本发明涉及梨树种植技术领域，特别是涉及一种梨树定植提高成活率的方法。
背景技术：
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梨树对地形、地势、土壤的要求不严，不论山地、滩地、砂土地、红黄壤地、盐碱地、微酸性土上都能适应。但以土壤疏松较肥沃的砂壤土、砂土、壤土为宜，要求地势高旷、排水良好、土层深厚、地下水位较低，这样结果质量好。
但现有的梨树种植技术存在以下问题：梨树定植的时间不合时宜，往往脚冷或者较热，没有做好防冻和防晒的工作容易导致梨树的定植的成活率较低；梨树定植后需要较多的浇水，而且要求浇水的次数相对较为频繁，容易导致肥水的流失，浪费资源。
技术实现要素：
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本发明所要解决的技术问题在于提供一种成活率高，减少肥水管理，梨树生长好，减少肥水流失，节省资源的梨树定植提高成活率的方法。
为解决上述技术问题，本发明采用以下的技术方案：
一种梨树定植提高成活率的方法，其特征在于：包括如下步骤，
(1)定植前准备，梨苗定植前平整土地，梨树栽植株距为2-4米，行距为4-5米，每亩需苗33-83株，行株距确定后要作标记，并依此开挖定植穴或定植沟，定植穴的大小为80立方厘米，定植沟的大小为80厘米深、80厘米宽；
(2)定植时间，梨苗的定植时间分为秋植和春植；
(3)定植方法，梨苗定植时，先将基肥拌上一部分土壤填入定植穴或定植沟中，并在在定植穴或定植沟的最底层填放一些稻草、秸秆材料，基肥填入后，再在定植穴或定植沟中填土至接近地表处，最后将梨苗放入穴中覆土，所述的覆土按重量份包括干燥淤泥土90～110份、多菌灵3～5重量份、膨润土7～9份、焦磷酸亚锡7～9份、植金石5～10份、芸苔素内酯0.2～0.6份和赤霉素0.004～0.006；注意苗的根部要舒展开，且不能与肥料直接接触，否则容易导致烧苗现象，覆土到一定高度时轻提苗木，使土壤小颗粒漏入根部的间隙与根系充分接触，踏实后充分灌水，灌水后再覆一层土以保墒。
所述的覆土时注意苗的根部要舒展开，且不能与肥料直接接触，覆土完全覆盖根部时轻提苗木，使土壤小颗粒漏入根部的间隙与根系充分接触，踏实后充分灌水，灌水后再覆一层土以保墒。
所述的定植前准备还包括对梨苗根部进行浸泡的步骤，浸泡时浸泡液按重量份包括水400～500份，明胶30～40份，膨润土20～30份、乙二胺四乙酸二钠0.2～0.6份、复硝酚钾1～3份和赤霉素0.004～0.006份。
本发明的覆土能够提供充分的营养物质和生长必不可少的微量元素，本发明的覆土具有保湿性，而且通透性高，因此可以增加土壤的湿润度和氧气含量，从而更有利于提高梨树幼苗定植的成活率以及成活后的的快速生长。
本发明的浸泡液本发明具有催根的作用，而乙二胺四乙酸二钠、复硝酚钾、赤霉素和兑水具有很好的促使生根以及发出新芽的功效，因此可以大大提高梨树苗你的成活率率。本发明中浸泡液中的膨润土具有保湿以及粘附的作用，使得浸泡液更容易粘附在梨树根的表面。本发明的明胶具有一定的防水效果，可以防止浸泡液连通种子播种后，与水或者潮湿的土壤导致的浸泡液允许扩散，从而使得浸泡液具有更为持久的作用。
本发明的有益效果是：本发明成活率高，减少肥水管理，梨树生长好，减少肥水流失，节省资源，降低种植的成本。
具体实施方式：
下面通过实施例来进一步说明本发明。
一种梨树定植提高成活率的方法，包括如下步骤，
(1)定植前准备，梨苗定植前平整土地，梨树栽植株距为2-4米，行距为4-5米，每亩需苗33-83株，行株距确定后要作标记，并依此开挖定植穴或定植沟，定植穴的大小为80立方厘米，定植沟的大小为80厘米深、80厘米宽；
(2)定植时间，梨苗的定植时间分为秋植和春植；
(3)定植方法，梨苗定植时，先将基肥拌上一部分土壤填入定植穴或定植沟中，并在在定植穴或定植沟的最底层填放一些稻草、秸秆材料，基肥填入后，再在定植穴或定植沟中填土至接近地表处，最后将梨苗放入穴中覆土，覆土按重量份包括干燥淤泥土90～110份、多菌灵3～5重量份、膨润土7～9份、焦磷酸亚锡7～9份、植金石5～10份、芸苔素内酯0.2～0.6份和赤霉素0.004～0.006；注意苗的根部要舒展开，且不能与肥料直接接触，否则容易导致烧苗现象，覆土到一定高度时轻提苗木，使土壤小颗粒漏入根部的间隙与根系充分接触，踏实后充分灌水，灌水后再覆一层土以保墒。
覆土时注意苗的根部要舒展开，且不能与肥料直接接触，覆土完全覆盖根部时轻提苗木，使土壤小颗粒漏入根部的间隙与根系充分接触，踏实后充分灌水，灌水后再覆一层土以保墒。
定植前准备还包括对梨苗根部进行浸泡的步骤，浸泡时浸泡液按重量份包括水400～500份，明胶30～40份，膨润土20～30份、乙二胺四乙酸二钠0.2～0.6份、复硝酚钾1～3份和赤霉素0.004～0.006份。
本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。