专利名称：具有污染检测功能的器皿清洗机及检测该机器中的污染的方法
技术领域：
本申请总体涉及商用型器皿清洗机，并且更具体地，涉及具有水污染水平检测功能的商用器皿清洗机。
背景技术：
时下的商用器皿清洗机设备在洗涤过程中使用内部再循环水并在漂洗与消毒过程中引入干净的热水。随操作转换期间脏的器皿(例如，碟子、刀叉、炖锅以及平底锅)进入机器，内部再循环水的污浊程度增加。如果污染物浓度达到临界值，污染物重新沉积到器皿上的可能性就会增加。当前，操作人员主要负责发现污染污再沉积的出现并采取补救措施。通常的补救措施可包括使器皿再一次通过机器、暂停机器运行以便排放(一个或多个)机器水箱的部分污水以及暂停机器的运行以便清洁滤网/过滤器。理想地，器皿清洗机能在无需操作人员介入且不降低效率的情况下监测其自身的污染物水平并采取补救措施(在污染物水平变动范围内)。使用光学方法检测液体中污染物水平的已知方法是浊度传感器。在家用洗碗机中使用浊度传感器是司空见惯的，并且该技术很容易实现。可是由于仅存在于商用洗碗机的应用的挑战，将浊度传感器转用到商用器皿清洗机的进展很慢。例如，在洗涤过程中，商用器皿清洗设备在可接受的污染物量的变动范围大得多的情况下运行。现有的浊度传感器缺乏应用于商用器皿清洗设备中的动态变化的工作范围。此外，由于机器循环的不同特性，现有的浊度控制逻辑不能充分优化商用洗碗机的性能。还有，商用器皿清洗设备在更高的洗涤容积和水流速度的情况下运行，从而导致洗涤水箱中明显大得多的水流涌动。由于在洗涤水中的涡流/气泡等，现有技术中的浊度传感器位置(例如，在水箱中或与洗涤水再循环流动路程(flow)成一直线)使得浊度传感器不能适当地准确读取洗涤水中的污染物水平。因此，期望的并有利的是提供一种污染物检测系统，该污染物检测系统更适合于商用器皿清洗机环境。
发明内容
—方面，器皿清洗机包括水箱和再循环管路，所述水箱用于盛放待喷射到喷水室中物品上的液体，所述再循环管路用于将液体从水箱输送到喷嘴用于喷射。传感器装置被提供来监测(例如检测)水箱液体的情况，所述传感器装置包括光发射器和光接收器。控制器被提供来使光发射器通电并监测(例如，通过硬件和/或软件评估)光接收器的输出， 其中控制器被配置来在检测期间改变光发射器的通电强度以便拓宽传感器装置测量结果的有用变化范围。另一方面，器皿清洗机包括水箱和再循环管路，所述水箱用于盛放待喷射到喷水室中物品上的液体，所述再循环管路用于将液体从水箱输送到喷嘴用于喷射。传感器装置被提供来监测水箱液体的情况，所述传感器装置包括光发射器和光接收器。控制器被提供来使光发射器通电并监测光接收器的输出。沿以下路径设置传感器装置水箱的排水管路或平行于排水管路的管路，并且所述控制器被配置来在沿所述路径的液体流动停止且沉降过程发生之后执行液体监测操作。
图1是带有污染物水平检测系统的器皿清洗机的一个实施例的示意图；图2是污染物水平检测传感器装置的示意图；图3是带有污染物水平度检测系统的器皿清洗机的可替换实施例；以及图4是图3中机器的示例性循环的时序图。
具体实施例方式参考图1，在一个实施中，污浊检测系统被设置在输送式洗碗机10中，在该输送式洗碗机10中，待清洗的物品在壳体14中被移动(例如，通过输送装置12在图中从左至右)， 所述壳体14具有多个喷射区16、18、20和22，并且在某些情况下具有干燥区对。输送装置 12可以是被配置来移动包含器皿的器皿筐的适当的类型，诸如，往复式或具有器皿容纳槽的连续带式。举例来说，喷射区16可以是预洗区，区域18可以是主洗区，区域20可以是热后洗区(也被称作为强力漂洗区)以及区域22可以是最终漂洗区。