专利名称：无尘布之制造方法
技术令域本发明系提供一种无尘布之制造方法，尤指可降低无尘布织品中细微粒子与离子的含量，同时达到无污染染整过程的无尘布之制造方法。
背景技术：
传统纺织业进入二十一世纪晶圆时代后，其应用之技术亦需着现实生活的需要而有所精进。藉研发高科技新素材之高附加价值产品，以促进纺织工业转型及技术升级，为纺织工业开创更新、更广的发展空间，并提高其竞争力当中即十分强调未来纺织工业产品需考虑到市场的需求性。
分析无尘擦拭布的制造过程主要包括四个阶段1、无尘擦拭布需具有高吸水率、高保水率、高柔软度，于使用时不会造成高精密度物体表面磨损及残留污渍、水痕等等，其中，于织造过程需考虑其高精密度之织法，以便符合此性能。
2、染整无尘擦拭布在染整制程上纤维的开纤作业稳定度对于无尘擦拭布最终产品的整体表现具有直接及极大的关系。
3、切割无尘擦拭布的封边要求对于其质量亦有着相当大的影响，需要求封边减少纤维及落尘产生。
4、洗无尘包装这部分为擦拭布制程关键，但这部分即潜在一个大问题如清洗机具设备无法保持一定的洁净程度，相对对于擦拭布质量亦会产生不良之影响。
上述无尘擦拭布制造过程较常发生下列缺失(一)高密度织造无尘布技术，目前要提高纺织品的附加价值，从原料端着手似乎是势在必行，因此关注高科技纤维的发展，掌握其特性来研发出新的布种，成为一种流行趋势；近来市面有先进之保温材料除了利用中空超细纤维，在中空部份以金属蒸气涂层加工，提高纤维的保温效果外，主要是采用多层高密织法，使织物产品得以完全将人体体热存留在衣物内而不外泄，是应用于未来高科技产业的最佳材料，而由交织方式抱合而成的梭织物其组织内的纱线，系依靠抱合处纱间摩擦大，而得以保持在适当的位置上，所以用梭织织造之织物，其质地结构非常紧密，而且整光滑，能抵抗摩擦坚牢、耐穿，然而，它亦有其缺点，就是不透气、易撕裂、热传导差、易起皱折及容易滑丝，如当组织的密度不够大，或纱线表面不够粗糙，这种结构会因纱线滑丝作用而损坏。
(二)无污染染整处理技术，织品刚经编织完后，必须施以必要的整理或染色处理加工，才能成为适合于各种用途的商品，而在整理加工工程中所需要的处理剂即称为加工剂(助剂)，其种类相当繁多，有渗透剂、柔软剂、防水剂、一部分的拨水剂、纤维用油剂、以防皱、防缩为目的的各种处理剂，是以，如前所述传统处理染整技术大多添加化学药剂以利清除支纱(或超细纤维)管中残留之微粒子或去除阴阳离子，该方式经年累月造成环境上的污染，比如用以清洗之水质因一般水中多少含有杂质，除悬浮的泥土和少量有机物外，大多为溶解在水里的碳酸盐、酸式碳酸盐、硫酸盐、氯化物等，况且，杂质中又有能引起腐蚀的首先要推氯化镁，因氯化镁受高热时会起加水分解作用而生成盐酸而造成织品更加损伤。并且所剩余之水质亦因添加此类化学药剂而形成严重之工业废水。
(三)切割及封边技术一般雷射切割的能量非常大所以在切断面会有焦黄现象情形。
(四)穿墙式无尘后处理概念就整个无尘织品生产流程而言，经过染整处理后之织品尚须经过封边与水洗之程序方能确保其无尘的质量。传统上无尘擦拭市清洗制程的环境与设备机台为了节省投资成本，大都是委外加处理。然而这部分即潜在一个无尘布制程中的大问题，因问前委外厂定以专门承包无尘衣品收清洗业务为主，擦拭布制程后处理裳程之清洗业务并非其业务主流，但回收清洗的无尘衣本身就是污染源所在，加上工作人员及清洗机台等等因素，因此清洗机具设备无论如何处理都无法保持一定的洁净程度，相对对于擦拭布质量亦会产生不良之影响。
发明内容
为解决上述制造无尘布存在的问题，本发明提供一种好的无尘布制造方法；本发明之主要目的系在于利用天然植物中所淬取之助剂，可有效处理织品中单位面积所含微粒子与阴阳离子数，亦透过升温、降温等作用将天然有机药剂融入无尘布织品中，而处理助剂可将其细微粒子与离子含量比较之一般习用之无尘布织品含量较少，进而达到无污染染整之过程。
本发明之次要目的系在于切割、封边时利用交互式计算机操控并藉由特殊设计之雷光速微调，可有效降低发尘量。
本发明之方法包含下列步骤(一)纺纱；(二)织造；透过挂纱、调整纱速、调整张力；(三)染整胚布、开纤处理、阴阳离子处理、微粒子处理、脱水、剖布、定型、品检、包装待切；(四)裁切上切割板、尺寸设定、雷光速微调、切割、品检、待洗；(六)清净纯水清洗、脱水、烘干、微粒子检测；(七)真空包装、品检、装箱出货。
