剂可以作为热固型胶粘剂使用。

作为自由基聚合固化型胶粘剂的固化性成分，可以列举具有(甲基)丙烯酰基的化合物、具有乙烯基的化合物。这些固化性成分可以使用单官能或二官能以上的固化性成分中的任意一种。另外，这些固化性成分可以单独使用一种，或者可以组合使用两种以上。作为这些固化性成分，例如优选具有(甲基)丙烯酰基的化合物。

作为具有(甲基)丙烯酰基的化合物，具体而言，例如可以列举：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸叔戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳原子数1-20)烷基酯类。

另外，作为具有(甲基)丙烯酰基的化合物，例如可以列举：(甲基)丙烯酸环烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸环戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸苄酯等)、多环式(甲基)丙烯酸酯(例如，(甲基)丙烯酸-2-异冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-降冰片基甲酯、(甲基)丙烯酸-5-降冰片烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-2-降冰片基甲酯等)、含羟基的(甲基)丙烯酸酯类(例如，(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟丙酯、2,3-二羟丙基甲基-丁基(甲基)丙烯酸酯等)、含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯类((甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯，(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯，(甲基)丙烯酸-2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等)、含环氧基的(甲基)丙烯酸酯类(例如，(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等)、含卤素的(甲基)丙烯酸酯类(例如，(甲基)丙烯酸-2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸-2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷氨基烷基酯(例如，(甲基)丙烯酸二甲氨基乙酯等)等。

另外，作为上述以外的具有(甲基)丙烯酰基的化合物，可以列举羟乙基丙烯酰胺、n-羟甲基丙烯酰胺、n-甲氧基甲基丙烯酰胺、n-乙氧基甲基丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰胺等含酰胺基的单体等。另外，可以列举丙烯酰基吗啉等含氮单体等。

另外，作为上述自由基聚合固化型胶粘剂的固化性成分，可以例示具有多个(甲基)丙烯酰基、乙烯基等聚合性双键的化合物，也可以在胶粘剂成分中混合该化合物作为交联成分。作为成为该交联成分的固化性成分，例如可以列举：三丙二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、环状三羟甲基丙烷缩甲醛丙烯酸酯、二氧杂环己烷二醇二丙烯酸酯、eo改性二甘油四丙烯酸酯、aronixm-220(东亚合成公司制造)、lightacrylatel,9nd-a(共荣社化学公司制造)、lightacrylatedge-4a(共荣社化学公司制造)、lightacrylatedcp-a(共荣社化学公司制造)、sr-531(sartomer公司制造)、cd-536(sartomer公司制造)等。另外根据需要，可以列举各种环氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各种(甲基)丙烯酸酯系单体等。

自由基聚合固化型胶粘剂含有上述固化性成分，除上述成分以外，根据固化的类型添加自由基聚合引发剂。在以电子束固化型使用上述胶粘剂时，上述胶粘剂中不是特别需要含有自由基聚合引发剂，但以紫外线固化型、热固化型使用时，要使用自由基聚合引发剂。自由基聚合引发剂的使用量相对于每100重量份固化性成分通常为约0.1～约10重量份，优选为0.5～3重量份。另外，自由基聚合固化型胶粘剂中也可以根据需要添加以羰基化合物等为代表的提高电子束所致的固化速度、灵敏度的光敏化剂。光敏化剂的使用量相对于每100重量份固化性成分通常为约0.001～约10重量份，优选为0.01～3重量份。

作为阳离子聚合固化型胶粘剂的固化性成分，可以列举具有环氧基或氧杂环丁基的化合物。具有环氧基的化合物只要是在分子内具有至少2个环氧基的化合物则没有特别限定，可以使用一般公知的各种固化性环氧化合物。作为优选的环氧化合物，可以列举：在分子内具有至少2个环氧基和至少1个芳香环的化合物、在分子内具有至少2个环氧基且其中至少1个环氧基形成在构成脂环式环的相邻的2个碳原子之间的化合物等作为例子。

另外，为了形成透明固化型胶粘剂层，作为水性的固化型胶粘剂，例如可以例示乙烯基聚合物类、明胶类、乙烯基塑料类、聚氨酯类、异氰酸酯类、聚酯类、环氧类等。包含这样的水性胶粘剂的胶粘剂层可以制成水溶液的涂布干燥层等来形成，制备该水溶液时，可以根据需要也配合交联剂、其他添加剂、酸等催化剂。

