本发明涉及茶树种植技术领域，特别是涉及一种梨树与茶叶套种的方法。
背景技术：
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现有的茶树种植包括主种和套种，采用套种可以更有效地利用土地资源，提高综合效益，目前在全国已有一定的推广，茶树和梨树套种具有以下特点：1、套种可充分利用阳光和土地资源，实现以梨养茶、以茶促梨，茶树于春季采摘后进入生长旺盛季，强烈的阳光反而对茶树的生长有影响，此时梨树的树荫起到这样作用，而渐入冬季茶树需通过充足的光合作用积累养分，以保证茶树安全过冬，此时梨树开始落叶，保证了光照。2、梨树的芬芳会创造良好的生物条件，吸引昆虫、蜜蜂和鸟类等，丰富了园地环境，而且梨花在花期中的花粉和方向会影响的气味，使其带有特殊的清香。3、梨树的落叶在茶树间腐烂后既可以作为春季的优质有机肥，也可作为冬季越冬的保暖层。
但现有的茶树和梨树套种技术存在以下问题：梨树和茶树的根系分布差异较大，梨树种植于深沟而茶树种植于高垄，但是梨树的幼苗相对于茶树需要较多的肥料和较少的水分，现有技术中都是在深沟内浇水和施肥虽然梨树得到了充足的肥料，但是由于深沟的水分较多，不利于梨树的生长，梨树的成活率低，生长速度慢，而茶树得不到充足的营养和水肥，因此需要加大施肥和水量，容易造成水和肥料的浪费，种植的成本变高。
技术实现要素：
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本发明所要解决的技术问题在于提供一种水肥管理更好管理，有利于茶树和梨树生长，提高成活率的梨树与茶叶套种的方法。
为解决上述技术问题，本发明采用以下的技术方案：
一种梨树与茶叶套种的方法，其特征在于：包括如下步骤，
(1)早春开沟施基肥，并形成沟宽为0.3～0.5m的深沟和垄宽为1.4～1.8m的高垄，将梨树幼苗移植到高垄上按株距1.8～2.4m定植，同时对梨树幼苗进行然后覆土3～5cm，所述的覆土按重量份包括干燥淤泥土90～110份、多菌灵3～5重量份、膨润土7～9份、焦磷酸亚锡7～9份、植金石5～10份、芸苔素内酯0.2～0.6份和赤霉素0.004～0.006；本发明的覆土能够提供充分的营养物质和生长必不可少的微量元素，本发明的覆土具有保湿性，而且通透性高，因此可以增加土壤的湿润度和氧气含量，从而更有利于梨树幼苗的快速生长。
(2)于同年春季在深沟内按单行双株定植茶树幼苗，株距为0.25～0.35m，茶树苗与梨树苗的顶部高度相同，同时进行水肥管理；
(3)在梨树幼年期将幼枝按1/4～1/3短截，梨树成长期主干侧枝按1/3～2/3短截，到第5年时摘心培养树冠。
所述的步骤(1)所述深沟和高垄的高度差为0.5～0.8m。
所述的水肥管理是在高垄上且位于梨树的两侧分别开两道沟槽，然后向头槽内浇足水分，并施肥。
所述的梨树移植是挖深30cm的栽植穴，将苗木置入穴内，使根系舒展；穴内添土后将苗木上提，使根颈部低于地面2cm以上，然后浇足水并踏实。由于梨树的根系相对较为发达，为了防止梨树的根系较多横向生长，且在高垄上浇水容易导致高垄的土壤流失到身高内，从而导致梨树的横向生长的根系裸漏在高垄的外侧，不利于生长，本发明将内添土后将苗木上提使得梨树苗的根系尽可能向下扎根生长，从而有效避免上述问题。
本发明将梨树种植于高垄。将茶叶种植于深沟，且在高垄上开槽浇水并施肥，能够保证梨树的水分较多肥料的的同时，还可以通过水分将肥料下沉或者带入到深沟内再次为茶叶施肥，能够更为合理的进行肥水管理，有利于梨树和茶叶都能够得到较为合理的肥水，从而快速健康的生长，减少了传统肥料和水分的浪费。
本发明的有益效果是：本发明水肥管理更好管理，有利于茶树和梨树生长，提高成活率。减少了肥料和水分的浪费，降低种植的成本。
具体实施方式：
下面通过实施例来进一步说明本发明。
一种梨树与茶叶套种的方法，包括如下步骤，
(1)早春开沟施基肥，并形成沟宽为0.3～0.5m的深沟和垄宽为1.4～1.8m的高垄，将梨树幼苗移植到高垄上按株距1.8～2.4m定植，同时对梨树幼苗进行然后覆土3～5cm，覆土按重量份包括干燥淤泥土90～110份、多菌灵3～5重量份、膨润土7～9份、焦磷酸亚锡7～9份、植金石5～10份、芸苔素内酯0.2～0.6份和赤霉素0.004～0.006；
(2)于同年春季在深沟内按单行双株定植茶树幼苗，株距为0.25～0.35m，茶树苗与梨树苗的顶部高度相同，同时进行水肥管理；
(3)在梨树幼年期将幼枝按1/4～1/3短截，梨树成长期主干侧枝按1/3～2/3短截，到第5年时摘心培养树冠。
步骤(1)所述深沟和高垄的高度差为0.5～0.8m。
水肥管理是在高垄上且位于梨树的两侧分别开两道沟槽，然后向头槽内浇足水分，并施肥。
梨树移植是挖深30cm的栽植穴，将苗木置入穴内，使根系舒展；穴内添土后将苗木上提，使根颈部低于地面1.5cm以上，然后浇足水并踏实。
本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。