该阴阳离子处理、微粒子处理之助剂主要成份乃淬取天然植物，且透过升温、降温等作用将天然有机药剂融入无尘布织品中。
该雷光速微调为利用交互式计算机操控，可消除切割、封边过程中的发尘量。
该雷光速微调可为热光速调整或超光速调整。
该整个无尘布之制造方法流程为利用两层次式无尘清洗作为高阶无尘布最后阶段之清洁与包装。
该无尘布可适用于无尘室环境或高精密度物体之擦拭。
本发明的优点是(一)本发明利用天然植物中之助剂，可有效处理织品中单位面积所含微粒子与阴阳离子数，经由调配比例与控制处理水之温度与酸碱度，能够有效的将无尘布织品中微粒子数与阴阳离子数降低至一定数量，进而提升无尘布干净质量及无污染染整处理技术。
(二)本发明之无尘布具有高吸水率、高保水率、高柔软度，于使用时不会造成高精密度物体表面磨损及残留污渍、水痕。
(三)本发明利用交互式计算机操控并藉由特殊设计之激光束消除切割、封边过程中的发尘量，可有效提升切割质量，亦同时减少封边时之纤维及落尘产生。
(四)本发明利用两层次式无尘清洗概念作为高阶无尘布最后阶段之清洁与包装，更加阻隔无尘室中之细微粒子。
附图1系为先前申请无尘擦拭布示意图。
附图2系为先前申请无尘擦拭布动作示意图。
附图3系为本发明之方块图。
附图4系为本发明之流程图。
附图5系为本发明穿墙式无尘室之示意图。
主要组件符号说明1、尘布制造之方法
11、纺纱12、织造13、染整14、定型15、裁切、封边16、清净17、包装1、无尘室21、第一阶房间22、第二阶房间23、穿墙孔具体实施方式
本发明针对不同织造方式，利用研发机台上织针排列与运作，尽可能在编织之排列方式中寻求整合性与交互支持性，而完成一高密度无尘布之织造，此开发之工法虽未能完全跳脱传统织造法之窠臼，然所利用之技术比现今一般织造法所可获得织布密度更高，此无尘布亦经以申请新型专利证书号码M274921号「无尘擦拭布」(参阅附图1、2)系为先前申请无尘擦拭布示意图及动作示意图，其中上、下表层A1、A2其基材都是使用一根粗的单纤维将其细微化之后，再取来编织成布，纤维成份由聚胺纤维25％及聚酯纤维75％合成，因其细微后，使用时具有良好的刮除效果，其中上、下表层A1、A2皆具有备稍成八字态样A3的结构，在八字态样A3的下端形成稍成三角形孔洞A4，而八字态样A3的结构是呈整齐排列布设，而三角形孔A4洞可供容纳砂粒A5与灰尘；中间层布设于上、下表层A1、A2中间，是由一根粗的单纤维将其细微化后，再取来编织成布的基材，具备十字交错结构特征，其中十字交错结构是由一长宽边的形状，呈一上一下交错互迭着，藉此该无尘擦拭布可藉由上、下表层A1、A2的细微作，于擦拭时有很好的刮除效果。
请参阅附图3、4所示，系为本发明之方块图及流程图，由图中所示可以清楚看出，本发明之无尘布制造之方法1系包括有纺纱11、织造12、染整13、定型14、裁切、封边15、清净16及包装17，而于生产制造时为会依据下列步骤进行(101)纺纱；(102)织造主要流程透过挂纱、调整纱速、调整张力、织造、中检、胚布测试之后包装待染；(103)染整主要流程于胚布开纤处理、阴阳离子处理、微粒子处理、脱水、剖布、定型、品检、包装待切；(104)切割主要流程上切割板、尺寸设定、雷射光速微调或热光速调整或超光速调整、切割、品检、待洗；(105)无尘清洗主要流程纯水清洗、脱水、烘干、微粒子检测是否合格，若合格则进行(步骤206)；若不合格重复进行纯水清洗；(106)真空包装、品检、装箱出货；本发明为利用交互式计算机操控并藉由特殊设计之雷射光速消除切割、封边过程中的发尘量，可有效提升切割质量，此外，其雷射光速微调切割可为热光速调整或超光速调整进行切割、封边之功能，主要使切割、封边过程中，可降底发尘量之功效即可，故举凡可达成前述效果之形式皆应受本创作所涵盖，此种简易修饰及等效结构变化，均应同理包含于本发明之专利范围内，合予陈明。