作为上述水性胶粘剂，优选使用含有乙烯基聚合物的胶粘剂等，作为乙烯基聚合物，优选聚乙烯醇系树脂。另外，作为聚乙烯醇系树脂，从提高耐久性的观点出发，更优选含有具有乙酰乙酰基的聚乙烯醇系树脂的胶粘剂。另外，作为可以配合到聚乙烯醇系树脂中的交联剂，可以优选使用具有至少2个与聚乙烯醇系树脂具有反应性的官能团的化合物。例如，可以列举：硼酸或硼砂、羧酸化合物、烷基二胺类；异氰酸酯类；环氧类；一元醛类；二元醛类；氨基-甲醛树脂；以及二价金属或三价金属的盐及其氧化物。

形成上述固化型胶粘剂层的胶粘剂可以根据需要适当含有添加剂。作为添加剂的例子，可以列举：硅烷偶联剂、钛偶联剂等偶联剂、以环氧乙烷为代表的粘接促进剂、用于提高与透明膜的润湿性的添加剂、以丙烯酰氧基化合物、烃系(天然、合成树脂)等为代表的用于提高机械强度、加工性等的添加剂、紫外线吸收剂、抗老化剂、染料、加工助剂、离子捕获剂、抗氧化剂、增粘剂、填充剂(除金属化合物填料以外)、增塑剂、流平剂、发泡抑制剂、防静电剂、耐热稳定剂、耐水解稳定剂等稳定剂等。

另外，上述透明固化型胶粘剂层的厚度优选为0.01～10μm。更优选为0.1～5μm，进一步优选为0.3～4μm。需要说明的是，来自于异物或气泡的外观缺陷在各膜层间的高度通常为(约2～约5μm)数微米，因此，若胶粘剂层的厚度为2μm以下，则外观缺陷的问题变大。但是，本发明所涉及的光学膜的制造方法能够防止外观缺陷的产生，因此，作为胶粘剂层的厚度为2μm以下的光学膜的制造方法特别有用。

上述粘合剂层由粘合剂形成。作为粘合剂，可以使用各种粘合剂，例如，可以选择橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、有机硅系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯基吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂等。根据上述粘合剂的种类来选择粘接性的基础聚合物。上述粘合剂中，从光学透明性优良、显示出适当的润湿性、凝聚性和粘接性等粘合特性且耐候性、耐热性等优良的观点出发，优选使用丙烯酸系粘合剂。

自由基聚合固化型胶粘剂可以以电子束固化型、紫外线固化型的方式使用。

对于电子束固化型而言，电子束的照射条件只要是能够使上述自由基聚合固化型胶粘剂组合物固化的条件，则可以采用任意的适当条件。例如，电子束照射中，加速电压优选为5kv～300kv，进一步优选为10kv～250kv。加速电压低于5kv时，电子束可能无法到达胶粘剂而使固化不充分，加速电压超过300kv时，透过试样的渗透力过强，可能对透明保护膜、偏振片造成损伤。作为照射线量，为5～100kgy，进一步优选为10～75kgy。照射线量少于5kgy时，胶粘剂固化不充分，超过100kgy时，对透明保护膜、偏振片造成损伤，机械强度下降或产生黄变，无法得到预定的光学特性。

电子束照射通常在惰性气体中进行照射，但也可以根据需要在大气中或导入有少量氧气的条件下进行。虽然还取决于透明保护膜的材料，但通过适当导入氧气，在电子束最初接触的透明保护膜面上特意地产生氧抑制，能够防止对透明保护膜的损伤，能够使电子束有效地仅照射到胶粘剂上。

另一方面，对于紫外线固化型而言，在使用赋予了紫外线吸收能力的透明保护膜的情况下，会吸收波长比大约380nm短的光，因此，波长比380nm短的光不到达活性能量射线固化型胶粘剂组合物，因此对该聚合反应没有贡献。此外，被透明保护膜吸收的波长比380nm短的光转变成热，使透明保护膜自身发热，成为偏振膜的弯曲、褶皱等不良的原因。因此，本发明中，在采用紫外线固化型的情况下，作为紫外线发生装置，优选使用不发射波长比380nm短的光的装置，更具体而言，优选波长范围380～440nm的累积照度与波长范围250～370nm的累积照度之比为100:0～100:50，更优选为100:0～100:40。作为满足这样的累积照度的关系的紫外线，优选封有镓的金属卤化物灯、发射波长范围380～440nm的光的led光源。或者，也可以将低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、白炽灯、氙灯、卤素灯、碳弧灯、金属卤化物灯、荧光灯、钨灯、镓灯、准分子激光或太阳光作为光源并用带通滤光片阻断波长比380nm短的光来使用。

