技术总结
本发明提供粒子束治疗装置、粒子束治疗系统、照射计划装置以及粒子束照射方法。在粒子束治疗系统(1)中，磁场生成装置(9)在被检测体的靶附近生成影响粒子束的磁场的同时通过加速器(4)对从离子源(2)取出的粒子束进行加速，通过射束输送系统(5)搬送，并从照射装置(6)照射。在粒子束的照射中，照射计划装置(20)制作将磁场的影响加进去的粒子束的照射计划，并根据该照射计划照射粒子束。据该照射计划照射粒子束。据该照射计划照射粒子束。
技术研发人员：稻庭拓 野田耕司 岩田佳之
受保护的技术使用者：国立研究开发法人量子科学技术研究开发机构
技术研发日：2019.06.17
技术公布日：2021/2/5