也可包括其它的喷射区，或可包括更少的喷射区。如图所示，预洗区16包括相关的水箱沈、泵观以及管路30，水箱沈、泵观以及管路30形成再循环路径在管路30，在再循环路径中，液体被从水箱沈输送至喷嘴32 (例如，设置在横向延伸的上部和下部喷射臂壁中)用于喷射，并且所喷射的液体收集在水箱沈中用于再循环。主洗区18包括相似的水箱34、泵36、管路38以及喷嘴40，水箱34、泵36、管路38以及喷嘴40形成再循环流动路径。同样，热后洗区20包括类似的水箱42、泵44、管路46以及喷嘴48，水箱42、泵44、管路46以及喷嘴48形成再循环流动路径的。水箱42被示出为具有相关的加热元件50，所述加热元件50用于加热水箱的水，并且如果需要的话，水箱34和/或沈中也都能够包括加热元件。最终漂洗区22包括相关的辅助加热器水箱52，其容纳从清水输入源M通过阀56 或其它供给装置(例如，泵)而来的水。辅助水箱52被连接来通过管路58将水输送至最终漂洗区22中的喷嘴60，并且包括用于加热漂洗水的加热元件62。辅助水箱能够包括相关的除钙系统。水箱沈、34和42中的一个或多个可具有相关的清水输送管路70、72、74以及相关的阀76、78、80，以便如需要的话控制将清水从清水管路82输送进水箱中。干燥区M包括鼓风机84，鼓风机84典型地具有相关的加热器，以在最终漂洗后将热风吹到器皿上。最终漂洗系统可包括相关的漂洗辅助剂供给90和泵92，所述泵92用于将漂洗辅助剂以计量方式输送至辅助水箱52，或可替换地输送至辅助水箱52的输出管路。主洗区可包括相关的洗涤剂供给96和相关的泵98，所述泵98用于以计量方式将洗涤剂输送至水箱 34，或可替换地直接输送到管路38中。可使用洗涤剂供给的其它形式，例如，人工放置块状/固体状洗涤制品。控制器100被提供来根据一个或多个程控清洗序列操作各种泵、阀、输送装置以及鼓风机。为了克服现有技术中将浊度传感器应用到商用器皿清洗机上的限制，应当增加浊度传感器的动态变化范围，且应当将浊度传感器的位置布置为适应商用清洗机中的更大程度的涡流。关于传感器的位置，每个水箱26、34和42可包括相关的排水系统(未示出在图 1中)，所述排水系统以受控方式能将水箱的水部分或完全排出。举例来说，参考图2，图2 中示出了示例性的水箱排水系统102。所述排水系统包括管路、管道或软管管线104，其连接至水箱出口 106并延伸至传感器组件108，在一个示例中，传感器组件108使用透明的方管110，该透明的方管110具有安装在其上的相关的传感器模块112。传感器模块112包括在管道110 —侧的光发射元件114(例如，一个或多个LED)以及在管道110另一侧的光接收元件116(例如，一个或多个光电晶体管)。传感器组件的下端被连接至排水管路或管道 118，排水管路或管道118使设备可排水。阀120可被用来控制沿排水路径的流量，但是在其它实施例中可采用泵吸排水系统。尽管所示的传感器组件108被示为和水箱的主排水路径成一直线，可替换地，传感器组件可以被连接成平行于主排水路径(例如，按照虚线布置 122的方式)。接口连接器IM和126(例如，具有相关夹子的圆转方接头(round to square transition couplers))可被提供来以所示的方式在排水路径中与传感器组件相互连接。 传感器元件包括相关的导线1 和130，导线1 和130连回到控制器100上并按需供电。 附加的电子控制电路可根据需要与传感器元件相关。可替换传感器装置可包括多个LED光电晶体管对，LED光电晶体管对与对之间设置成彼此垂直间隔开，从而每对被定位来检测在检测区域中不同高度处的污染物水平。