转印膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及具有硬涂层的转印膜。
【背景技术】
[0002] -直以来，在主要对塑料成型物的加饰方法中，作为涂饰等直接的加饰方法的代 替法，应用使用了转印膜的热转印法。对这种转印膜的大多数要求以塑料成型物的表面保 护为目的的硬涂功能。例如，上述那样的转印膜一般来说采用在基材膜的一个面上依次层 叠脱模层、硬涂层、加饰层、粘接层而成的构成。
[0003] 这里，对脱模层要求在对塑料成型物等被转印体上进行热转印时赋予自硬涂层的 良好剥离性的功能。另外，对加饰层要求符合要求的设计性，对粘接层要求对被转印体的牢 固的粘接性。
[0004] 作为使用上述转印膜热转印至被转印体上的方法，例如有与注塑成型同时地转印 硬涂层/加饰层/粘接层的方法；利用热轧辊的热压将硬涂层/加饰层/粘接层转印至被 转印体上的方法；利用真空或压缩空气或加热机转印至被转印体上的方法等。
[0005] 作为这种对转印膜要求硬涂功能的被转印体，例如多为以聚碳酸酯树脂为代表的 柔软的塑料成型物。一般来说，作为构成上述呈现硬涂功能的硬涂层的材料，可举出热塑丙 烯酸树脂、2组分固化性丙烯酸树脂、紫外线固化型树脂等，特别是多使用耐擦伤性、耐化学 试剂性等优异的紫外线固化型树脂。
[0006] 如上所述，转印膜多数采用在基材膜的一个面上依次层叠脱模层、硬涂层、加饰 层、粘接层而成的构成。对于在基材膜上形成为第一层的脱模层，除了要求上述的自硬涂层 的良好剥离性之外，还要求在形成硬涂层时的涂布液涂饰时不会发生涂布液（油墨）的涂 膜凹陷（再涂性）、具有可耐受转印时的热的耐热性、与基材膜或基底的密合性强、以及可 以追随被转印物的形状（延伸性）。
[0007] 作为构成脱模层的材料，有多用于胶带的脱模剂的有机硅或氟树脂等。但是，这些 材料具有在涂饰形成于脱模层上的硬涂层形成用涂布液时易于发生涂膜凹陷的问题。
[0008] 作为上述问题的解决对策，多在脱模层中使用三聚氰胺树脂、特别是丙烯酸三聚 氰胺树脂（例如参照专利文献1、专利文献2)。
[0009] 但是，上述的三聚氰胺树脂具有在制造工序中产生有害的甲醛、该甲醛大量残留 于三聚氰胺固化物及涂布液干燥装置内的问题。另外，根据国际癌症研宄机关的报告，该 甲醛列举在可确认对人类的致癌性的第一梯队中，进而其是导致病屋症候群的物质也是问 题。
[0010] 另一方面，在购入制品的原材料、零件或器材时，制定选择环境负荷小的物质进行 采购的绿色采购标准的企业增多。该绿色采购标准中列举出不含甲醛的情况很多，因此处 理含有甲醛的三聚氰胺材料变得困难。
[0011]另外，由于三聚氰胺树脂是热固化树脂，因此在转印膜的制造工序中所谓的烘烤 工序变得必要，例如需要在180~200°C的烘箱中进行30秒~1分钟左右的加热。因而，基 材膜需要可耐受该加热温度，薄的基材或不耐热的基材不适于基材膜。
[0012] 另一方面，作为能够在低于三聚氰胺树脂的温度下形成的脱模层，还提出了使用 以聚乙烯蜡为主成分的涂布液的方法。具体地说是在涂布该涂布液之后进行加热、使该涂 布液流平来形成脱模层的方法。但是，该方法也具有脱模层因转印时所施加的温度而被破 坏、结果变得转印不良（外观不良）的问题。
[0013] 现有技术文献
[0014] 专利文献
[0015] 专利文献1 :日本专利第2538479号公报
[0016] 专利文献2 :日本特开2009-137219号公报
【发明内容】
[0017] 发明要解决的技术问题
[0018] 本发明想要解决上述问题，其目的在于提供环境负荷（人的负荷）少、能够低温加 工、对被转印体（主要是塑料成型物）赋予优异的硬涂功能的转印膜。
[0019] 用于解决技术问题的方法
[0020] 用于解决上述课题的本发明的一个方式为一种转印膜，其特征在于，其是在基材 膜的一个面上至少依次层叠脱模层、硬涂层、粘接层而成的转印膜，其中，用具有碳数为10 以上且30以下的长链烷基的丙烯酸聚氨酯树脂形成所述脱模层。
[0021] 另外，上述转印膜中，可以由至少丙烯酸多元醇树脂、具有羟基及碳数为10以上 且30以下的长链烷基的丙烯酸树脂、以及异氰酸酯化合物的交联反应生成所述丙烯酸聚 氨酯树脂。
[0022] 另外，上述转印膜中，可以在所述脱模层中含有具有羟基的纤维素衍生物。
[0023] 另外，上述转印膜中，可以在所述脱模层中含有具有羟基的丙烯酸有机硅树脂。
[0024] 另外，上述转印膜中，可以在所述基材膜与所述脱模层之间设置锚定层。
