诸如气体放电灯的放电管的灯管的内涂层的制作方法

文档序号:1836907阅读:206来源:国知局

专利名称::诸如气体放电灯的放电管的灯管的内涂层的制作方法
技术领域
:本发明涉及灯管,尤其涉及用于放电灯的具有扩散阻挡内层的石英玻璃放电管,并且还涉及产生扩散阻挡内层的方法以及这种灯管的应用,例如按此方式生产的放电管。
背景技术
:已知石英玻璃或者氧化铝可以作为高压放电灯的灯头的管材料。在此情况下,首先必须考虑放电管材料对恒定气体放电过程的保护作用,以及因此要考虑灯的长期稳定性。带有封闭放电空间的放电管、电极以及填充物还称为"灯头"。限制这种灯头的寿命的主要过程是填充成分从放电空间扩充到管壁中或者甚至穿过管壁。填充物的组成确定发光效率和放电的颜色轨迹两者,填充物组成由于各成分的扩散而发生变化时颜色轨迹相应地偏移。由于若干原因这些色移是有害的,例如,机动车领域中的灯必须满足整个寿命中对颜色轨迹法律要求。从而,即使最小的色移,对于的灯的长寿命也是非常重要的。此外,当改变各个头灯灯泡时,右头灯和左头灯之前不能因为燃烧时间不同而出现可觉察的颜色不同。这种情况的一个例子是,作为填充成分的钠在放电管的寿命期间扩散到该放电管的石英玻璃中。就钠离子的迁移率而言,石英玻璃(即玻璃质非晶体二氧化硅(Si02))对于钠是相对多孔的。这种扩散过程的强度尤其强烈地取决于钠在放电管玻璃中的溶性和活动性。钠离子穿过玻璃质二氧化硅的扩散率遵循温度的指数函数。灯头空间中钠的损失降低钠在整个辐射中的相对辐射分量。由于钠主要在黄色区中发射,灯的色温向更高的色温(向蓝色)偏移。在把钪用作为填充成分的情况下,灯寿命期间中的另一个过程是形成硅酸钪。迄今对这些反应的速率和程度知之甚少。但是,可以很好地对其作出定性检测,并且其导致可用于放电的钪的损失,因而导致类似的色移。美国专利申请No.2003/0189408Al给出对应的放电灯的一个例子。除了氙(Xe)之外还提到把钠(Na)、钪(Sc)和锌(Zn)作为无水银HID灯的气体填充成分,它们分别按碘化钠、碘化钪和碘化锌添加到氙气填充物中。此外,还应提到石英玻璃放电管的反玻璃化也是一种寿命限制因素。在此情况下由于它含有Na、Sc并且在无水银灯的情况下还含有Zn,灯的填充物具有反玻璃化促进作用。从而为了延迟反玻璃化过程,针对填充物的影响钝化石英表面是适当的。钝化还用来稳定高压灯的周期过程,因为等离子体和壁的交互作用可以导致不希望地对和从放电容积释放或者吸收氢和氧。和石英玻璃相比,选择多晶半透明氧化铝(A1203)作为灯头材料成本是很高的,由于材料性质不同其要求对灯头的几何形状的附加的设计修改,并且由于透明性不足其导致亮度的损失。为了能够利用石英玻璃作为放电管的基底材料的各种优点,已经进行了各种各样的尝试以便按照各种现有要求提高带有石英玻璃的放电管的寿命。例如,DE4208376尤其建议提供石英玻璃上的SiC)2或A1203保护层以对抗电子和离子的恒定轰击所造成的腐蚀和侵蚀,这些电子和离子是由放电空间中的微放电造成的并且它们撞击放电管壁。此情况下施加的保护层用于防止玻璃中由于电子轰击造成的结合断裂(侵蚀)。DE4115437公开了一种阴极射线管玻璃上的SiOz或入1203保护层,其用来防止由于电子轰击而发生的玻璃的褐着色(browncoloration),这是玻璃表面和施加的多层干扰滤光片之间的直接化学反应造成的。在这二种情况下,尽管这种保护层不是气体填充成分扩散出放电空间的解决办法,但是它充当对抗粒子轰击的緩冲层。为此,建议A1203、石英玻璃或A1203的阻挡涂层作为放电管的基底材料。例如,DE10216092说明了一种石英玻璃做成的放电管的面对着放电空间的表面上的氧化铝阻挡涂层。该阻挡层用于形成对抗Na扩散到石英玻璃中的阻挡层,并用于使石英玻璃免受离素攻击。