附表一系为无尘布微粒子数及阴阳粒子数检测之示意图，由表中所示可以清楚看出，本发明无尘布之制造方法1中之无尘布系透过天然植物中所淬取之助剂可有效降低无尘布中之微粒子数及阴阳粒子数，进而达到最佳洁净质量之功效，其中本创作人即因为克服此环境污染问题，极力寻求相关替代助剂，在不断尝试与测试后，得以找出有效之处理助剂，该助剂主要成份乃淬取于天然植物中，经化工背景之学者协助分析及调整比例，可取代现今常用之化学合成助剂，且有效处理织品中单位面积所含微粒子与阴阳离子数，本发明于该助剂的调配比例与控制处理水之温度与酸碱度，能有效的将无尘布织品中微粒子数与阴阳离子数降低至一定数量，其亦透过升温、降温等作用将天然有机药剂融入无尘布织品中，而处理助剂可将其细微粒子与离子含量比较之一般习用之无尘布织品含量较少，而后，于本发明之无尘布织品处理过后之排放水，其不但合乎废水污染标准，其中之染整助剂亦使染整排放用水达到合乎污染标准。
请同时参阅附图5所示，系为本发明之穿墙式无尘室之示意图，由图中所示可以清楚看出，本发明之高密度无尘布制造之方法1系透过该穿墙式无尘室2可有效提升无尘布最佳洁净质量之功效，其中该高密度无尘布制造之方法1系将规划有别于一般业界无尘清洗业者使用之无尘室2设计，其中是以两层次式无尘清洗概念作为高阶无尘布最后阶段之清洁与包装；即分别设立两间连接在一起之无尘室2，第一阶房间21作为第一道处理裁切及封边之无尘布初段清洁，以先前所述一般传统无尘清洁仅达此阶段，然此段因布料直接由外界送入此无尘室2内，清洗与处理的程度仍有待考验，故本发明人经验证后发现，如于第一阶房间21后随即加设另一无尘室2即第二阶房间22并以穿墙孔23作为连接两室之输送通道，并于穿墙孔23设计清洁水流区隔，并利用控制水流速度及压力，有效进一步阻隔第一阶房间22中因由外界随布料进入无尘室2中之微粒，其后无尘布最后质量亦可于第二阶房间中达到最佳洁净质量，随即于进行包装密封，是以，本发明之无尘清洗与包装制程为一完善之无尘后处理的动线，利用不同隔间方式对无尘室2的硬件动线与控制水洗水流的速度方式，能够完成超洁净清洗与无尘真空包装的需求，提升无尘擦拭布更干净的质量，同时可增加无尘擦拭布使用寿命。
本发明之无尘布制造之方法1为可透过前案申请在先之无尘擦拭布，专利证书号码M274921号之高精密度织法当作本发明之无尘布基材使用，其不但可提高吸水率、保水率、高柔软度，同时于使用时不会造成高精密度物体表面磨损及残留污渍、水痕等等，亦可适用于无尘室环境或任何场所使用，达到适用性广泛及使用率良好之功效。
综上所述，本发明之无尘布制造之方法为于制造时能提高无尘布质量，且确实能达到其功效及目的，故本发明诚为一实用性优异之发明，为符合发明专利之申请要件，爰依法提出申请，盼审委早日赐准本案，以保障发明人之辛苦研发，倘若钧局审委有任何稽疑，请不吝来函指示，发明人定当竭力配合，实感德便。
表1
权利要求
1.一种无尘布之制造方法，该方法包含下列步骤(一)纺纱；(二)织造；透过挂纱、调整纱速、调整张力；(三)染整胚布、开纤处理、阴阳离子处理、微粒子处理、脱水、剖布、定型、品检、包装待切；(四)裁切上切割板、尺寸设定、雷光速微调、切割、品检、待洗；(六)清净纯水清洗、脱水、烘干、微粒子检测；(七)真空包装、品检、装箱出货。
2.按权利要求1所述之无尘布之制造方法，其特征要于该阴阳离子处理、微粒子处理之助剂主要成份乃淬取天然植物，且透过升温、降温等作用将天然有机药剂融入无尘布织品中。
3.按权利要求1所述之无尘布之制造方法，其特征要于该雷光速微调为利用交互式计算机操控，可消除切割、封边过程中的发尘量。
4.按权利要求3所述之无尘布之制造方法，其特征要于该雷光速微调可为热光速调整或超光速调整。
5.按权利要求1所述之无尘布之制造方法，其特征要于该整个无尘布之制造方法流程为利用两层次式无尘清洗作为高阶无尘布最后阶段之清洁与包装。
6.按权利要求1所述之无尘布之制造方法，其特征要于该无尘布可适用于无尘室环境或高精密度物体之擦拭。
全文摘要
本发明为有关一种无尘布之制造方法，系有下列步骤之纺纱、织造、染整、定型、裁切、清净及包装，亦在两层次式无尘清洗房间进行，而其中染整主要流程包括胚布开纤处理、阴阳离子处理、微粒子处理以及裁切，裁切主要流程包括有雷射光速微调，制造时可利用天然植物中所淬取之助剂，可有效降低无尘布中之微粒子数及阴阳粒子数，之后透过雷射光速消除切割、封边过程中的发尘量，可有效提升无尘布织品的干净质量及降低一般无尘布制造时所造成之水污染。
文档编号A47L13/16GK1807730SQ20061002382
公开日2006年7月26日 申请日期2006年2月10日 优先权日2006年2月10日
发明者郑志皇, 郑力豪 申请人:郑志皇, 郑力豪