专利名称：一种硅片冲洗机构的制作方法
技术领域：
一种硅片冲洗机构技术领域[0001]本实用新型涉及硅片加工技术领域，尤其涉及一种硅片冲洗机构。
技术背景[0002]现有技术中存在一种对硅片进行冲洗的水洗系统，如图1所示，risel槽、rise2 槽和rise3槽三者是相互连通的，且risel槽内含有少量酸(例如氢氟酸HF、硝酸HNO3)， rise2槽内含有少量碱(例如氢氧化钾K0H)，rise3槽内含有少量酸(例如氯化氢HCL)，由图1可知，rise3槽与rise2槽之间通过溢流管相连通，rise2槽与risel槽之间通过溢流管相连通，整个水洗系统只有一个进水阀，进水阀首先将水排进rise3槽，当水位超过溢流管时，水会通过溢流管流入rise2槽，当rise2槽内的水位超过溢流管时，水会通过溢流管流入risel槽，通过这样的方式，三个槽内都将储存一定的水量用于冲洗硅片。但是三个槽内由于酸碱性是不同的(例如risel为酸性，rise2为碱性，rise3为酸性)，酸碱结合很容易生成晶体盐(例如生成氯化钾KCL、硝酸钾KN03)，在每个槽下方的泵工作时使会将各自槽内的水重新抽入喷淋管，实现对水资源的循环利用，此时产生的晶体盐会堵塞滤芯从而使循环水的压力不足，降低了喷淋管对硅片的冲洗效率，导致硅片的加工工艺不稳定；且由于生成的晶体盐会堵塞滤芯，故需要经常更换滤芯，提高了冲洗硅片的成本。实用新型内容[0003]本实用新型实施例提供了一种硅片冲洗机构，能够避免滤芯被堵塞，解决了循环水的压力不足的问题，提高了喷淋管对硅片的冲洗效率，且不需要经常更换滤芯，降低了冲洗硅片的成本。[0004]本实用新型实施例提供的硅片冲洗机构，包括第一酸冲洗槽、碱冲洗槽、第二酸冲洗槽、第一进水阀、第二进水阀、第三进水阀、第一溢流管、第二溢流管、第三溢流管，其中，[0005]所述第一进水阀独立的向所述第一酸冲洗槽排进水，所述第二进水阀独立的向所述碱冲洗槽排进水，所述第三进水阀独立的向所述第二酸冲洗槽排进水；[0006]所述第一溢流管独立的将所述第一酸冲洗槽内超过所述第一溢流管高度的水排出所述第一酸冲洗槽，所述第二溢流管独立的将所述碱冲洗槽内超过所述第二溢流管高度的水排出所述第二酸冲洗槽，所述第三溢流管独立的将所述第二酸冲洗槽内超过所述第三溢流管高度的水排出所述第二酸冲洗槽；[0007]所述第一酸冲洗槽、所述碱冲洗槽、所述第二酸冲洗槽两两之间互相不连通。[0008]从以上技术方案可以看出，本实用新型实施例具有以下优点[0009]本实用新型实施例提供的硅片冲洗机构，由于三个槽之间是两两之间互相不连通，即三个槽中每两个槽之间是互相隔开的，且每个槽都独立的配置有溢流管，可以避免酸碱结合生成晶体盐而将滤芯堵塞，由于滤芯不会被堵塞，解决了循环水的压力不足的问题， 提高了喷淋管对硅片的冲洗效率，使硅片的加工工艺稳定；且由于不会产生晶体盐故不会堵塞滤芯，从而不需要经常更换滤芯，降低了冲洗硅片的成本；且每个槽都独立的配置进水阀，故硅片在每个槽内时可以进行充分的冲洗，提高了喷淋管对硅片的冲洗效率。
[0010]图1为现有的水洗系统的示意图；[0011]图2为本实用新型提供的硅片冲洗机构的结构组成示意图；[0012]图3为本实用新型提供的水洗系统的结构组成示意图。
具体实施方式
[0013]本实用新型实施例提供了一种硅片冲洗机构，能够避免滤芯被堵塞，解决了循环水的压力不足的问题，提高了喷淋管对硅片的冲洗效率，且不需要经常更换滤芯，降低了冲洗硅片的成本。[0014]