例如，具有三对或更多对相互垂直间隔开放置的传感器的实现方式有利于识别漂浮和沉降的颗粒。尤其，假设水样初始时的浊度被测定，并且假设经过一段时间后由中间高度处的传感器指示的水样的浊度说明水样是清洁的。如果通过中间高度处的传感器对下方的LED光电晶体管对指示的浊度增加，那么可以得出颗粒在沉降的结论。沉降速度对应于这样的颗粒的尺寸或密度，使得颗粒尺寸可作为机器控制的因素。可替换地，如果由中间高度处的传感器对的上方的LED光电晶体管对指示的浊度增加，那么可以得出颗粒在漂浮的结论。可使用建议的传感器定位、阀或泵循环来以预定的时间间隔收集水箱水样的样本。举例来说，机器控制器100产生水箱水样信号，并且通过打开阀120将水箱水的样本 (或者通过泵的工作由泵送入)重力输送至传感器组件108。可通过短暂地打开所述阀或使泵循环来获取新的水箱样本。现在水样位于传感器组件内。在触发传感器部件进行监测之前，进行一段时间的样本沉降。允许样本沉降一小段时间以便使气泡排出并且使大的颗粒沉降或漂浮是有利的。光发射元件被通电并且光接收器的输出水平被监测以确定水样的浊度。控制器100可作出评估以基于所测定的浊度或污染物水平确定是否需要采取措施。 这些措施可重复所需要的次数，并且以适合于给定机器的既定序列进行。由于在商用器皿清洗机中所遇到的污染变化范围，对于商用机器，现有技术中典型的传感器系统通常会在浓度非常低的水平时具有充分的分辨力，并在达到最高可接受的污染物水平前达到饱和。如果使用单个更高光强度浊度传感器，则会丢失中等或低污染物水平的有价值数据。为了解决这个问题，采用改变光发射元件的通电强度。在一个实施例中，使用阶梯式光强度技术。在一个实现方式中，通过对光发射元件施加阶梯式通电强度(例如，采用阶梯式电压值)实现阶梯式光强度。在可替换的实现方式中，通过使用多个光发射元件(例如，LED)并在较低的(lower)阶段对较少的元件通电而在较高的(higher)阶段对较多的元件通电来实现阶梯式光强度。在这点上，“光发射器”可由单个光元件或多个光元件构成，并且在后一种情况下，在某些实现方式中可以通过给构成光发射器的不同数量的光元件通电来改变光发射器的通电强度。以下是示例性应用 /操作的描述。可利用其它配置来产生类似的结果。光发射元件114发亮。光束穿过水样至光接收器116。水越脏，传输到光接收器 116的光越少。所述光接收器116(例如，光电晶体管)输出与所接收到的光成比例的电压， 并因此该电压和水的污染物水平成比例。随污染物水平增加，电压增加。可替换地，可以设置电子装置，使得随污染物水平增加，电压降低。在任一情形下，结果都是电压和污染物水平成比例关系。低的光发射器强度使得能精确地检测低污染物水平但是不能精确地检测高污染物水平。在高污染污水平，低的光发射器强度使传感器饱和(达到最高电压值)，从而使其无法测定更高的污染污水平。相反，高的光发射器强度使得能够精确地检测高污染物水平但不能精确地检测低污染物水平。在较低污染物水平，高的光发射器强度使传感器达到最低电压值(接近于零伏)，从而传感器不能测定较低的污染物水平。解决方案是传感器装置输出不同的发光强度，以便精确检测不同污染物水平。在阶梯式方法的一个实现方式中，使用低、中、高3种发光强度。通过试验，这已经足够检测必要的污染物水平，尽管一些应用和污染物水平可能需要更高或更低的强度控制器100可被配置为选择应用于机器的强度。特别是，当发出每种强度水平 (低、中、高)，捕获和存储所述光接收器116的电压输出值。比较这些电压输出值并选择使用导致光接收器电压值最接近于光接收器的中档的强度水平。