一种光学革的制作方法

文档序号:23957101发布日期:2021-02-18 20:32阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种光学革,其特征在于,其包括:基层,单层或复合层;压纹革层,设置于所述基层的一侧,所述压纹革层远离所述基层的一侧设置有皮质纹理结构,所述压纹革层的厚度不小于50μm;微纳结构层,设置于所述基层的另一侧,所述微纳结构层远离所述基层的一侧设置有复数凸起和/或凹陷的微纳结构;镀膜层,形成于所述微纳结构上;着色层,形成于所述镀膜层背离所述微纳结构层的一侧。2.根据权利要求1所述光学革,其特征在于,所述压纹革层包括pu层、pvc层或tpu层。3.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述压纹革层呈有色或无色透明状,其透过率大于30%。4.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,在所述镀膜层背离所述微纳结构层的一侧设有油墨以形成所述着色层。5.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述微纳结构层包括采用有色固化胶或无色固化胶成型的复数所述微纳结构。6.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述微纳结构为柱面镜、cd纹、小短线、拉丝纹、菲涅尔透镜或微透镜,所述微纳结构呈现随视觉变化的光影条纹。7.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述镀膜层为单层或2-8层的多层复合。8.根据权利要求7所述的光学革,其特征在于,所述镀膜层中的至少一层的厚度和/或各区域的材质变化设置,所述镀膜层呈现变化的颜色。9.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述光学革还包括耐磨层,所述压纹革层设置所述耐磨层和基层之间。10.根据权利要求1所述的光学革,其特征在于,所述压纹革层具有支架层,所述支架层为塑料支架、玻璃支架或金属支架,所述支架层为网格状支架或板状支架;或者,所述光学革具有承载层,所述承载层为塑料层、金属层、玻璃层或布层。
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