技术总结
本实用新型公开了一种γ补偿电离室用密封件，解决了现有的γ补偿电离室中，密封件引线电缆与外部信号电缆之间的连接处，在振动与冲击状态过程中容易出现连接不可靠的情况发生的问题。本实用新型包括基座本体，所述基座本体上包括有一个以上的沉孔，设置在基座本体一周分别与电缆引线端和电离室工作腔体密封焊接的第一凸台和第二凸台，以及用于安装排气管的通孔；每个沉孔上均安装有一个引线部件；所述基座本体上还设置有一个以上用于安装电缆固定杆的安装槽。本实用新型可以有效提高密封件引线电缆与外部信号电缆之间的连接稳定性，且不会影响密封件的密封效果。
技术研发人员：武文超;邹德光;蒋波;吴瑞;偶建磊;李普;葛源;周治江;李林洪;邓伟杰
受保护的技术使用者：中国核动力研究设计院
技术研发日：2018.07.27
技术公布日：2019.01.15