改善头皮屑之组成物的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种可有效改善头皮屑之组成物，其包含浓度以总重量计不大于10 wt%之甘油、浓度以总重量计不大于10 wt%之第二低分子量多元醇、及水。本发明之改善头皮屑之组成物，由于完全不含化学接口活性剂、抗菌剂、或起泡剂，故不会引发过敏，并具有成分简单、成本低廉、效果卓越之优点，适合长期使用。
【专利说明】改善头皮屑之组成物
【【技术领域】】
[0001]本发明涉及改善皮肤脱屑情形之配方，特别是有关于能够有效改善头皮屑之组成物。
【【背景技术】】
[0002]皮肤炎系指皮肤发炎之病症。皮肤炎之患者，除了外观上通常伴随着囊泡、红斑、渗出液、落屑皮疹或结痂病变以外，更可能出现剧痒难耐之现象。因此，皮肤炎对于生活质量及身心健康所产生之负面影响,不容小觑。
[0003]皮肤之角质层位于身体最外层，主要功能为隔离外界有害物质并将水份保持于体内。正常皮肤需要约一个月的时间才会逐渐成熟，并以肉眼无法察觉之方式脱落，以代谢老化角质层。一般而言，当环境的相对湿度小于50 %时，皮肤角质层水份含量便低于10 %，角质层因此丧失柔软度，进而干燥脱落致使皮肤损伤、发炎。一般的皮肤炎，可以藉由暂时局部涂抹类固醇药膏如皮质醇(Cort.S)、克廷肤(Cutivate),同时减少环境中的刺激(例如使用无刺激性之清洁用品或尽量用清水洗澡)，而有效获得缓解。
[0004]头皮屑为极常见且恼人之头皮问题，尽管不会危害健康，但相伴而生之头皮发痒、头部脱落之皮屑增多等症状，却常造成社交与人际关系之障碍与困扰。头皮屑的可能原因包括:脂漏性皮肤炎、干癣、某些化学物品(如染发剂、发雕或发腊)引起之接触性皮肤炎、霉菌感染(头癣)、久未洗头等。此外，压力、情绪紧张、营养失调、睡眠不足、过劳，亦被认为可能加速头皮屑形成。
[0005]与一般部位皮肤不同的是，头皮屑患者的头皮部位，平均二至七天即形成肉眼明显可见之大块白色皮屑。脂漏性皮肤炎为导致头皮屑发生之头号原因，而头皮屑亦为头皮漏脂性皮肤炎患者最常见之症状。已知此类型头皮屑之成因，与皮肤上的真菌(即皮屑芽孢菌，包括Malassezia furfur与Malassezia globosa)过度滋生有关。根据研究指出，在产生头皮屑之部位，皮屑芽胞菌之菌量可高达正常水平的1.5至2倍。这些真菌会代谢皮脂内的三酸甘油酯而形成油酸(oleic acid)，当油酸渗透入表皮的角质层后，将诱使某些体质较敏感者之皮肤发炎，进而干扰角质细胞之生理恒定性，导致不正常的脱落反应，因而产生头皮屑。
[0006]某些含有焦油(tar)成分之洗发精，对于抑制头皮干癣与脂漏性皮肤炎所引发之头皮屑皆有效果，但大部分的「抗屑洗发精」则效果不佳。市售之抗屑洗发精之成分主要有:克多可那挫(ketoconazole)、卩比硫锋(zinc pyrith1ne, ZP)、水杨酸(salicylic acid)、二硫化硒(selenium sulfide, SeS2)、环卩比酮胺(ciclopirox olamine, CP0)、轻卩比酮(piroctone olamine)、卩比唳硫酮盐类(pyridineth1ne salts),可参考例如US 4, 835, 148及US 6，538，011所揭露者。
[0007]有学术研究显示，在身体之任何部位，皆可见脂肪存在于角质细胞之间，形成所谓"bricks and mortar”(砖块与泥浆)之结构。与皮肤面垂直之脂肪分子彼此系呈平行排列(平行脂肪膜层)，且各列脂肪分子间形成宽-窄-宽(4 nm-2 nm-4 nm)之间隔，此种型态最能有效防止体内水份向外通透(Bouwstra JA et al., J Lipid Res: 39: 186-196)。若此结构被破坏或改变，防止水份蒸发的功能即明显下降。已知某些化学物质会破坏角质细胞间隙之正常脂肪层排列方式，例如劣质乳化剂及界面活性剂，使皮肤缺水干燥或变得敏感，甚至红肿、脱屑。
