专利名称：基板清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及基板清洗装置。
背景技术：
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display，简称 TFT LCD)的制造过程主要包括制造阵列基板、阵列基板和彩膜基板的对盒以及模块组装等工艺，其中制造阵列基板的工艺主要包括成膜、光刻和刻蚀。对基板进行清洗的工艺决定了产品的良品率，所以在成膜和光刻工艺之前，都需要对基板进行清洗。如图1所示，现有技术的基板清洗装置包括清洗舱11、设置在清洗舱内部的清洗单元13以及贯穿该清洗舱的传送单元12。其中，清洗单元13设置在清洗舱11的顶部且清洗单元13的清洗口 131朝向传送单元12。在进行基板清洗时，传送单元12将基板14的待清洗面141朝上送入清洗舱11，通过清洗单元13提供的外力来克服待清洗面141上存在的颗粒与基板14之间的黏附力，并以外力对颗粒持续做功直至颗粒脱离基板14来达到清洗作用的。在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题清洗单元提供的外力要克服颗粒与基板的黏附力，同时要对颗粒持续做功直至颗粒脱离基板，然而颗粒自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力会阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒。
实用新型内容本实用新型的实施例提供一种基板清洗装置，用于解决现有技术中基板上的颗粒的自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒的问题。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案—种基板清洗装置，包括清洗舱，贯穿所述清洗舱且位于所述清洗舱上方的传送单元，以及设置在所述清洗舱内部且位于所述清洗舱底部的清洗单元，所述清洗单元的清洗口朝向所述传送单元。具体的，所述传送单元包括基板吸附台以及用于传送该基板吸附台的导轨，所述导轨贯穿所述清洗舱，所述基板吸附台与所述导轨连接，且基板吸附台的吸附面朝向所述清洗单元的清洗口。优选的，为了便于机械化控制，所述导轨为主动式导轨。优选的，所述基板吸附台为真空吸附台。由于基板在清洗时，清洗单元会对基板产生力的作用，采用真空基板吸附台，吸附力大，保证基板不会在清洗时落下。进一步的，所述传送单元还包括后基台和机械手，所述后基台位于所述清洗舱的出口，在基板吸附台由所述导轨传送至清洗舱的出口时，所述基板吸附台上吸附有基板，所述机械手位于所述后基台的上方，用于将基板吸附台取出清洗舱、翻转该基板吸附台并将该基板吸附台放置到所述后基台上。这样有利于后续机械设备取走清洗后的基板，提高了整个系统的工作效率。进一步的，所述传送单元还包括前基台，所述前基台位于所述清洗舱的入口，在基板进入清洗舱前，所述基板放置在所述前基台上，所述基板的待清洗面朝向所述前基台，所述基板吸附台在进入所述清洗舱前通过机械手位于所述前基台上方。这样在清洗前，将基板放置于前基台上，等待基板吸附台吸附后进入清洗单元清洗，有利于整个系统的工作运行，提高了系统的工作效率。具体的，所述清洗单元包括，从所述清洗舱入口至出口方向，依次为紫外子单元、 药液喷淋子单元、纯水刷洗子单元、高压喷淋子单元、超声波子单元。由于基板在清洗前有不同类别的待清洗物质，紫外子单元用来去除基板上的有机物，药液喷淋子单元用于去除基板上的氧化物，纯水刷洗子单元、高压喷淋子单元在对残留在基板上的颗粒进行清洗的同时，还对前面由于药液喷淋子单元工作时基板上残留的药液进行清洗，超声波子单元对残留在基板上的颗粒进行进一步的清洗。进一步的，所述紫外子单元包括紫外线灯，所述药液喷淋子单元包括药液喷头，所述纯水刷洗子单元包括滚刷和纯水喷头，所述高压喷淋子单元包括高压喷头，所述超声波子单元包括超声源和喷头。进一步的，所述清洗单元还包括气刀干燥子单元，所述气刀干燥子单元置于超声波子单元后。由于基板在清洗过后，都需要进行干燥，所述气刀干燥单元不仅对基板进行了干燥，还对残留在基板上的颗粒进行了进一步清除。本实用新型实施例提供的基板清洗装置，由于所述基板清洗装置是把所述基板的待清洗面朝下放置进行清洗的，在清洗过程中清洗单元提供的外力一旦克服颗粒与基板的黏附力，颗粒就会因自身重力下落而脱离基板，解决了由于基板上的颗粒的自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒的问题。