举例来说，假设使用具有 2伏特中档电压输出的光接收器，一旦污水被输送进传感器组件中，并且已经经历适当时间的沉降(如果有的话)，那么控制器100使光发射器114通电使其发出低强度光，且光接收器电压输出是3. 8伏特。接着对光发射器通电使其发出中等强度光，且光接收器电压输出是3. 5伏特。接着对光发射器通电使其发出高强度光，且光接收器电压输出为1. 9伏特。由于高发光强度水平导致光接收器电压输出值最接近于2伏特，控制器100选择高发光强度水平通电来应用于机器控制中。接着，可使用高发光强度查找表(例如，存储在控制器100 的内存中)确定对于所述光接收器116的1. 9伏特电压输出值必要的机器措施。在以上示例中，如果低发光强度通电强度导致最接近2伏特的光接收器输出，那么控制器将对机器控制使用该低发光强度通电强度，并且参考低发光强度查找表来确定必需的机器措施。同样，如中等发光强度通电强度导致最接近2伏特的光接收器输出，那么控制器将对机器控制使用该中等发光强度通电强度，并且参考中等发光强度查找表来确定必需的机器措施。可以在将传感器组件安装到机器上之前或之后根据传感器组件的校准序列 (calibration sequence)创建查找表。在后一种情况下，经校准的序列可以并入控制器100 的程序中。以这种方式，能够为低、中以及高污染物水平更加有效地提供基于水污染水平的机器控制。在另一个实施例中，通过使用光发射器的斜坡式通电可实现光发射器通电强度的改变。例如，可以实现光强度从非常低水平到非常高强度的完整和连续范围，所述非常低的水平只能穿透非常干净的洗涤水在光接收器处产生微弱信号，所述非常高强度能够很容易地穿透严重污染的水。使用所描述的斜坡式光强度的传感器装置可以使用光发射器114(例如，LED发射器)，光发射器114由斜线上升的电压驱动，考虑到样品管道的老化和污染物在其上的堆积，所述斜线上升的电压使光强度水平的变化范围大于预期的浊度变化范围所需的光强度水平变化范围。所述光接收器116接收已经被样品管道110中的液体减弱的光，并产生与预定参考值或设定的阈值(例如，根据通过校准序列(calibration sequence)确定的)比较的信号。当被斜坡式驱动的光发射器114达到能使光接收器输出等于参考值/阈值的强度，比较电路切换并捕获斜线上升的电压在那一时刻的模拟值。斜线上升的电压在那一时刻的值与样品管道中液体的浊度水平成比例。接着所捕获的浊度值被过滤(filter)并可以作为机器逻辑控制系统的输入(例如，用于提供查找表以供参考以确定待采取的机器的响应措施)。对于各种应用，浊度采样过程的重复率可被改变。如果需要量化液体样本中悬浮的颗粒，那么可以使用采用适当过滤(filtering)的每秒数百个样本左右的高采样率。如果只关心平均浊度，那么通过相应过滤器可以使用于每分钟几个样本左右的较低采样率。在大部分的设备应用中可能发生样品管道110的老化和透明度变差，并从而，对于待继续采取的适当的测量可实行一定的补偿或修正方案。一个这样的方案将周期性地使设备测量已知的清洁的液体，并注意到浊度值高于样本管道是崭新的时的浊度值。该测量的值表示样品管道110的透光率损失，并且能够从对浑浊液体的任意随后读取值中减去该值，直到执行下一个校准操作过程并建立一个新的补偿值。这样执行斜坡式实现方式光强度变化范围大到足以覆盖预期浊度值的整个变化范围和样品管道的透光率的可能损失。所披露的两个实施例(也即，阶梯式强度和斜坡式强度)均将产生有用并且有效的数据。斜坡式方式将提供更少的步骤、不重叠的值的范围并且需要较少的部件来完成生产。阶梯式方式产生重叠且不离散(discrete)的值的范围，在器械控制系统中需要更多的智力工作来恰当地解释数据及执行恰当的措施。