技术特征：
1.一种粒子束照射系统，其具有：照射装置，其向照射对象照射粒子束；以及照射计划装置，其制作通过所述照射装置照射所述粒子束的照射计划，其中，所述粒子束照射系统具有电磁场生成装置，所述电磁场生成装置生成使所述粒子束给所述照射对象带来的细胞效果发生变化的磁场或/和电场。2.根据权利要求1所述的粒子束照射系统，其中，所述照射计划装置为如下结构：根据与所述电磁场生成装置生成的磁场的磁场分布有关的磁场分布数据或/和与所述电磁场生成装置生成的电场的电场分布有关的电场分布数据，运算所述粒子束在所述磁场分布或/和所述电场分布的影响下给所述照射对象带来的细胞杀伤效果。3.根据权利要求2所述的粒子束照射系统，其中，所述照射计划装置为如下结构：根据所述粒子束在所述磁场分布或/和所述电场分布的影响下的所述细胞杀伤效果，制作满足以下条件的照射计划，所述条件是对靶的细胞杀伤效果必要且充分，并且对所述靶以外的重要脏器的细胞杀伤效果为容许值以下。4.根据权利要求1、2或3所述的粒子束照射系统，其中，所述电磁场生成装置为如下结构：能够至少在照射所述粒子束的点生成平行成分过多磁场，所述平行成分过多磁场的与所述粒子束的照射方向平行的成分比与所述粒子束的照射方向垂直的成分多。5.根据权利要求4所述的粒子束照射系统，其中，所述电磁场生成装置为如下结构：具有能够单独地励磁的多个磁场生成体，能够按照所述照射计划装置的照射计划切换所励磁的磁场生成体而形成多种磁场，所述照射计划装置为如下结构：对于所述点确定使多少电流流过多个所述磁场生成体中的哪一个。6.根据权利要求1至5中任意一项所述的粒子束照射系统，其中，所述电磁场生成装置为如下结构：能够至少在比照射所述粒子束的点浅的位置处生成与所述粒子束的照射方向垂直或交叉的磁场。7.根据权利要求1至6中任意一项所述的粒子束照射系统，其中，所述电磁场生成装置为如下结构：至少在照射粒子束的范围内生成强度以及磁通密度相同的磁场。8.根据权利要求1、2或3所述的粒子束照射系统，其中，所述电磁场生成装置为如下结构：由电场生成装置构成，所述电场生成装置具有：隔着照射对象而配置的至少2个电极；以及对所述电极提供电力的电源部，能够至少在照射所述粒子束的点生成与所述粒子束的照射方向平行的电场。9.一种粒子束照射方法，其通过粒子束照射系统照射粒子束，所述粒子束照射系统具有：照射装置，其向照射对象照射粒子束；以及照射计划装置，其制作通过所述照射装置照射所述粒子束的照射计划，其中，
通过电磁场生成装置生成使所述粒子束给所述照射对象带来的细胞效果发生变化的磁场或/和电场。10.一种照射计划程序，其使计算机作为如下部件发挥功能：处方数据输入处理部，其接收粒子束的处方数据；磁场影响运算部，其运算通过电磁场生成装置生成的磁场的影响；以及运算部，其运算照射参数，所述照射参数基于粒子束在通过所述磁场影响运算部运算出的影响下的细胞杀伤效果，所述运算部为如下结构：确定针对照射粒子束的区域的至少粒子束的剂量和磁场强度作为所述照射参数。11.一种照射计划装置，其制作粒子束照射系统中的粒子束的照射计划，所述照射计划装置具有：磁场数据存储部，其存储有磁场数据，所述磁场数据能够由生成磁场的电磁场生成装置而生成；以及运算部，其利用所述磁场数据制作将粒子束在所述磁场的影响下的细胞杀伤效果添加进去的治疗计划。12.一种电磁场生成装置，其具有磁场生成体，所述磁场生成体对通过粒子束照射系统照射粒子束的治疗台上的被检测体施加磁场，所述电磁场生成装置为如下结构：从所述粒子束照射系统中所使用的控制装置接收与通过所述磁场生成体生成磁场的至少on/off有关的控制。13.一种照射装置，其根据由粒子束照射系统中的照射计划装置制作出的粒子束的照射计划，向照射对象照射粒子束，所述照射装置具有：电磁场生成装置，其生成所述照射对象被包含在范围内的磁场；以及控制部，其按照由所述照射计划装置制作出的将粒子束在磁场的影响下的细胞杀伤效果添加进去的治疗计划，在使所述电磁场生成装置生成所述磁场的状态下，照射所述粒子束。