硅片多级循环清洗设备的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了硅片清洗设备【技术领域】中的一种硅片多级循环清洗设备，包括进料槽、出料槽、去污槽、药液槽，漂洗槽、进水管和排污管，其中去污槽为四个，药液槽为二个，漂洗槽为四个，进水管分别与进料槽、四个去污槽、二个药液槽、四个漂洗槽和出料槽相连，其特征在于：还包括一个收集箱，四个漂洗槽、出料槽的排水管与收集箱相连，进料槽、四个去污槽和二个药液槽的排水管与排污管相连，收集箱外设有水泵，水泵与收集箱、进料槽之间管道相连,收集箱内设置液位感应器。本实用新型利用收集箱回收漂洗水可以实现水的循环利用、降低水耗及生产成本，增加液位感应器可以实现设备的自动化程度，从而提高设备利用率。
【专利说明】硅片多级循环清洗设备
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及硅片清洗设备【技术领域】。
【背景技术】
[0002]太阳能电池硅片在切割后必需经过多级清洗，以去除附着在硅片表面的砂浆。目前所用清洗设备为多级槽式清洗机，硅片清洗设备主要是利用纯水及超声波将硅片依次进入8个以上的水槽内清洗干净，附着切割液的硅片随着设备的运作，依次进入各个水槽，待清洗硅片从第一个清洗槽开始逐级清洗后移出，在第一个清洗槽中硅片表面附着的杂质最多，以后将逐级减少，除固定更换的两个药液槽外，其余各个水槽都需要不间断注入新水，使槽内清洗硅片后的水构成流动的更换，各级清洗槽所排出的污水直接排放，清洗硅片所耗水量很大，存在很大的水资源浪费问题，而且还会污染环境。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种布置合理、降低水耗及生产成本、自动化程度高、提高设备利用率的硅片多级循环清洗设备。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型所采取的技术方案是:
[0005]一种硅片多级循环清洗设备，包括进料槽、出料槽、去污槽、药液槽，漂洗槽、进水管和排污管，其中去污槽为四个，药液槽为二个，漂洗槽为四个，进水管分别与进料槽、四个去污槽、二个药液槽、四个漂洗槽和出料槽相连，其特征在于:还包括一个收集箱，四个漂洗槽、出料槽的排水管与收集箱相连，进料槽、四个去污槽和二个药液槽的排水管与排污管相连，收集箱外设有水泵，水泵与收集箱、进料槽之间管道相连。
[0006]优选的，所述收集箱内设置液位感应器。
[0007]优选的，所述液位感应器与水泵导线连接。
[0008]采用上述技术方案所产生的有益效果在于:本实用新型利用收集箱回收漂洗水可以实现水的循环利用、降低水耗及生产成本，增加液位感应器可以实现设备的自动化程度，从而提高设备利用率。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1是本实用新型的结构示意图；
[0010]图中:1_进料槽，2-出料槽，3-去污槽，4-药液槽，5-漂洗槽，6-进水管，7-排污管，8-收集箱，9-水泵。
【具体实施方式】
[0011]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细的说明。
[0012]如图1所示，一种硅片多级循环清洗设备，包括进料槽1、出料槽2、去污槽3、药液槽4,漂洗槽5、进水管6和排污管7,其中去污槽3为四个,药液槽4为二个,漂洗槽5为四个，进水管6分别与进料槽1、四个去污槽3、二个药液槽4、四个漂洗槽5和出料槽2相连，其特征在于:还包括一个收集箱8，四个漂洗槽5、出料槽2的排水管与收集箱8相连，进料槽1、四个去污槽3和二个药液槽4的排水管与排污管7相连，收集箱8外设有水泵9，水泵9与收集箱8、进料槽I之间管道相连，所述收集箱8内设置液位感应器，所述液位感应器与水泵9导线连接。
[0013]硅片多级循环清洗设备主要是利用纯水及超声波将硅片依次进入八个以上的水槽内清洗干净，且除固定更换的两个药液槽4外，其余各个水槽都需要不间断注入新水，使槽内清洗硅片后的水构成流动的更换，本实用新型包括进料槽1、出料槽2、四个去污槽3，二个药液槽4，四个漂洗槽5、进水管6和排污管7，附着切割液的硅片随着设备的运作，依次进入各个水槽，最后四个漂洗槽5主要承担着经过药液后硅片的漂洗工作，而设备前几个水槽:进料槽1、四个去污槽3是脏污最严重的水槽，都需要溢流将槽内污水进行更替，也是主要使用溢流的水槽，将设备漂洗槽排水管路进行改造，将溢流排出的水引入一个收集箱8内，再通过水泵9抽出，连接管路到清洗设备的第一个进料槽I内，将设备最后四个漂洗槽5和出料槽2的溢流水进行循环利用，另外在收集箱8中安装液位感应器，液位感应器通过导线与水泵9连接，可以根据液压的高低自动控制水泵9的启停，使之达到自动化，使清洗过程更加的合理方便。
[0014]本实用新型利用收集箱回收漂洗水可以实现水的循环利用、降低水耗及生产成本，增加液位感应器可以实现水泵的自动启停，提高设备的自动化程度，从而提高设备利用率。
【权利要求】
1.一种硅片多级循环清洗设备，包括进料槽(I)、出料槽(2)、去污槽(3)、药液槽(4)、漂洗槽(5)、进水管(6)和排污管(7),其中去污槽(3)为四个,药液槽(4)为二个,漂洗槽(5)为四个，进水管(6)分别与进料槽(I)、四个去污槽(3)、二个药液槽(4)、四个漂洗槽(5)和出料槽(2)相连，其特征在于:还包括一个收集箱(8)，四个漂洗槽(5)、出料槽(2)的排水管与收集箱(8)相连，进料槽(I)、四个去污槽(3)和二个药液槽(4)的排水管与排污管(7)相连，收集箱(8 )外设有水泵(9 )，水泵(9 )与收集箱(8 )、进料槽(I)之间管道相连。
2.根据权利要求1所述的硅片多级循环清洗设备，其特征在于:所述收集箱(8)内设置液位感应器。
3.根据权利要求2所述的硅片多级循环清洗设备，其特征在于:所述液位感应器与水泵(9)导线连接。
【文档编号】B08B3/08GK203389887SQ201320367106
【公开日】2014年1月15日 申请日期:2013年6月25日 优先权日:2013年6月25日
【发明者】刘彬国, 何京辉, 李立伟, 史彪 申请人:邢台晶龙电子材料有限公司