1.一种化妆料组合物，其包括包含α-羟基酸(aha)的低共熔混合物(eutecticmixture)；以及疏水性粉体。
2.根据权利要求1所述的化妆料组合物，其中，上述α-羟基酸是选自由乳酸(lacticacid)、柠檬酸(citricacid)、苹果酸(malicacid)、酒石酸(tartaricacid)、扁桃酸(mandelicacid)和乙醇酸(glycolicacid)组成的组中的一种以上。
3.根据权利要求1或2所述的化妆料组合物，其中，上述低共熔混合物包含选自由碳水化合物、多元醇、羰基化合物、氨基酸、羧酸及其衍生物组成的组中的一种以上的成分和α-羟基酸。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于低共熔混合物总重量100重量份，上述α-羟基酸的含量为10重量份至95重量份。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述低共熔混合物的含量为0.0001重量份至10重量份。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述低共熔混合物的含量为0.001重量份至8重量份。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述低共熔混合物的含量为0.01重量份至5重量份。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述低共熔混合物的含量为0.1重量份至3重量份。
9.根据权利要求1至8中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述低共熔混合物的含量为0.5重量份至1重量份。
10.根据权利要求1至9中任意一项所述的化妆料组合物，其中，上述疏水性粉体是选自由(甲基)丙烯酸系聚合物、内酯系聚合物、聚苯乙烯、聚烯烃系聚合物或其共聚物；以及疏水性二氧化硅组成的组中的一种以上。
11.根据权利要求1至10中任意一项所述的化妆料组合物，其中，上述疏水性粉体是选自由具有碳数为1至4的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯系聚合物、己内酯系聚合物、聚苯乙烯、聚氨酯系聚合物、聚乙烯系聚合物或其共聚物；以及乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷硅倍半氧烷交联聚合物或二苯基聚二甲基硅氧烷/乙烯基二苯基聚二甲基硅氧烷/硅倍半氧烷交联聚合物的疏水性二氧化硅组成的组中的一种以上。
12.根据权利要求1至11中任意一项所述的化妆料组合物，其中，上述疏水性粉体是选自由甲基丙烯酸甲酯交联聚合物、hdi/三羟甲基己内酯交联聚合物和聚苯乙烯组成的组中的一种以上。
13.根据权利要求1至12中任意一项所述的化妆料组合物，其中，上述疏水性粉体具有在表面上形成的气孔，或者为半球形(hemispherical)的形态。
14.根据权利要求1至13中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述疏水性粉体的含量为0.1重量份至30重量份。
15.根据权利要求1至14中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述疏水性粉体的含量为0.3重量份至15重量份。
16.根据权利要求1至15中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述疏水性粉体的含量为0.5重量份至10重量份。
17.根据权利要求1至16中任意一项所述的化妆料组合物，其中，相对于组合物总重量，上述疏水性粉体的含量为1重量份至5重量份。
18.根据权利要求1至17中任意一项所述的化妆料组合物，其中，上述化妆料组合物还包含油相成分。
19.根据权利要求1至18中任意一项所述的化妆料组合物，其中，上述化妆料组合物将低共熔混合物作为内相，并且将油相成分作为外相。
20.根据权利要求1至19中任意一项所述的化妆料组合物，其中，上述化妆料组合物在油相成分内含有低共熔混合物。
21.根据权利要求1至20中任意一项所述的化妆料组合物，其中，上述化妆料组合物是无水剂型。