如果平均浊度和颗粒数据都是需要的的话，阶梯式方法可能具有优势。采用阶梯式方法，一旦合适级别的发光强度被选择，平均浊度水平能够被确定，并且可以保持光发射器发光强度水平而不用切换到序列中的下一个强度。在该延长时段中，可以处理从光接收器116接收的信号的变化(例如，因颗粒沉淀)，以提供与在液体样品中的悬浮颗粒的大小和数量相关的有用的信息。阶梯式光强度和斜坡式光强度方法允许污染样本在所给定时间周期内经历多个完整的清除循环。在清除期间可以收集表示污染特征的有用的信息，尤其(1)光接收器电压输出(即，v(t)-在某时间点处的离散(discrete)电压值，所述离散电压值表示在该时间点的浊度值)，该输出对于基础测量和设置措施阈值是有用的；( 随时间变化的光接收器电压输出值的变化率(即，dV/dt)，其(i)可在特定样本内计算或从样本到样本间被计算， ( )提供与溶液中颗粒的出现相关的信息(例如，变化率越高表示正在沉降的颗粒越多， 该信息是有用的因为大量颗粒的出现将增加污浊再次沉积的可能性)以及(iii)提供与污染物水平发展趋势相关的信息；C3)光接收器电压输出值的变化(即，在所给定的时间周期内光接收器电压值的变化(应用到阶梯式方法))，其⑴能通过给定的光发射器强度和/ 或从一个样本到另一个样本被计算以及(ii)提供与溶液中颗粒的出现相关的信息。现在参考图3，示出了可替换的器皿清洗机实施例，其是箱式的(也被称为分批式或门式机器)。机器140包括壳体142，所述壳体142限定了通过门146可进入的清洗室 144。所述门被可枢转地安装(例如，在台下式机器的情形中)或被安装成能进行垂直的滑行运动(例如，在罩式机器的情形中)。器皿被手动移入清洗室144以进行清洗，并且当已完成清洗循环时被手动移除。集水槽148被设置在清洗室144的下方，并且泵150和管路152 被提供来将水从集水槽输送至上部和下部喷射臂156(例如，旋转式)的喷嘴154。洗涤剂供给158和相关的泵可被提供来将清洁剂以计量方式输送至集水槽148。可使用其它形式的洗涤剂供给，诸如，手动放置块状/固体式洗涤制品。辅助加热器162经由阀166或泵从清水供给输入164接收水并且具有输出管路168，所述输出管路168将水输送至喷嘴154， 或者可替换的，输送至一组具有相关喷嘴(未示出)的分开的漂洗臂。漂洗辅助剂供给170 以及相关泵172被提供来将漂洗辅助剂以计量方式输送至辅助水箱162。集水槽148包括相关的排水出口 174，所述排水出口 174通向传感器组件108 (以虚线形式的箱来示出)，所述传感器组件108可类似于图2中的传感器组件。排水阀110被提供来控制排水，但是能够替换地提供泵吸式排水管路系统。控制器180被提供来根据一个或多个程控清洗循环操作各种阀和泵。通常基于测定的浊度/污染物水平的机器措施是由器皿清洗机的类型和构造结合减少污染物重新沉积的可能性的目标来确定的。机器的基础类型能被分为两类，输送机式(例如，图1)和箱式(例如，图3)。在箱式机器的情形下，可以基于集水槽148中的污染物水平来控制的变量，举例来说，包括(1)洗涤频率和持续时间(例如，通过控制泵150运行的持续时间)，( 下落持续时间(即，喷射加入了洗涤剂的洗涤液体与随后喷射干净的漂洗液体间的停顿时间；例如，通过泵150运行停止后控制输送加压(booster)水的时间)，( 集水槽148排水的频率和持续时间(例如，通过对阀110的控制)，(4)漂洗持续时间和/或漂洗水体积(例如， 通过控制阀166保持开启的持续时间)，(5)漂洗辅助剂的配量(例如，通过控制泵172的运行)，(6)洗涤剂的配量(例如，通过控制泵160的运行)，(7)蒸汽循环(如果有的话)， ⑶干燥时间(例如，通过控制在干燥期间使用的鼓风机和/或加热元件的运行)，(9)中断洗涤操作，同时排除部分水，接着重新注满，然后继续洗涤，以及(10)洗涤后实施部分或完全排水，以及在漂洗前重复洗涤循环。