1.通过电子轰击来去污容器的盖件(2)或颈部(30)的去污方法，每个盖件(2)具有：一个盖顶(17)；一个从盖顶(17)的周边边缘开始凸起的主体(18)，该主体(18)具有与盖顶(17)相对的开口；多个从主体(18)的内表面和/或盖顶(17)的内表面开始凸起的肋部(19,20)，每个颈部(30)具有多个肋部(33)和一个开口(34)，肋部(19,20,33)具有阴暗区域(21)，所述去污方法包括：
－使盖件(2)或颈部(30)面对着一个电子轰击窗口(8)前送或定位的前送或定位操作，盖件(2)或颈部(30)的开口朝向该电子轰击窗口(8)；
－在盖件(2)或颈部(30)在电子轰击窗口(8)的前面前送或定位时，对盖件(2)或颈部(30)进行电子轰击的电子轰击操作；
所述去污方法的特征在于，电子轰击通过一个脉冲电场实施，以获得一次电子和反向散射电子，能够分别去污盖件(2)或颈部(30)的明显区域和阴暗区域，所述脉冲电场具有一系列电脉冲，这一系列电脉冲具有预定的频率、持续时间和强度。
2.根据权利要求1所述的去污方法，其特征在于，频率的范围在50至500赫兹之间。
3.根据权利要求1或2所述的去污方法，其特征在于，电脉冲的频率为100赫兹。
4.根据前述权利要求中任一项所述的去污方法，其特征在于，电脉冲的持续时间的范围在5至250纳秒之间。
5.根据前述权利要求中任一项所述的去污方法，其特征在于，电脉冲的持续时间为10纳秒。
6.根据前述权利要求中任一项所述的去污方法，其特征在于，电脉冲的强度在1至20千安培之间。
7.根据前述权利要求中任一项所述的去污方法，其特征在于，电脉冲的强度为5千安培。
8.通过电子轰击来去污容器的盖件(2)或颈部(30)的去污系统，每个盖件(2)具有：一个盖顶(17)；一个从盖顶(17)的周边边缘开始凸起的主体(18)，该主体(18)具有与盖顶(17)相对的开口；多个从主体(18)的内表面和/或盖顶(17)的内表面开始凸起的肋部(19，20)，每个颈部(30)具有多个肋部(33)和一个开口(34)，肋部(19，20，33)具有阴暗区域(21)，所述去污系统包括：
－使容器的盖件(2)或颈部(30)面对着一个电子轰击窗口(8)前送或定位的前送或定位部件，容器的盖件(2)或颈部(30)的开口朝向该电子轰击窗口(8)；
－电子轰击部件，其用于在容器的盖件(2)或颈部(30)在电子轰击窗口(8)的前面前送或定位时，对容器的盖件(2)或颈部(30)进行电子轰击；
所述去污系统的特征在于，电子轰击部件布置成产生一个脉冲电场，以获得一次电子和反向散射电子，能够分别去污盖件(2)或颈部(30)的明显区域和阴暗区域，所述脉冲电场具有一系列电脉冲，这一系列电脉冲具有预定的频率、持续时间和强度。
9.根据权利要求8所述的去污系统，其特征在于，盖件(2)彼此并列，借助于一个预装的输送装置(3)沿一条输送路径以预定的速度前送。
10.根据权利要求9所述的去污系统，其特征在于，输送装置(3)由一组导轨形成。