以下结合附图和具体实施例对本实用新型的硅片冲洗机构作进一步说明，以助于理解本实用新型的内容。[0015]如图2所示，本实用新型提供的硅片冲洗机构，包括第一酸冲洗槽201、碱冲洗槽 202、第二酸冲洗槽203、第一进水阀204、第二进水阀205、第三进水阀206、第一溢流管207、 第二溢流管208、第三溢流管209。其中，[0016]第一进水阀204独立的向第一酸冲洗槽201排进水，第二进水阀205独立的向碱冲洗槽202排进水，第三进水阀206独立的向第二酸冲洗槽203排进水。[0017]第一溢流管207独立的将第一酸冲洗槽201内超过第一溢流管207高度的水排出第一酸冲洗槽201，第二溢流管208独立的将碱冲洗槽202内超过第二溢流管208高度的水排出第二酸冲洗槽202，第三溢流管209独立的将第二酸冲洗槽203内超过第三溢流管209 高度的水排出第二酸冲洗槽203。[0018]第一酸冲洗槽201、碱冲洗槽202、第二酸冲洗槽203两两之间互相不连通。[0019]需要说明的是，如图2所示，本实用新型实施例中的第一酸冲洗槽201含有少量酸 (例如氢氟酸HF、硝酸HN03)，即与图1中描述的risel槽相类似，与risel不同的是第一酸冲洗槽201没有与碱冲洗槽202相连通，并且第一酸冲洗槽201中的第一溢流管207也是独立的，并不与碱冲洗槽202相连通。[0020]本实用新型实施例中的碱冲洗槽202含有少量碱(例如氢氧化钾Κ0Η)，即与图1 中描述的rise2槽相类似，与rise2槽不同的是碱冲洗槽202没有与第一酸冲洗槽201、第二酸冲洗槽203相连通，并且碱冲洗槽202中的第二溢流管208也是独立的，并不与第一酸冲洗槽201、第二酸冲洗槽203相连通。[0021]本实用新型实施例中的第二酸冲洗槽203含有少量酸(例如氯化氢HCL)，即与图 1中描述的rise3槽相类似，与rise3不同的是第二酸冲洗槽203没有与碱冲洗槽202相连通，并且第二酸冲洗槽203中的第三溢流管209也是独立的，并不与碱冲洗槽202相连通。[0022]另外与现有技术中不同的，本实用新型实施例中，第一酸冲洗槽201、碱冲洗槽 202、第二酸冲洗槽203分别配置有独立的第一进水阀204、第二进水阀205、第三进水阀 206，故硅片在每个槽内时可以进行充分的冲洗，提高了喷淋管对硅片的冲洗效率。[0023]本实用新型实施例提供的硅片冲洗机构，由于三个槽之间是两两之间互相不连通，即三个槽中每两个槽之间是互相隔开的，且每个槽都独立的配置有溢流管，可以避免酸碱结合生成晶体盐而将滤芯堵塞，解决了循环水的压力不足的问题，提高了喷淋管对硅片的冲洗效率，使硅片的加工工艺稳定；且由于不会产生晶体盐故不会堵塞滤芯，从而不需要经常更换滤芯，降低了冲洗硅片的成本；且每个槽都独立的配置进水阀，故硅片在每个槽内时可以进行充分的冲洗，提高了喷淋管对硅片的冲洗效率。[0024]接下来介绍一下本实用新型实施例提供的硅片冲洗机构的一个具体应用场景如图3所示，一个水洗系统从左至右分别为酸刻蚀槽210、第一酸冲洗槽201、碱洗槽211、碱冲洗槽202、酸洗槽212、第二酸冲洗槽203。[0025]对于第一酸冲洗槽201中，第一酸冲洗槽201的上部设置有第一进水阀204，第一酸冲洗槽201的内部上方设置有第一喷淋管213，第一酸冲洗槽201的中下部设置有第一滤网216，第一酸冲洗槽201的底部设置有第一溢流管207、第一排水阀222和通过第一滤芯 219相连的第一泵225。[0026]对于碱冲洗槽202中，碱冲洗槽202的上部设置有第二进水阀205，碱冲洗槽202 的内部上方设置有第二喷淋管214，碱冲洗槽202的中下部设置有第二滤网217，碱冲洗槽 202的底部设置有第二溢流管208、第二排水阀223和通过第二滤芯220相连的第二泵226。