1.一种提高水稻辐射诱变愈合畸变产生率的处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将水稻种子采用高剂量的钴60γ射线进行照射；
(2)将步骤(1)后的水稻种子进行微波辐照处理；
(3)将步骤(2)后的水稻种子进行低剂量的钴60γ射线进行照射；
(4)将步骤(3)后的水稻种子进行微波辐照处理；
(5)将步骤(4)后的水稻种子进行栽培、优良性状选择、优良单株选择、优秀资源和品种鉴定。
2.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述高剂量的钴60γ射线辐射剂量为300-600GY；所述低剂量的钴60γ射线辐射剂量为100-300GY。
3.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述高剂量的钴60γ射线辐射剂量为400-500GY；所述低剂量的钴60γ射线辐射剂量为100-200GY。
4.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述微波辐照处理过程中，微波输出功率为300-1000W，额定微波频率为2000-3000MHz；微波辐照处理过程中，水稻种子的温度不超过60℃。
5.如权利要求4所述的处理方法，其特征在于，所述微波辐照处理过程中，微波输出功率为500-1000W。
6.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述步骤(2)中，微波辐照处理次数为2-4次；所述步骤(4)中，微波辐照处理次数为4-6次。
7.如权利要求1-6任一项所述的处理方法，其特征在于，将所述步骤(2)中微波辐照处理后的水稻种子放置在温度为20-30℃的环境中，存放7-15天，再进行步骤(3)的低剂量的钴60γ射线照射。