专利名称：超高压水射除膜清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种超高压水射除膜清洗装置。
背景技术：
超高压水射流清洗技术是近年来在国际上发展起来的一门高科技技术，该技术主要利用高速水射流的动能来剥离表面顽垢。现有的超高压水射流清洗装置是以水为介质，通过柴油机组或电机组驱动大流量增压器，将水加压至300Mpa的压力，再通过呈圆周排列的多个宝石喷嘴喷射而出，喷嘴由油压或者气压驱动旋转，形成多束、多角度、强度各异的超高压旋转水射流。对需要清洁的表面、设备内结垢和附着物以及堵塞物进行超高压清洗工作。不管什么结垢沉积物，超高压水射流清洗技术都能使这些问题迎刃而解，将污垢彻底清除，留下清洁、光滑的表面。它比人工清洗快的多，不需要化学药品、溶剂或腐蚀剂，也不需要同时采用成本很高的安全措施，使之更洁净、更环保。但是，现有的超高压水射流清洗装置大多为清洗地面而设计，它不适合于除膜工艺中的使用，如不太适合于对TFT显示模组的夹具、太阳能模组的夹具、电路板的夹具以及模具加工夹具的除膜清洗。
实用新型内容为了克服上述问题，本实用新型向社会提供一种适合于在除膜工艺中使用的超高压水射除膜清洗装置。本实用新型的技术方案是提供一种超高压水射除膜清洗装置，包括超高压水射流发生器，高压水管及喷射清洗头，所述喷射清洗头通过高压水管与所述超高压水射流发生器连接，所述喷射清洗头的出水口呈扁平扇形。作为对本实用新型的改进，在所述出水口设有两个以上的宝石喷嘴。
使用本实用新型进行表面清洗，与传统的人工、机械清洗及化学清洗、生物清洗等其他清洗方式相比，有如下优点:—是水射流的压力与流量可以方便地调节，因而不会损伤被清洗物的基体；二是超高压水射流不会造成二次污染，清洗过后如无特殊要求，不需要进行清洁处理；三是洗形状和结构复杂的物件，能在空间狭窄或环境恶劣的场合进行清洗作业；四是与化学清洗、生物清洗不同，超高压水射流清洗无有害物质排放与环境污染问题；五是超高压水射流清洗快速、彻底。如热交换器的清净率为95%以上，锅炉除垢率达95%以上；六是清洗成本低，大约只有化学清洗的1/3左右，即超高压水射流清洗属于细射流，属于节能型设备；七是超高压水射流清洗对设备材质、特性、形状及垢物种类均无特殊要求，只要求水射流能达以即可。
图1是本实用新型一种实施例的结构示意图。
具体实施方式
请参见图1，图1揭示的是一种超高压水射除膜清洗装置，包括超高压水射流发生器1，高压水管2及喷射清洗头3，所述喷射清洗头3通过高压水管2与所述超高压水射流发生器I连接，其特征在于:所述喷射清洗头3的出水口 31呈扁平扇形。在所述出水口31设有两个·以上的宝石喷嘴。
权利要求1.一种超高压水射除膜清洗装置，包括超高压水射流发生器(I )，高压水管(2)及喷射清洗头(3 )，所述喷射清洗头(3 )通过高压水管(2 )与所述超高压水射流发生器(I)连接，其特征在于:所述喷射清洗头(3)的出水口(31)呈扁平扇形。
2.根据权利要求1所述的超高压水射除膜清洗装置，其特征在于:在所述出水口(31)设有两个以上的宝石 喷嘴。
专利摘要一种超高压水射除膜清洗装置,包括超高压水射流发生器，高压水管及喷射清洗头，所述喷射清洗头通过高压水管与所述超高压水射流发生器连接，所述喷射清洗头的出水口呈扁平扇形。本实用新型具有适合于在除膜工艺中使用的优点。
文档编号B08B3/02GK203140342SQ20132004781
公开日2013年8月21日 申请日期2013年1月29日 优先权日2013年1月29日
发明者刘岗 申请人:刘岗