参考图4，在箱式机器的情形下，由以下部分描述示例性循环Tc 洗涤周期W(例如，在该期间对加入有洗涤剂的液体进行再循环)、下落周期DD和漂洗周期R，其中在下落周期DD期间，停止洗涤液体的再循环并且机器暂停以允许液体下落离开器皿，在漂洗周期 R期间，向器皿上喷射干净的漂洗液体。两个示例性水样时间示出在排水时间Dl和D2。Dl 时的采样可主要被用于确定是否修改洗涤持续时间、下落持续时间、排水时间D2的时间选择、排水时间D2处的排水体积、漂洗持续时间、漂洗辅助剂配量和洗涤剂配量。D2时的采样可主要用于确定是否修改下落持续时间、用于采样的第三排水时间的引入以及与它相关的体积和漂洗持续时间。在输送机式机器的情形下，可基于受监测的(一个或多个)水箱中污染物水平来控制的变量，举例来说，包括(1)预洗稀释(例如，通过控制阀76)，(2)主洗稀释(例如， 通过控制阀78)，(3)后洗稀释(例如，通过控制阀80)，(4)输送装置速度(例如，通过控制与输送装置12相关的电机)，(5)排水阀或与水箱相关的排水泵，(6)最终漂洗水流流速 (例如，通过控制阀56或与漂洗管路相关的泵)，(7)清洗水流流速(例如，通过控制泵36 的运行)，(8)水箱排水的频率和持续时间，(9)漂洗辅助剂配量(例如，通过控制泵92的运行)以及(10)洗涤剂配量(例如，通过控制泵98的运行)。有时，需要校验污浊传感器组件108的准确性。可提供的一种方法是将干净的水注入传感器中，传感器装置工作。如果所述光接收器电压值不在设置的公差内和/或如果污浊传感器组件停止工作，则给出出错消息(例如，通过控制器100给可视或可听的报警器通电)。出错弥补可使工作得以继续。虽然本发明已详细描述和说明，当应当理解的是，这些描述和说明仅仅是为了说明和示例，而不不是为了做出限制。应认识到的是存在其它多种变形，包括对所附权利要求的窄化和放宽的变形。权利要求如下
权利要求
1.一种器皿清洗机，包括水箱，所述水箱用于盛放待喷射到喷水室中物品上的液体；再循环管路，所述再循环管路用于将液体从所述水箱输送到喷嘴用于喷射；传感器装置，所述传感器装置用来监测水箱液体的情况，所述传感器装置包括光发射器和光接收器；以及控制器，所述控制器用来监测所述光接收器的输出，其中，所述传感器装置沿以下路径设置水箱的排水管路或平行于所述排水管路的管路，所述控制器被配置用来在沿所述路径的液体流动停止后执行液体监测操作。
2.根据权利要求1所述的机器，其中所述控制器被配置用来在沿所述路径的液体流动已停止并且沉降周期已发生之后执行液体监测操作。
3.根据权利要求1或2所述机器，其中所述机器是箱式机器并所述监测发生在(1)再循环洗涤操作期间和/或( 紧随再循环洗涤操作的下落周期期间。
4.根据权利要求1-3之一所述的机器，其中所述机器是箱式机器并且所述控制器被配置为基于所述传感器装置的输出影响以下操作中的一个或多个(i)清洁循环的再循环洗涤操作的频率和/或持续时间，(ii)下落持续时间，(iii)水槽排水的频率和/或持续时间，(iv)漂洗持续时间和/或漂洗水体积， (ν)漂洗辅助剂的配量，(vi)洗涤剂的配量，(vii)蒸汽循环，(viii)干燥持续时间，(ix) 中断清洁循环的再循环洗涤操作，同时排出部分水，随即再注满并继续再循环洗涤操作和/ 或(χ)在清洁循环的再循环洗涤操作后实施部分或完全排水，以及在漂洗前重复清洁循环的再循环洗涤操作。
