用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置与流程

技术特征：

技术总结
一种在生成EUV光的同时去除靶材料碎片沉积物的系统和方法，包括：在EUV容器中靠近靶材料碎片沉积物原位生成氢自由基，并且使靶材料碎片沉积物挥发并且在EUV容器中不需要含氧物质的情况下，净化来自EUV容器的挥发的靶材料碎片沉积物。

技术研发人员：白钟勋;M·C·亚伯拉罕;D·R·埃文斯;J·M·加扎
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2016.12.13
技术公布日：2018.08.31