技术总结
本实用新型揭示一种光学革，其包括：基层，单层或复合层；压纹革层，设置于所述基层的一侧，所述压纹革层远离所述基层的一侧设置有皮质纹理结构，所述压纹革层的厚度不小于50μm；微纳结构层，设置于所述基层的另一侧，所述微纳结构层远离所述基层的一侧设置有复数凸起和/或凹陷的微纳结构；镀膜层，形成于所述微纳结构上；着色层，形成于所述镀膜层背离所述微纳结构层的一侧。光学层的光学效果可使压纹革层的皮质更加亮丽，颜色更加明亮，或者呈现随视觉变化的光影条纹，从而光学革呈现的皮质视感更为出众。感更为出众。感更为出众。
技术研发人员：洪莘 刘立冬 高育龙
受保护的技术使用者：昇印光电（昆山）股份有限公司
技术研发日：2020.05.18
技术公布日：2021/2/18