[0008]另有研究指出(许雅玲，台湾成功大学临床药学研究所硕士论文，2007):每天持续在正常无毛鼠皮肤上涂抹人类皮脂，皮肤表面将产生发炎反应，且皮屑增多、经皮水份散失于一周内增加3-4倍，而表皮含水量减少至正常时的三分之一。停止涂抹人类皮脂后，皮肤约在五天内即逐渐恢复正常屏蔽(barrier)功能。此外，涂抹不饱和脂肪酸亦会降低皮肤屏蔽功能，使表皮增生及角质层细胞间隙脂肪分子之结构发生改变，对于皮肤炎之舒缓反而有害。
[0009]目前已知之抗屑方式大多着重于润洗头皮或杀死皮屑芽孢菌；然而，此类方法仍系「治标」而不「治本」。因此，有必要开发一种可帮助头皮恢复正常屏蔽功能且性质温和、甚至适用于初生婴儿之药剂或组成物。
【
【发明内容】
】
[0010]有鉴于上述问题，本发明旨在提供一种改善头皮屑之组成物，其可与体内水分子形成氢键，而加强皮肤的锁水保湿作用，使皮肤恢复原有之机能，以解决习知抗头皮屑配方效果不彰之缺失。
[0011]本发明之改善头皮屑之组成物，包含浓度以总重量计不大于10 wt%之甘油、浓度以总重量计不大于10 wt%2第二低分子量多元醇、及水。第二低分子量多元醇系选自于丙二醇(Propylene Glycol, PG)、1，3_ 丁二醇(1，3-Butylene Glycol, BG)、己六醇(Sorbital)、聚乙二醇(PolyEthylene Glycol, PEG)其中一者或其二者以上之组合。
[0012]在一优选实施例中，甘油浓度以总重量计为5 wt%以下，第二低分子量多元醇之总浓度以重量计为7 wt%以下。
[0013]在另一优选实施例中，甘油浓度以总重量计为2-3 wt%，第二低分子量多元醇之总浓度以重量计为5-7 wt%0
[0014]在又一优选实施例中，甘油浓度以总重量计为2-3 wt%，第二低分子量多元醇之总浓度以重量计为5-7 wt%，且第二低分子量多元醇包含己六醇。
[0015]本发明之改善头皮屑之组成物用途广泛。不仅可直接外用涂抹于头皮，更可用于制造医药品、护发用品、美妆品、保养品、或护肤香水。
[0016]本发明之功效在于可提供皮肤自我修复之环境，使皮肤角质细胞间隙之脂肪分子维持正常排列，如此，头皮自然可维持正常的含水量，而不致产生头皮屑。又，本发明之改善头皮屑之组成物，由于完全不含界面活性剂、抗菌剂、或起泡剂，故不会引发过敏，并具有成分简单、成本低廉、效果卓越之优点。
【【专利附图】
【附图说明】】
[0017]无【【具体实施方式】】
[0018]有关本发明的特征、实作与功效，兹配合图式详细说明各实施例如下。
[0019]如先前技术所揭露者，在皮肤表面涂抹皮脂，反而会破坏角质层脂肪分子之正常排列，使皮肤屏蔽能力下降。本案发明人遂研发一种可以使皮肤保持正常屏蔽能力之组成物，对于改善或治疗恼人的头皮屑尤其有效。此组成物包含10 wt%以下之甘油、10被％以下之另一(第二)低分子量多元醇、其余为水。
[0020]众所周知，甘油(学名:丙三醇)为三元醇，是常用之小分子水溶性保湿成分；1克甘油约可吸住0.6克的水。本发明所用之甘油，其来源并不受限，举例而言，可为合成甘油、植物甘油、酸酵甘油、或制皂工业过程中所产生之甘油。甘油之浓度不超过整体组成物之10wt%，例如可为8 wt%, I wt%, 0.1 wt%，较佳为5 wt%以下，最佳为2-3 wt%。
[0021]在本发明中，第二低分子量多元醇之例子包括丙二醇(Propylene Glycol, PG),I, 3-丁二醇(1，3-Butylene Glycol,BG)、己六醇(分子式C6H14O6,包含互为镜像异构物之山梨醇(sorbitol)及甘露醇(mannitol)两类)、聚乙二醇(PolyEthylene Glycol, PEG)、或其二者以上之组合。然本发明之第二多元醇并不以上述为限，在此领域具有通常知识者可采用任何低分子量、且对肌肤无刺激性之多元醇；此外，第二多元醇之来源亦无限制，其总浓度亦占整体组成物之10 wt%以下，例如可为10 wt%, 6 wt%, 0.7 wt%，较佳为7 wt%以下，最佳为5-7 wt%0