第一膜和/或第二膜只要是透明的光学用膜，则可以没有特别限制地使用。如上所述，胶粘剂层(或粘合剂层)的厚度、以及光学膜的总厚度越厚，异物越难以辨认，外观缺陷趋向于越不易被视为问题。另一方面，胶粘剂层(或粘合剂层)的厚度越薄、以及光学膜的总厚度越薄，异物越容易辨认，结果，外观缺陷大多成为问题。但是，本发明所涉及的光学膜的制造方法中，能够制造胶粘剂层(或粘合剂层)中的异物产生率极低的光学膜，因此，在光学膜中薄型化的要求特别高的偏振膜的制造方法的情况下，具体而言，在上述第一膜为透明保护膜、上述第二膜为偏振片的情况下，本发明所涉及的制造方法特别有用。本发明所涉及的制造方法即使在如上述偏振片的厚度为10μm以下的情况那样制造特别薄型的偏振膜的情况下，也能够制造在胶粘剂层(或粘合剂层)中由异物或气泡引起的外观缺陷的产生得到防止的薄型偏振膜，因此优选。

第一膜和/或第二膜在涂布上述活性能量射线固化型胶粘剂组合物之前，可以进行表面改性处理。作为具体的处理，可以列举电晕处理、等离子体处理、利用皂化处理的处理等。

需要说明的是，本发明所涉及的光学膜的制造方法中，第一膜与第二膜优选借助由上述自由基聚合固化型胶粘剂组合物的固化物层形成的胶粘剂层进行贴合，但可以在第一膜与第二膜之间设置易粘接层。易粘接层例如可以由具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚氨酯骨架、有机硅系、聚酰胺骨架、聚酰亚胺骨架、聚乙烯醇骨架等的各种树脂形成。这些聚合物树脂可以单独使用一种，或者可以组合使用两种以上。另外，形成易粘接层时，可以添加其他添加剂。具体而言，可以进一步使用增粘剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、耐热稳定剂等稳定剂等。

易粘接层的形成通过利用公知的技术将易粘接层的形成材料涂布到膜上并干燥来进行。易粘接层的形成材料通常考虑干燥后的厚度、涂布的顺畅性等制成稀释为适当浓度的溶液来制备。易粘接层的干燥后的厚度优选为0.01～5μm，更优选为0.02～2μm，进一步优选为0.05～1μm。需要说明的是，易粘接层可以设置多层，但在这种情况下，也优选易粘接层的总厚度在上述范围内。

以下，作为光学膜，列举偏振膜为例来进行说明。例如，图1中，含有至少将第一膜与第二膜贴合而成的层叠结构的偏振膜可以通过如下方法来制造：作为透明保护膜的第一膜1与在透明保护膜或pet基材等上根据需要借助胶粘剂层层叠有偏振片的层叠第二膜2借助由胶粘剂组合物的固化物层构成的胶粘剂层进行贴合。本实施方式中，示出了将层叠第二膜2的偏振片面作为贴合面、在该贴合面上涂布胶粘剂组合物的例子。

本发明所涉及的制造方法中，能够有效地制造胶粘剂层中的异物产生得到防止的光学膜，因此，适于制造由异物引起的外观缺陷可能成为大问题的、厚度特别薄的光学膜。因此，第一膜和第二膜(本实施方式中，第一膜为保护膜，第二膜为pet基材+偏振片的层叠膜)的厚度优选为60μm以下，更优选为40μm以下。需要说明的是，偏振膜的总厚度为100μm以下时，由于厚度薄，因此由胶粘剂层的异物等引起的外观缺陷大多成为问题。但是，本发明所涉及的制造方法中，能够有效地制造胶粘剂层中的异物产生得到防止的光学膜，因此，适合于制造总厚度为100μm以下的薄型偏振膜的情况、特别是制造总厚度为50μm以下的薄型偏振膜的情况。本发明中，即使在制造薄型偏振膜的情况下、特别是在制造含有厚度为10μm以下的薄型偏振片的薄型偏振膜的情况下，也能够有效地防止外观缺陷的产生。

偏振片没有特别限制，可以使用各种偏振片。作为偏振片，例如可以列举：在聚乙烯醇系膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜上附着碘、二色性染料等二色性材料并进行单轴拉伸而成的偏振片、聚乙烯醇的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向膜等。其中，优选由聚乙烯醇系膜和碘等二色性物质构成的偏振片。这些偏振片的厚度没有特别限制，通常为约80μm以下。

将聚乙烯醇系膜用碘染色并进行单轴拉伸而成的偏振片例如可以通过如下方法来制作：将聚乙烯醇浸渍到碘的水溶液中，由此进行染色，并拉伸至原长度的3～7倍。也可以根据需要浸渍到硼酸、碘化钾等的水溶液中。还可以进一步根据需要在染色之前将聚乙烯醇系膜浸渍到水中进行水洗。通过对聚乙烯醇系膜进行水洗，除了能够清洗聚乙烯醇系膜表面的污垢、防粘结剂以外，还具有通过使聚乙烯醇系膜溶胀而防止染色斑等不均匀的效果。拉伸可以在用碘染色后进行，也可以在染色的同时进行拉伸，另外还可以在拉伸后用碘进行染色。也可以在硼酸、碘化钾等的水溶液中或水浴中进行拉伸。

