一种双六边形纹路打击面的高尔夫推杆杆头的制作方法

文档序号:16002514发布日期:2018-11-20 19:38阅读:397来源:国知局
一种双六边形纹路打击面的高尔夫推杆杆头的制作方法

本实用新型涉及高尔夫球运动产品领域,特别涉及一种双六边形纹路打击面的高尔夫推杆杆头。



背景技术:

高尔夫球杆球头的打面是高尔夫球杆的关键部位,直接影响高尔夫球的击球效果。在打击面的打击区域中,一般均设有相对较深的线沟槽和相对较浅的打击纹路。在加工时,先用铣削加工的方式将球头打击面加工平整,再刻画线沟槽。由于铣削刀具是以旋转方式作业,因此,加工出的打击面打击纹路是呈等直径圆弧形状,这种打击纹路就局部而言实际上是十分不均匀的,打击平面的多个区域中的打击纹路的方向、角度和密度都是不一致的,这样,在进行打击面粗糙度测试时,不同的区域就会呈现不同的粗糙度值;从实际击球效果上说,由于不同区域与球体接触的打击纹路方向、角度等不一致,即便在包括球杆运动方向、运动速度、力量、球体受力面位置等各种因素相同的情况下,同一打击面也会出现不同的击球效果,这样就给使用者掌控球体飞行线路带来更大的困难。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足,提供一种双六边形纹路打击面的高尔夫推杆杆头。

为解决上述问题,本实用新型提供以下技术方案:

一种双六边形纹路打击面的高尔夫推杆杆头,包括杆头本体,杆头本体的前端设有触球区域,触球区域设有打击纹路,打击纹路由若干凹槽组构成,凹槽组包括内六边形凹槽以及套设在内六边形凹槽外部的外六边形凹槽,内六边形凹槽和外六边形凹槽的中心点为一点,并且内六边形凹槽的两个顶点之间的连接线与外六边形凹槽的两个顶点之间的连接线能够为同一线段,若干凹槽组沿打击区域的纵向等间隔分布成多行,行内的凹槽组之间的间隔相同,相邻两行凹槽组交错分布。

进一步的,相邻两行凹槽组的相邻的外六边形凹槽的相邻两个边沿之间的垂直距离与行内的相邻的外六边形凹槽的相邻两个边沿之间的垂直距离相等。

进一步的,内六边形凹槽的深度与外六边形凹槽的深度相等。

进一步的,内六边形凹槽的深度与外六边形凹槽的深度为0.1~0.2mm。

进一步的,所述触球区域为不规则形,若干凹槽组分布在整个触球区域内,触球区域边沿处的凹槽组呈断裂状。

进一步的,杆头本体的背部设有凹槽,凹槽内设有由粘结层,凹槽内还设有通过所述粘结层固定在所述凹槽内的配重块。

进一步的,所述粘结层由胶水构成。

有益效果:本实用新型的一种双六边形纹路打击面的高尔夫推杆杆头,其触球区域由若干凹槽组构成,凹槽组包括内六边形凹槽以及套设在内六边形凹槽外部的外六边形凹槽,凹槽组均匀密布在整个触球区域内,使触球区域的均匀度保持一致,更利于让使用者掌控高尔夫球的飞行线路,减少不定因素的影响。

附图说明

图1为本实用新型平面结构示意图;

图2为本实用新型立体结构示意图;

图3为图2的局部放大图;

图4为本实用新型立体结构示意图;

附图标记说明:杆头本体1,凹槽组2,内六边形凹槽2a,外六边形凹槽2b,凹槽3。

具体实施方式

下面结合说明书附图和实施例,对本实用新型的具体实施例做进一步详细描述:

参照图1至图4所示的一种双六边形纹路打击面的高尔夫推杆杆头,包括杆头本体1,杆头本体1的前端设有触球区域,触球区域设有打击纹路,打击纹路由若干凹槽组2构成,凹槽组2包括内六边形凹槽2a以及套设在内六边形凹槽 2a外部的外六边形凹槽2b,内六边形凹槽2a和外六边形凹槽2b的中心点为一点,并且内六边形凹槽2a的两个顶点之间的连接线与外六边形凹槽2b的两个顶点之间的连接线能够为同一线段,若干凹槽组2沿打击区域的纵向等间隔分布成多行,行内的凹槽组2之间的间隔相同,相邻两行凹槽组2交错分布。

相邻两行凹槽组2的相邻的外六边形凹槽2b的相邻两个边沿之间的垂直距离与行内的相邻的外六边形凹槽2b的相邻两个边沿之间的垂直距离相等。

内六边形凹槽2a的深度与外六边形凹槽2b的深度相等。

内六边形凹槽2a的深度与外六边形凹槽2b的深度为0.1~0.2mm。

所述触球区域为不规则形,若干凹槽组2分布在整个触球区域内,触球区域边沿处的凹槽组2呈断裂状。

杆头本体1的背部设有凹槽3,凹槽3内设有由粘结层,凹槽3内还设有通过所述粘结层固定在所述凹槽3内的配重块,以用于调节平衡,使重心靠下,好起球。

所述粘结层由胶水构成。

本实用新型的触球区域由若干凹槽组2构成,凹槽组2包括内六边形凹槽2a 以及套设在内六边形凹槽2a外部的外六边形凹槽2b,凹槽组2均匀密布在整个触球区域内,使触球区域的均匀度保持一致,更利于让使用者掌控高尔夫球的飞行线路,减少不定因素的影响。

以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型的技术范围作出任何限制,故凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型的技术方案的范围内。

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