[0022]在一优选实施例中，第二低分子量多元醇可由适当比例之丙二醇及1，3_ 丁二醇所组成，其总浓度为5 wt% (例如丙二醇占2.1 wt%，1,3-丁二醇占2.9 wt%);在另一优选实施例中，第二低分子量多元醇可由适当比例之1，3-丁二醇、己六醇及聚乙二醇所组成，其总浓度为6 wt%(例如1，3-丁二醇、己六醇、聚乙二醇各占2 wt%);在又一优选实施例中，第二低分子量多元醇可由适当比例之丙二醇、1，3-丁二醇、己六醇及聚乙二醇所组成，其总浓度为7 wt% (例如丙二醇占1.7 wt%，I, 3- 丁二醇占I wt%，己六醇占4 wt%，聚乙二醇占
0.3 wt%);在再一优选实施例中，第二低分子量多元醇仅包含己六醇，浓度为5 wt%0
[0023]然而，在此领域具有通常知识者应明瞭:以上仅为举例，并不用以限制本发明，吾人可使用其它个别浓度、比例、或组合之第二低分子量多元醇。
[0024]又，应明瞭者，本案所指之「低分子量」一般代表约400 Da以下；惟对于聚乙二醇而言，由于其属于聚合物分子，考虑其化学性质与用途，系代表分子量约600 Da以下者。
[0025]应注意者，因本发明组成物之成分单纯且对身体或皮肤无危险性，在此领域具有通常知识者依照本说明书之揭露内容，即可明瞭如何配制，故于此不赘述。
[0026]由于甘油及第二低分子量多元醇皆为水溶性，而水为此组成物中含量最高者，故本发明之组成物外观上为一几近于匀相之透明水溶液。因此，当被涂抹于头皮上时，并不会对使用者造成困扰；即使长期使用亦不会对身体造成负担或伤害，实为一既安全又有效之抗头皮屑配方。
[0027]本发明之改善头皮屑之组成物用途广泛。不仅可直接外用涂抹于头皮，更可作为添加于医药品、护发用品、美妆品、保养品、或护肤香水中之成分，对皮肤提供有效的保护。
[0028]上述本发明之改善头皮屑之组成物(水溶液)，系以提供氢键为手段，间接维持皮肤角质细胞间隙之脂肪分子之正常排列。此外，其具有成分简单、成本低廉、效果卓越之优点，且完全不含一般护肤用品常用之界面活性剂、抗菌剂、或起泡剂，故无引发过敏之虞，极适合长期使用。当头皮能保持正常的含水量时，自然不会产生头皮屑，也不会因干燥而发痒。
[0029]虽然本发明之实施例揭露如上所述，然并非用以限定本发明，任何熟习相关技艺者，在不脱离本发明之精神及范围内，当可实施些许之调整或变更，因此，本发明之专利保护范围须以本说明书所附之权利要求书界定者为准。
【权利要求】
1.一种改善头皮屑之组成物，其特征在于，所述组成物包含: 甘油，浓度以重量计不大于10 wt% ； 第二低分子量多兀醇，浓度以重量计不大于10 wt%;和水。
2.根据权利要求1所述的改善头皮屑之组成物，其特征在于，其中所述第二低分子量多兀醇是丙二醇(Propylene Glycol,PG)> I, 3_丁二醇(I, 3-Butylene Glycol,BG)、己六醇(Sorbital)、聚乙二醇(PolyEthylene Glycol, PEG)其中一者或二者以上之组合。
3.根据权利要求1或2所述的改善头皮屑之组成物，其特征在于，其中所述第二低分子量多元醇之总浓度以重量计是5-7 wt%。
4.根据权利要求1或2所述的改善头皮屑之组成物，其特征在于，其中所述甘油之浓度以重量计为2-3 wt%,所述第二低分子量多元醇之总浓度以重量计是5-7 wt%。
5.根据权利要求1或2所述的改善头皮屑之组成物，其特征在于，其中所述第二低分子量多元醇包含己六醇。
6.根据权利要求3所述的改善头皮屑之组成物，其特征在于，其中所述第二低分子量多元醇包含己六醇。
7.根据权利要求6所述的改善头皮屑之组成物，其特征在于，其中所述第二低分子量多元醇是己六醇。
8.一种根据权利要求1所述的改善头皮屑之组成物用于制造医药品之用途。
9.一种根据权利要求1所述的改善头皮屑之组成物用于制造护发用品之用途。
10.一种根据权利要求1所述的改善头皮屑之组成物用于制造化妆品或保养品之用途。
【文档编号】A61Q19/00GK104224763SQ201310232382
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2013年6月13日 优先权日:2013年6月13日
【发明者】徐其旿 申请人:徐其旿