[0027]对于第三酸冲洗槽203中，第三酸冲洗槽203的上部设置有第三进水阀206，第三酸冲洗槽203的内部上方设置有第三喷淋管215，第三酸冲洗槽203的中下部设置有第三滤网218，第三酸冲洗槽203的底部设置有第三溢流管209、第三排水阀2 和通过第三滤芯 221相连的第三泵227。[0028]下面介绍一下如图3所示的水洗系统的工作流程第一酸冲洗槽201的第一进水阀204排进水，碱冲洗槽202的第二进水阀205排进水，第三酸冲洗槽203的上第三进水阀 206排进水。[0029]首先硅片经过酸刻蚀槽210的刻蚀后，进入第一酸冲洗槽201，第一酸冲洗槽201 的第一喷淋管213冲洗硅片，第一喷淋管喷淋的水进入第一酸冲洗槽201的内槽(即图3 中第一酸冲洗槽201的第一滤网216的下部)，然后经过第一滤芯219过滤的水由第一泵 225抽出后再送到第一喷淋管213继续冲洗其它的硅片，形成一个泵循环的过程，达到水的循环使用，达到节约用水的目的。但是在冲洗的过程中会有一小部分水通过风刀和硅片损失掉，因此需要对第一进水阀204会对槽内补水才能达到长时间的正常工作。[0030]当硅片从第一酸冲洗槽201冲洗完之后，硅片进入碱洗槽211，将硅片在第一酸冲洗槽201内时粘带的酸中和掉。然后进入碱冲洗槽202，其冲洗过程和硅片在第一酸冲洗槽 201内的冲洗过程相同，此处不再赘述。[0031]当硅片从碱冲洗槽202冲洗完之后，硅片进入酸洗槽212，将硅片在碱冲洗槽202 内时粘带的碱中和掉。然后进入第二酸冲洗槽203，其冲洗过程和硅片在第一酸冲洗槽201 内的冲洗过程相同，此处不再赘述。[0032]第一排水阀222、第二排水阀223、第三排水阀2M分别用于将各自槽内的水排出。[0033]以上对本实用新型所提供的一种硅片冲洗机构进行了详细介绍，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型实施例的思想，在具体实施方式
及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
权利要求1. 一种硅片冲洗机构，其特征在于，包括第一酸冲洗槽、碱冲洗槽、第二酸冲洗槽、第一进水阀、第二进水阀、第三进水阀、第一溢流管、第二溢流管、第三溢流管，其中，所述第一进水阀独立的向所述第一酸冲洗槽排进水，所述第二进水阀独立的向所述碱冲洗槽排进水，所述第三进水阀独立的向所述第二酸冲洗槽排进水；所述第一溢流管独立的将所述第一酸冲洗槽内超过所述第一溢流管高度的水排出所述第一酸冲洗槽，所述第二溢流管独立的将所述碱冲洗槽内超过所述第二溢流管高度的水排出所述第二酸冲洗槽，所述第三溢流管独立的将所述第二酸冲洗槽内超过所述第三溢流管高度的水排出所述第二酸冲洗槽；所述第一酸冲洗槽、所述碱冲洗槽、所述第二酸冲洗槽两两之间互相不连通。
专利摘要本实用新型公开了一种硅片冲洗机构，包括第一酸冲洗槽、碱冲洗槽、第二酸冲洗槽、第一进水阀、第二进水阀、第三进水阀、第一溢流管、第二溢流管、第三溢流管，第一进水阀独立的向第一酸冲洗槽排进水，第二进水阀独立的向碱冲洗槽排进水，第三进水阀独立的向第二酸冲洗槽排进水；第一溢流管独立的将第一酸冲洗槽内超过第一溢流管高度的水排出第一酸冲洗槽，第二溢流管独立的将碱冲洗槽内超过第二溢流管高度的水排出第二酸冲洗槽，第三溢流管独立的将第二酸冲洗槽内超过第三溢流管高度的水排出第二酸冲洗槽；第一酸冲洗槽、碱冲洗槽、第二酸冲洗槽两两之间互相不连通。
文档编号B08B3/02GK202238742SQ20112034808
公开日2012年5月30日 申请日期2011年9月16日 优先权日2011年9月16日
发明者吴磊, 郭贵东 申请人:浚鑫科技股份有限公司