图1为现有技术中基板清洗装置的结构示意图；图2为本实用新型实施例提供的基板清洗装置的结构示意图一；图3为本实用新型实施例提供的基板清洗装置的结构示意图二。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。为使本实用新型技术方案的优点更加清楚，
以下结合附图和实施例对本实用新型作详细说明。本实用新型的实施例提供的基板清洗装置，如图2所示，包括清洗舱11，贯穿所述清洗舱11且位于所述清洗舱11上方的传送单元12，以及设置在所述清洗舱11内部且位于
4所述清洗舱11底部的清洗单元13，所述清洗单元13的清洗口 131朝向所述传送单元12。具体的，如图3所示，所述传送单元12包括基板吸附台121以及用于传送该基板吸附台121的导轨122，所述导轨122贯穿所述清洗舱11，所述基板吸附台121与所述导轨 122连接，且基板吸附台121的吸附面1211朝向所述清洗单元13的清洗口 131。基板14 在清洗时，是通过基板吸附台121吸附，由导轨122传输通过整个清洗舱11的，基板吸附台 121的吸附面1211朝向清洗单元13，是为了让基板14的待清洗面141朝向清洗单元13接受清洗，这样能达到基板14的待清洗面141上的颗粒在被清洗单元13清洗后，能够不残留在基板14上。优选的，所述导轨122为主动式导轨。在实际清洗作业中，导轨122采用主动式， 便于机械化控制，提高了整个系统的清洗速度。优选的，所述基板吸附台121为真空吸附台。由于基板在清洗时，清洗单元会对基板产生力的作用，采用真空基板吸附台，吸附力大，保证基板不会在清洗时落下。进一步的，所述传送单元12还包括后基台123和机械手124，所述后基台123位于所述清洗舱11的出口，在基板吸附台121由所述导轨122传送至清洗舱11的出口时，所述基板吸附台121上吸附有基板14，所述机械手IM位于所述后基台123的上方，用于将基板吸附台121取出清洗舱11、翻转该基板吸附台121并将该基板吸附台121放置到所述后基台123上。这样有利于后续机械设备取走清洗后的基板，提高了整个系统的工作效率。进一步的，所述传送单元12还包括前基台125，所述前基台125位于所述清洗舱 11的入口，在基板14进入清洗舱11前，所述基板14放置在所述前基台125上，所述基板 14的待清洗面141朝向所述前基台125，所述基板吸附台121在进入所述清洗舱11前通过机械手IM位于所述前基台125上方。这样基板在清洗前放置于前基台上，等待基板吸附台吸附后进入清洗单元清洗，有利于整个系统的工作运行，提高了系统的工作效率。具体的，如图3所示，所述清洗单元13包括，从所述清洗舱11入口至出口方向，依次为紫外子单元132、药液喷淋子单元133、纯水刷洗子单元134、高压喷淋子单元135、超声波子单元136。由于基板在清洗前有不同类别的待清洗物质，紫外子单元用来去除基板上的有机物，药液喷淋子单元用于去除基板上的氧化物，纯水刷洗子单元、高压喷淋子单元在对残留在基板上的颗粒进行清洗的同时，还对前面由于药液喷淋子单元工作时基板上残留的药液进行清洗，超声波子单元对残留在基板上的颗粒进行进一步的清洗。进一步的，所述紫外子单元132包括紫外线灯1321，所述药液喷淋子单元133包括药液喷头1331，所述纯水刷洗子单元134包括滚刷1341和纯水喷头1342，所述高压喷淋子单元135包括高压喷头1351，所述超声波子单元136包括超声源和喷头1361。进一步的，所述清洗单元13还包括气刀干燥子单元137，所述气刀干燥子单元137 置于超声波子单元136后。由于基板在清洗过后，都需要进行干燥，所述气刀干燥单元不仅对基板进行了干燥，还对残留在基板上的颗粒进行了进一步清除。为了便于本领域技术人员的理解，现就本实用新型实施例提供的基板清洗装置的具体使用方法进行详细的说明。基板清洗装置的具体使用方法如下，如图3所示基板14在清洗前待清洗面141朝下置于前基台125上。清洗开始后，由机械手 1 抓住基板吸附台121，基板吸附台121的吸附面1211对准基板14进行吸附。