另外，作为偏振片，可以使用厚度为10μm以下的薄型偏振片。从薄型化的观点出发，优选该厚度为1～7μm。这样的薄型偏振片在厚度不均少、辨认性优良、并且尺寸变化小因而耐久性优良、而且作为偏振膜的厚度也可实现薄型化的方面是优选的。

作为薄型的偏振片，代表性地可以列举日本特开昭51-069644号公报、日本特开2000-338329号公报、wo2010/100917号小册子、pct/jp2010/001460的说明书、或者日本特愿2010-269002号说明书、日本特愿2010-263692号说明书中记载的薄型偏振片。这些薄型偏振片可以通过包括将聚乙烯醇系树脂(以下也称为pva系树脂)层和拉伸用树脂基材以层叠体的状态进行拉伸的工序以及染色的工序的制造方法来得到。若为该制造方法，则即使pva系树脂层薄，也能够通过由拉伸用树脂基材支撑而在不发生由拉伸所致的断裂等不良情况的情况下进行拉伸。

作为上述薄型偏振片，在包括以层叠体的状态进行拉伸的工序和染色的工序的制造方法中，从能够以高倍率进行拉伸且能够提高偏振性能的观点出发，优选通过wo2010/100917号小册子、pct/jp2010/001460的说明书、或者日本特愿2010-269002号说明书、日本特愿2010-263692号说明书中记载的、包括在硼酸水溶液中拉伸的工序的制造方法得到的偏振片，特别优选通过日本特愿2010-269002号说明书、日本特愿2010-263692号说明书中记载的包括在硼酸水溶液中拉伸之前辅助性地进行空中拉伸的工序的制造方法得到的偏振片。

上述的pct/jp2010/001460的说明书中记载的薄型高功能偏振片是在树脂基材上一体成膜的、包含使二色性物质进行了取向的pva系树脂的、厚度为7μm以下的薄型高功能偏振片，具有单体透射率为42.0％以上和偏振度为99.95％以上的光学特性。

上述薄型高功能偏振片可以通过如下方法来制造：在至少具有20μm厚度的树脂基材上通过pva系树脂的涂布和干燥形成pva系树脂层，将所形成的pva系树脂层浸渍到二色性物质的染色液中，使二色性物质吸附到pva系树脂层中，将吸附有二色性物质的pva系树脂层在硼酸水溶液中以总拉伸倍率达到原长度的5倍以上的方式与树脂基材一体拉伸。

另外，可以通过如下方法来制造上述薄型高功能偏振片，该方法为制造包含使二色性物质进行了取向的薄型高功能偏振片的层叠体膜的方法，其中包括如下工序：形成层叠体膜的工序，该层叠体膜包含至少具有20μm厚度的树脂基材和通过在树脂基材的单面上涂布含有pva系树脂的水溶液并干燥而形成的pva系树脂层；通过将包含树脂基材和形成在树脂基材的单面上的pva系树脂层的上述层叠体膜浸渍到含有二色性物质的染色液中而使二色性物质附着到层叠体膜中含有的pva系树脂层中的工序；将包含吸附有二色性物质的pva系树脂层的上述层叠体膜在硼酸水溶液中以总拉伸倍率达到原长度的5倍以上的方式进行拉伸的工序；以及通过将吸附有二色性物质的pva系树脂层与树脂基材一体拉伸而制造在树脂基材的单面上形成有薄型高功能偏振片的层叠体膜的工序，该薄型高功能偏振片包含使二色性物质进行了取向的pva系树脂层，厚度为7μm以下，具有单体透射率为42.0％以上且偏振度为99.95％以上的光学特性。

上述的日本特愿2010-269002号说明书、日本特愿2010-263692号说明书薄型偏振片为包含使二色性物质进行了取向的pva系树脂的连续带状偏振片，其为通过将包含形成在非晶性酯系热塑性树脂基材上的pva系树脂层的层叠体在由空中辅助拉伸和硼酸水中拉伸构成的两步拉伸工序中进行拉伸而使厚度为10μm以下的薄型偏振片。该薄型偏振片优选为在将单体透射率设为t、将偏振度设为p时具有满足p>-(100.929t-42.4-1)×100(其中，t<42.3)和p≥99.9(其中，t≥42.3)的条件的光学特性的薄型偏振片。