[0025] 另外，上述转印膜中，可以使所述锚定层的靠所述脱模层侧的面的形状为凹凸形 状。
[0026] 发明效果
[0027] 根据本发明的一个方式的转印膜，脱模层由具有碳数为10以上且30以下的长链 烷基的丙烯酸聚氨酯树脂形成。因此，热转印时呈现优异的脱模性，且不会引起涂布于脱模 层上的硬涂层用涂布液的涂膜凹陷现象，可以形成均匀的硬涂层。
[0028] 另外，在上述转印膜中，当脱模层中使用由至少丙烯酸多元醇树脂、具有羟基及碳 数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸树脂、以及异氰酸酯化合物的交联反应所生成 的丙烯酸聚氨酯树脂时，在室温~50°C左右的低温下，固化反应结束。因此，可以制作对基 材膜的热负荷少的脱模层。
[0029] 另外，上述转印膜中，当脱模层含有具有羟基的纤维素衍生物时，即便实施与注塑 成型同时地进行转印的模内转印、即要求高温下的耐热性的模内转印时，由于存在具有羟 基的纤维素衍生物，耐热性也会提高。因此，可以抑制热皱褶或结块。
[0030] 另外，上述的转印膜中，当脱模层含有具有羟基的丙烯酸有机硅树脂时，可以呈现 还能够足以对应热转印的高速化的脱模性。
[0031] 另外，上述的转印膜中，当在基材膜与脱模层之间设置有锚定层时，可以提高基材 膜与脱模层的密合性，且通过使脱模层的表面变得平滑，可对被转印体的表面赋予光泽。
[0032] 另外，上述的转印膜中，当使锚定层的表面为凹凸形状时，可以对被转印体的表面 赋予设计性。
[0033] 如上所述，根据本发明一个方式的转印膜，可以提供环境负荷（人的负荷）少、能 够低温加工、对被转印体（主要是塑料成型物）赋予优异的硬涂功能和设计性的转印膜。
【附图说明】
[0034] 图1为表示本发明的转印膜的一个实施方式的截面概略图。
[0035] 图2为利用图1的转印膜转印于成型物之后的截面概略图。
[0036] 图3为表示本发明的转印膜的一个实施方式（无光泽式）的截面概略图。
[0037] 图4为利用图3的转印膜转印于成型物之后的截面概略图。
【具体实施方式】
[0038] 以下一边参照附图一边详细地说明本发明的实施方式。另外，各图中发挥相同或 类似功能的构成要素带有相同的参照符号，并省略重复的说明。
[0039] 图1是表示本发明的转印膜的一个实施方式的截面概略图。本实施方式的转印膜 是依次具备基材膜1、脱模层2、硬涂层3、底涂层4、加饰（印刷）层5 (以下仅记为"加饰层 5")、粘接层6的层叠体。这里，通常加饰层5多为多个层，还可施加压花加工或添加珠光颜 料等具有光学效果的加饰材料。
[0040] 另外，虽然附图中没有明确记载，但可以在基材膜1的与形成有脱模层2的面相反 侧的面上形成防静电层。通过形成该防静电层，有时可以减少异物附着在转印膜上、收率变 好（换而言之，不合格产品的发生率降低）。作为该防静电层中能够使用的防静电剂，例如 可举出聚噻吩或PEDOT等导电性高分子或者含季铵盐的聚合物、溶胶-凝胶反应物的涂覆 剂。
[0041] 图2表示使用图1的转印膜转印至作为被转印体的成型物7上之后的截面概略 图。
[0042] 图3是表示本发明的转印膜的一个实施方式（无光泽式）的截面概略图。无光泽 式的转印膜是依次具备基材膜1、锚定兼设计层9 (以下仅记为"锚定层9")、脱模层2、硬涂 层3、底涂层4、加饰层5、粘接层6的层叠体。这里，锚定层9是在其表面上形成有微细的凹 凸、呈现无光泽式的外观的层。另外，虽未图示出，但在使转印物为发丝纹（表面拉丝）式 时，通过使该锚定层9为发丝纹式，可以制成发丝纹转印膜。
[0043] 图4表示使用图3的转印膜转印至作为被转印体的成型物7之后的截面概略图。
[0044] 以下，对本实施方式的转印膜所具备的上述各层进行说明。
[0045] (基材膜1)
[0046] 作为基材膜1，例如可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜、 聚丙烯膜、聚乙烯膜、三醋酸纤维素膜、聚碳酸酯膜、尼龙膜、赛璐玢膜、丙烯酸膜、氯乙烯膜 等基材。能够使用的膜的厚度优选为25 μ m以上且250 μ m以下的范围内、特别优选为38 μ m 以上且150 μ m以下的范围内。
[0047] (脱模层2)
[0048] 脱模层2是由具有碳数为10以上且30以下的长链烷基的丙烯酸聚氨酯树脂形成 的层。用于形成该脱模层2的涂布液组合物中含有具有碳数为10以上