基板14被基板吸附台121吸附起后，由机械手IM送上导轨122，基板吸附台121带着基板14在导轨122上主动式运动，经过紫外线灯1321、药液喷头1331、滚刷1341、纯水喷头1342、高压喷头1351、超声源和喷头1361进行各步骤的清洗作业，然后经过气刀干燥子单元137对基板14进行吹干。当清洗完毕时，机械手IM再次将基板吸附台121抓起，且翻转过来，之后放置于后基台123上。等待基板14被取走后，机械手IM再次将基板吸附台121抓起，且再次翻转过来，并送至前基台125上方，进行下一次吸附基板工作。本实用新型实施例提供的基板清洗装置，由于所述基板清洗装置是把所述基板的待清洗面朝下放置进行清洗的，在清洗过程中清洗单元提供的外力一旦克服颗粒与基板的黏附力，颗粒就会因自身重力下落而脱离基板。与现有技术相比，本实用新型实施例能够解决由于基板上的颗粒的自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒的问题。以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种基板清洗装置，包括清洗舱，其特征在于，还包括贯穿所述清洗舱且位于所述清洗舱上方的传送单元，以及设置在所述清洗舱内部且位于所述清洗舱底部的清洗单元，所述清洗单元的清洗口朝向所述传送单元。
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述传送单元包括基板吸附台以及用于传送该基板吸附台的导轨，所述导轨贯穿所述清洗舱，所述基板吸附台与所述导轨连接，且基板吸附台的吸附面朝向所述清洗单元的清洗口。
3.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，所述导轨为主动式导轨。
4.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，所述基板吸附台为真空吸附台。
5.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，所述传送单元还包括后基台和机械手，所述后基台位于所述清洗舱的出口，在基板吸附台由所述导轨传送至清洗舱的出口时，所述基板吸附台上吸附有基板，所述机械手位于所述后基台的上方，用于将基板吸附台取出清洗舱、翻转该基板吸附台并将该基板吸附台放置到所述后基台上。
6.根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于，所述传送单元还包括前基台，所述前基台位于所述清洗舱的入口，在基板进入清洗舱前，所述基板放置在所述前基台上，所述基板的待清洗面朝向所述前基台，所述基板吸附台在进入所述清洗舱前通过机械手位于所述前基台上方。
7.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述清洗单元包括，从所述清洗舱入口至出口方向，依次为紫外子单元、药液喷淋子单元、纯水刷洗子单元、高压喷淋子单元、超声波子单元。
8.根据权利要求7所述的基板清洗装置，其特征在于，所述紫外子单元包括紫外线灯， 所述药液喷淋子单元包括药液喷头，所述纯水刷洗子单元包括滚刷和纯水喷头，所述高压喷淋子单元包括高压喷头，所述超声波子单元包括超声源和喷头。
9.根据权利要求1-8任意一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述清洗单元还包括气刀干燥子单元，所述气刀干燥子单元置于超声波子单元后。
专利摘要本实用新型实施例公开了一种基板清洗装置，涉及液晶显示器制造领域，解决了由于基板上的颗粒的自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒的问题。本实用新型实施例提供的基板清洗装置，包括清洗舱，贯穿所述清洗舱且位于所述清洗舱上方的传送单元，以及设置在所述清洗舱内部且位于所述清洗舱底部的清洗单元，所述清洗单元的清洗口朝向所述传送单元。本实用新型可以应用在液晶显示器制造领域中，如TFT阵列基板的制造。
文档编号B08B7/04GK202196758SQ201120329820
公开日2012年4月18日 申请日期2011年9月5日 优先权日2011年9月5日
发明者左远洋, 秦纬 申请人:北京京东方光电科技有限公司