具体而言，上述薄型偏振片可以通过如下薄型偏振片的制造方法来制造，该方法包括如下工序：形成拉伸中间产物的工序，该拉伸中间产物包含通过对形成在连续带状非晶性酯系热塑性树脂基材上的pva系树脂层进行空中高温拉伸而进行了取向的pva系树脂层；形成着色中间产物的工序，该着色中间产物包含通过二色性物质对拉伸中间产物的吸附而使二色性物质(优选碘或者碘与有机染料的混合物)进行了取向的pva系树脂层；以及形成厚度为10μm以下的偏振片的工序，该偏振片包含通过对着色中间产物进行硼酸水中拉伸而使二色性物质进行了取向的pva系树脂层。

该制造方法中，优选由空中高温拉伸和硼酸水中拉伸所致的形成在非晶性酯系热塑性树脂基材上的pva系树脂层的总拉伸倍率为5倍以上。用于硼酸水中拉伸的硼酸水溶液的液温可以设定为60℃以上。在硼酸水溶液中对着色中间产物进行拉伸之前，优选对着色中间产物实施不溶化处理，这种情况下，优选通过将上述着色中间产物浸渍到液温不超过40℃的硼酸水溶液中来进行。上述非晶性酯系热塑性树脂基材可以为含有共聚有间苯二甲酸的共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯、共聚有环己烷二甲醇的共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯或其他共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯的非晶性聚对苯二甲酸乙二醇酯，优选为包含透明树脂的基材，其厚度可以设定为所形成的pva系树脂层的厚度的7倍以上。另外，空中高温拉伸的拉伸倍率优选为3.5倍以下，空中高温拉伸的拉伸温度优选为pva系树脂的玻璃化转变温度以上，具体而言优选为95℃～150℃的范围。在以自由端单轴拉伸进行空中高温拉伸的情况下，形成在非晶性酯系热塑性树脂基材上的pva系树脂层的总拉伸倍率优选为5倍以上且7.5倍以下。另外，在以固定端单轴拉伸进行空中高温拉伸的情况下，形成在非晶性酯系热塑性树脂基材上的pva系树脂层的总拉伸倍率优选为5倍以上且8.5倍以下。

更具体而言，可以通过如下方法来制造薄型偏振片。

制作共聚有6mol％间苯二甲酸的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯(非晶性pet)的连续带状基材。非晶性pet的玻璃化转变温度为75℃。如下制作包含连续带状非晶性pet基材和聚乙烯醇(pva)层的层叠体。顺便说明，pva的玻璃化转变温度为80℃。

准备200μm厚的非晶性pet基材以及将聚合度1000以上、皂化度99％以上的pva粉末溶解于水而成的4～5％浓度的pva水溶液。接着，在200μm厚的非晶性pet基材上涂布pva水溶液，在50～60℃的温度下干燥，得到在非晶性pet基材上形成有7μm厚的pva层的层叠体。

将包含7μm厚的pva层的层叠体经过包括空中辅助拉伸和硼酸水中拉伸这两步拉伸工序的如下工序制造成3μm厚的薄型高功能偏振片。通过第一步的空中辅助拉伸工序，将包含7μm厚的pva层的层叠体与非晶性pet基材一体拉伸，形成包含5μm厚的pva层的拉伸层叠体。具体而言，该拉伸层叠体为将包含7μm厚的pva层的层叠体设置到配备在设定于130℃的拉伸温度环境的烘箱中的拉伸装置上、以拉伸倍率达到1.8倍的方式进行自由端单轴拉伸而成的拉伸层叠体。通过该拉伸处理，使拉伸层叠体中含有的pva层变为pva分子进行了取向的5μm厚的pva层。

接着，通过染色工序形成在pva分子进行了取向的5μm厚的pva层中吸附有碘的着色层叠体。具体而言，该着色层叠体为如下得到的着色层叠体：将拉伸层叠体在液温30℃的含有碘和碘化钾的染色液中以使构成最终形成的高功能偏振片的pva层的单体透射率达到40～44％的方式浸渍任意的时间，由此，使碘吸附到拉伸层叠体所含有的pva层中。本工序中，染色液以水作为溶剂，使碘浓度在0.12～0.30重量％的范围内，使碘化钾浓度在0.7～2.1重量％的范围内。碘与碘化钾的浓度比为1:7。顺便说明，为了将碘溶解于水，需要碘化钾。更详细而言，通过将拉伸层叠体在碘浓度0.30重量％、碘化钾浓度2.1重量％的染色液中浸渍60秒钟，形成在pva分子进行了取向的5μm厚的pva层中吸附有碘的着色层叠体。