5.根据权利要求1或2所述的机器，其中所述机器是输送式机器并且所述水箱与机器的预洗区、洗涤区或后洗区之一相关。
6.根据权利要求5所述的机器，其中所述控制器被配置来基于所述传感器装置的输出影响以下操作中的一个或多个(i) 预洗液体的稀释；(ii)主洗液体的稀释，(iii)洗后液体的稀释，(iv)输送速度，(ν)部分或完全的水箱排水，(Vi)最终漂洗水流流速，(vii)清洗水流速，(viii)漂洗辅助剂配量和 /或(iX)洗涤剂配量。
7.根据前述权利要求之一所述的机器，其中所述控制器评估以下的一个或多个(1)某个或某些时刻光接收器的离散(discrete) 输出值，( 所述接收器的输出值关于时间的变化率和/或C3)设定的时间周期内光接收器输出值的变化
8.根据前述权利要求之一所述的机器，其中所述传感器装置包括垂直间隔开地位于采样区域的不同高度处的光发射器-光接收器对。
9.根据前述权利要求之一所述的机器，其中所述传感器装置由透明的管状结构和安装在所述透明的管状结构上的传感器模块构成，所述透明的管状结构形成所述路径的部分。
10.根据权利要求9所述的机器，其中所述光发射器位于所述透明的管状结构的一侧，并且所述光接收器位于所述透明的管状结构的另一侧。
11.根据前述权利要求之一所述的机器，其中所述控制器被配置为使所述光发射器通电从而从所述光发射器产生变化的光强度输出ο
12.根据权利要求11所述的机器，其中所述控制器被配置为使所述光发射器通电从而产生(i)多个阶梯式光强度或(ii)斜坡式光强度。
13.—种检测水箱中液体污染情况的方法，所述水箱包括在器皿清洗机中用于盛放待喷射到喷水室中物品上的液体，所述水箱还包括再循环管路、传感器装置和控制器，所述再循环管路用于将液体从水箱输送到喷嘴用于喷射，所述传感器装置用来监测水箱液体的情况并且包括光发射器和光接收器，所述控制器用来监测所述光接收器的输出，所述方法包括如下步骤沿如下路径设置所述传感器装置水箱的排水管路或平行于所述排水管路的管路； 在沿所述路径的液体流动停止之后，使用所述传感器装置执行液体监测操作。
14.根据权利要求13所述的方法，其中仅在沿所述路径的液体流动已停止并且沉降周期已发生之后执行所述液体监测操作。
15.根据权利要求13或14所述的方法，其中在所述液体监测操作期间，所述控制器评估以下的一个或多个(1)某一或某些时刻处所述光接收器的离散(discrete)输出值，(2) 所述光接收器的输出值关于时间的变化率和/或C3)设定的时间周期内所述光接收器输出值的变化。
全文摘要
器皿清洗机(10)包括水箱(26，34，42)以及再循环管路(30，38，46)，所述水箱(26，34，42)用于盛放待喷射到喷水室中物品上的液体，所述再循环管路(30，38，46)用于将液体从水箱输送到喷嘴用于喷射。传感器装置被提供来监测水箱液体的情况，传感器装置包括光发射器(114)和光接收器(116)。控制器被提供来使光发射器通电并监测光接收器的输出，其中控制器被配置来在检测期间改变光发射器的通电强度以便拓宽传感器装置测量结果的有用变化范围。传感器装置被设置为与水箱排水管路(104，118)成一直线或平行于水箱排水管路(104，118)。
文档编号A47L15/42GK102595994SQ201080046781
公开日2012年7月18日 申请日期2010年10月14日 优先权日2009年10月23日
发明者克劳斯·帕德伯格, 弗兰克·A·邦达罗伟兹, 约瑟夫·E·法班, 艾伦·J·瓦拉辛斯 申请人:浦瑞玛柯Feg有限责任公司