进而，通过第二步的硼酸水中拉伸工序，将着色层叠体与非晶性pet基材进一步一体拉伸，形成包含构成3μm厚的高功能偏振片的pva层的光学膜层叠体。具体而言，该光学膜层叠体为将着色层叠体设置到配备在设定于含有硼酸和碘化钾的液温范围60～85℃的硼酸水溶液中的处理装置中的拉伸装置上、以使拉伸倍率达到3.3倍的方式进行自由端单轴拉伸而成的光学膜层叠体。更详细而言，硼酸水溶液的液温为65℃。另外，使硼酸含量相对于水100重量份为4重量份，使碘化钾含量相对于水100重量份为5重量份。本工序中，将调节了碘吸附量的着色层叠体首先在硼酸水溶液中浸渍5～10秒钟。然后，使该着色层叠体直接从作为配置在处理装置中的拉伸装置的周速不同的多组辊间通过，用30～90秒以使拉伸倍率达到3.3倍的方式进行自由端单轴拉伸。通过该拉伸处理，使着色层叠体中含有的pva层变为所吸附的碘以多碘离子络合物的形式在一个方向上进行了高维取向的3μm厚的pva层。该pva层构成光学膜层叠体的高功能偏振片。

虽然并非光学膜层叠体的制造中必需的工序，但优选通过清洗工序将光学膜层叠体从硼酸水溶液中取出，将附着于形成在非晶性pet基材上的3μm厚的pva层的表面的硼酸用碘化钾水溶液进行清洗。然后，将清洗后的光学膜层叠体通过利用60℃的热风的干燥工序进行干燥。需要说明的是，清洗工序为用于消除硼酸析出等外观缺陷的工序。

虽然同样并非光学膜层叠体的制造中必需的工序，但也可以通过贴合和/或转印工序，在形成于非晶性pet基材上的3μm厚的pva层的表面涂布胶粘剂的同时贴合80μm厚的三乙酰纤维素膜，然后，将非晶性pet基材剥离，将3μm厚的pva层转印到80μm厚的三乙酰纤维素膜上。

[其他工序]

上述的薄型偏振片的制造方法除了上述工序以外，可以含有其他工序。作为其他工序，例如可以列举不溶化工序、交联工序、干燥(水分率的调节)工序等。其他工序可以在任意适当的时机进行。上述不溶化工序代表性地通过将pva系树脂层浸渍到硼酸水溶液中来进行。通过实施不溶化处理，能够对pva系树脂层赋予耐水性。该硼酸水溶液的浓度相对于水100重量份优选为1重量份～4重量份。不溶化浴(硼酸水溶液)的液温优选为20℃～50℃。优选不溶化工序在层叠体制作后且在染色工序、水中拉伸工序之前进行。上述交联工序代表性地通过将pva系树脂层浸渍到硼酸水溶液中来进行。通过实施交联处理，能够对pva系树脂层赋予耐水性。该硼酸水溶液的浓度相对于水100重量份优选为1重量份～4重量份。另外，在上述染色工序后进行交联工序的情况下，优选进一步配合碘化物。通过配合碘化物，能够抑制吸附在pva系树脂层中的碘的溶出。碘化物的配合量相对于水100重量份优选为1重量份～5重量份。碘化物的具体例如上所述。交联浴(硼酸水溶液)的液温优选为20℃～50℃。优选交联工序在上述第二硼酸水中拉伸工序之前进行。在优选的实施方式中，依次进行染色工序、交联工序和第二硼酸水中拉伸工序。

作为形成设置在上述偏振片的单面或两面的透明保护膜的材料，优选透明性、机械强度、热稳定性、水分隔绝性、各向同性等优良的材料。例如可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物、二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物(as树脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。另外，还可以列举聚乙烯、聚丙烯、环系或具有降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物、酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯醇缩丁醛系聚合物、烯丙酯系聚合物、聚氧亚甲基系聚合物、环氧系聚合物或者上述聚合物的混合物等作为形成上述透明保护膜的聚合物的例子。透明保护膜中可以含有一种以上的任意适当的添加剂。作为添加剂，例如可以列举紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、防静电剂、颜料、着色剂等。透明保护膜中的上述热塑性树脂的含量优选为50～100重量％，更优选为50～99重量％，进一步优选为60～98重量％，特别优选为70～97重量％。透明保护膜中的上述热塑性树脂的含量为50重量％以下时，热塑性树脂可能无法充分表现本来所具有的高透明性等。

另外，作为透明保护膜，可以列举日本特开2001-343529号公报(wo01/37007)中记载的聚合物膜，例如，含有(a)在侧链中具有取代和/或无取代酰亚胺基的热塑性树脂、以及(b)在侧链中具有取代和/或无取代苯基以及腈基的热塑性树脂的树脂组合物。作为具体例，可以列举含有由异丁烯和n-甲基马来酰亚胺构成的交替共聚物以及丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物的膜。膜可以使用包含树脂组合物的混合挤出品等的膜。这些膜的相位差小、光弹性系数小，因此能够消除由偏振膜的应变引起的不均等不良情况，并且透湿度小，因此加湿耐久性优良。

透明保护膜的厚度可以适当确定，从强度、处理性等操作性、薄层性等观点出发，通常为约1～约500μm。特别优选为20～80μm，更优选为30～60μm。

需要说明的是，在偏振片的两面设置透明保护膜的情况下，可以在其表面和背面使用包含相同的聚合物材料的透明保护膜，也可以使用包含不同的聚合物材料等的透明保护膜。

在上述透明保护膜的不粘接偏振片的表面，可以设置硬涂层、防反射层、防粘层、扩散层或防眩层等功能层。需要说明的是，上述硬涂层、防反射层、防粘层、扩散层、防眩层等功能层除了可以设置在透明保护膜本身之上以外，也可以另外作为独立于透明保护膜之外的层来设置。

本发明的偏振膜在实际使用时可以作为与其他光学层层叠而成的光学膜来使用。对于该光学层没有特别限定，例如可以使用一层或两层以上的反射板、半透射板、相位差板(包括1/2、1/4等波长板)、视角补偿膜等有时在液晶显示装置等的形成中使用的光学层。特别优选在本发明的偏振膜上进一步层叠反射板或半透射反射板而成的反射型偏振膜或半透射型偏振膜、在偏振膜上进一步层叠相位差板而成的椭圆偏振膜或圆偏振膜、在偏振膜上进一步层叠视角补偿膜而成的广视角偏振膜、或者在偏振膜上进一步层叠亮度提高膜而成的偏振膜。

在偏振膜上进一步层叠有上述光学层的光学膜也可以通过在液晶显示装置等的制造过程中依次单个层叠的方式来形成，但预先层叠而制成光学膜所得到的制品具有如下优点：品质的稳定性、组装操作等优良，能够改善液晶显示装置等的制造工序。层叠可以使用粘合剂层等适当的粘接手段。上述的偏振膜或其他光学膜的粘接时，这些膜的光学轴可以根据作为目标的相位差特性等设定为适当的配置角度。

在上述的偏振膜或至少层叠有一层偏振膜的光学膜中，可以设置用于与液晶单元等其他构件粘接的粘合剂层。形成粘合剂层的粘合剂没有特别限制，例如可以适当选择使用以丙烯酸系聚合物、有机硅系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟系或橡胶系等的聚合物作为基础聚合物的粘合剂。特别是可以优选使用如丙烯酸系粘合剂这样光学透明性优良、显示出适度的润湿性、凝聚性和粘接性等粘合特性且耐候性、耐热性等优良的粘合剂。

粘合剂层也可以作为不同组成或种类等的层的重叠层设置在偏振膜、光学膜的单面或两面。另外，在设置于两面的情况下，也可以在偏振膜、光学膜的表面和背面形成不同组成、种类、厚度等的粘合剂层。粘合剂层的厚度可以根据使用目的、粘接力等来适当确定，通常为1～500μm，优选为1～200μm，特别优选为1～100μm。

对于粘合剂层的露出面，在直至供于实际使用为止的期间，为了防止其污染等，暂时粘接隔片来进行保护。由此，能够防止在通常的处理状态下与粘合剂层接触。作为隔片，除了上述厚度条件以外，例如可以使用将塑料膜、橡胶片、纸、布、无纺布、网、发泡片或金属箔、它们的层叠体等适当的薄片体根据需要使用有机硅系或长链烷基系、氟系或硫化钼等适当的剥离剂进行涂布处理而得到的隔片等以往所用的适当的隔片。

本发明的偏振膜或光学膜可以优选用于液晶显示装置等各种装置的形成等。液晶显示装置的形成可以按照以往来进行。即，液晶显示装置通常通过将液晶单元与偏振膜或光学膜以及根据需要使用的照明系统等构成部件适当组装并嵌入驱动电路等来形成，本发明中，除了使用本发明的偏振膜或光学膜这一点以外，没有特别限定，可以按照以往来进行。关于液晶单元，例如可以使用tn型、stn型、π型等任意类型的液晶单元。

可以形成在液晶单元的单侧或两侧配置有偏振膜或光学膜的液晶显示装置、使用背光源或反射板作为照明系统的液晶显示装置等适当的液晶显示装置。这种情况下，本发明的偏振膜或光学膜可以设置在液晶单元的单侧或两侧。在将偏振膜或光学膜设置于两侧的情况下，它们可以为相同的偏振膜或光学膜，也可以为不同的偏振膜或光学膜。此外，在液晶显示装置的形成时，例如可以在适当的位置配置一层或两层以上的扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列片、光扩散板、背光源等适当的部件。

实施例

以下记载本发明的实施例，但本发明的实施方式不限定于这些实施例。需要说明的是，组合物中的“重量份”表示将组合物的总量作为100重量份时的份数。

(1)胶粘剂组合物的制备

<活性能量射线固化型胶粘剂组合物的制备>

将heaa(羟乙基丙烯酰胺)[兴人公司制造]38.5重量份、aronixm-220(三丙二醇二丙烯酸酯)[东亚合成公司制造]20.0重量份、acmo(丙烯酰吗啉)[兴人公司制造]38.5重量份、kayacuredetx-s(二乙基噻吨酮)[日本化药公司制造]1.5重量份、irgacure907(2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮)[basf公司制造]1.5重量份混合，在50℃下搅拌1小时，得到活性能量射线固化型胶粘剂。

<聚乙烯醇系胶粘剂组合物的制备>

将含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇系树脂(平均聚合度：1200，皂化度：98.5摩尔％，乙酰乙酰化度：5摩尔％)100份、羟甲基三聚氰胺50份在30℃的温度条件下溶解于纯水中，制备固体成分浓度为3.7％的水溶液。在上述水溶液100份中加入氧化铝胶体水溶液(平均粒径15nm、固体成分浓度10％、正电荷)18份，制备胶粘剂水溶液。

<有机溶剂系胶粘剂组合物>

使用cemedine198l(cemedine公司制造)。

(2)薄型偏振片的制作

为了制作薄型偏振片，首先，将在非晶性pet基材上形成有24μm厚的pva层的层叠体通过拉伸温度为130℃的空中辅助拉伸形成拉伸层叠体，接着，通过染色将拉伸层叠体形成着色层叠体，进而，将着色层叠体通过拉伸温度为65度的硼酸水中拉伸以使总拉伸倍率达到5.94倍的方式形成与非晶性pet基材一体拉伸而成的含有10μm厚的pva层的光学膜层叠体。通过这样的两步拉伸，可以形成如下光学膜层叠体(第二膜(总厚度40μm))，该光学膜层叠体含有厚度为5μm的pva层，该pva层构成在非晶性pet基材上的pva层的pva分子进行了高维取向、通过染色而吸附的碘以多碘离子络合物的形式在一个方向上进行了高维取向的薄型偏振片。

作为第一膜，使用了包含具有内酯环结构的(甲基)丙稀酸类树脂的透明保护膜(厚度40μm)。

实施例1

在图1、2所示的生产线中，使用具备凹版辊4的凹版辊涂布方式10(mcd涂布机(富士机械公司制造)(单元形状：蜂窝网图案，凹版辊的单元线数：1000条/英寸，旋转速度比140％)，在第一膜1的贴合面和第二膜2的贴合面这两个面上涂布胶粘剂组合物3，由此，在除去异物和气泡的同时制造偏振膜。对于由pet基材和薄型偏振片构成的第二膜2，以薄型偏振片面为贴合面的方式涂布胶粘剂组合物3。需要说明的是，胶粘剂组合物3以干燥后的胶粘剂层的厚度为1μm的方式涂布到第一膜和第二膜上。作为凹版辊涂布方式10，使用图2所示的具有异物除去功能(使用过滤器的异物除去方法)的凹版辊涂布方式。

<活性能量射线>

在通过图1所示的生产线后，使用作为活性能量射线的紫外线(封有镓的金属卤化物灯)照射装置：fusionuvsystems公司制造的lighthammer10、灯泡：v灯泡、峰照度：1600mw/cm²、累积照射量：1000/mj/cm²(波长380～440nm)使胶粘剂组合物3固化，制造光学膜。需要说明的是，紫外线的照度使用solatell公司制造的sola-check系统来测定。

实施例2～9、比较例1～6

除了将用于贴合第一膜与第二膜的胶粘剂组合物的种类、有无对第一膜和/或第二膜涂布胶粘剂组合物、后计量涂布方式的种类、凹版辊表面的形成图案变更为表1的记载以外，通过与实施例1同样的方法制造光学膜。在刮棒涂布机涂布方式和气刀涂布方式中，各自使用市售的涂布装置。

<胶粘剂层中的异物数的计数方法>

通过使用目视检查和自动检查装置的反射检查，计数偏振膜的胶粘剂层中的外观缺陷数(来自于异物和来自于(贴合)气泡的外观缺陷数(个/m²))。将结果示于表1。

表1