对于借助等离子体辅助CVD方法(最好是PICVD方法)的涂覆,建议把02气氛下的氯化铝(A1C13)作为前体气体(CVD-化学汽相淀积,PICVD-等离子体脉冲化学汽相淀积)。其缺点首先是改造PICVD涂覆设备的费用和成本非常高,因为PICVD涂覆设备的基本功能是和含硅和钛的前体气体例如六甲基氧二硅烷和氯化钛一起操作的。DE2023772还说明了一种作为放电管的基底材料的、在其内侧涂覆着氧化铝保护层的石英玻璃,以作为多晶氧化铝的替代物。DE2524410公开了一种由玻璃质二氧化硅做成的放电管,其在背对放电空间的外侧上包含一个向其中扩散了氧化铝的区。该区充当Na扩散阻挡层。
发明内容本发明的一个目的是对灯管,例如包含Al203的石英玻璃放电管,确定一种扩散阻挡涂层的经济替代,以及提供一种灯管,例如石英玻璃放电管,这种灯管由于至少延迟放电填充气体的气体成分的扩散而延长它的寿命。依据本发明通过权利要求l中规定的特征达到该目的。在各条相关权利要求中可以找到本发明的优选实施例和细化。相应地,本发明提供一种生产透明材料灯管,最好是用于放电灯的具有扩散阻挡内层的石英玻璃放电管的方法,在该灯管中作为单层施加扩散阻挡内层,该内层包括氧化硅并且是通过CVD方法施加到灯管的内壁上的。由此本发明建议在具有放电空间的灯管的界面上,尤其在放电管的石英玻璃基底上,形成Si02扩散阻挡层。除了涂覆气体放电灯的气体放电管(最好由石英玻璃制成)之外,本发明还可以普遍地应用到透明材料灯管。从而,诸如根据本发明提出的扩散阻挡涂层还可以尤其应用于白炽灯的灯管。尤其还对于卣素灯,扩散阻挡层证明有利于提高这种灯的寿命。例如,还可以设想它会明显提高机动车领域中的卣素灯,诸如H1、H4或H7灯的寿命。除石英玻璃管或含石英玻璃的管之外,还可以涂覆含有硬玻璃,尤其是铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或铝硼硅酸盐玻璃的灯管或者由这样的玻璃构成的灯管。此外,还可以设想由陶瓷材料做成的或含有陶瓷材料的灯管的有益涂层。已经发现微晶体或亚微晶体SK)2对于灯头或白炽灯的填充物成分具有抑制扩散的作用。在此情况下,微晶体SK)2和亚微晶体Si02的混合物以及例如窄微晶尺寸分布状态两者都在本发明的范围之内。本发明的典型配置是小于50nm的微晶尺寸。优选的微晶尺寸分布状态位于小于10nm的范围之内。微晶尺寸甚至还可以具有小于2nm的尺寸。在此情况下,微晶体的尺寸量级仅为几个晶胞。于是填充成分在扩散阻挡层中的活动性按照各个Si02分子的量级程度减小。该情况下的微晶体结构以及微晶体Si02的相当薄的层同时确保保持管基底,例如放电管基底的透明性。一种特别经济的施加这种微晶体和/或亚微晶体Si02扩散阻挡层的方法是CVD方法。其中优选反应性涂覆方法,例如PICVD(等离子体脉沖化学汽相淀积),PECVD(等离子体增强化学汽相淀积),PACVD(等离子体辅助化学汽相淀积)和TCVD(热化学汽相淀积)。PICVD方法尤其适宜用来产生依据本发明的涂层。这里,可以通过涂覆参数方便地控制SK)2层的生长和晶化。影响生长层的形态的涂覆参数尤其是反应空间中和涂层表面的温度,微波功率密度和前体的分压(气体容积中的前体组分),以及反应空间中Si的浓度。该情况下的一个基本要素是开始涂覆过程之前基底的温度。开始涂覆之前,基底必须足够热从而生长层能牢固地和基底结合。如果不是这种情况,则到达的Si成分仅仅牢固地生长在另一个Si成分上而不是足够牢固地和基底结合,从而仅在基底上得到粉尘状涂层。如果一开始起基底温度太高,则尽管到达的Si成本足够牢固地生长在基底上,但是这不必然意味着所产生的结构肯定是光学上透明的。相反,试验已经表明,为此对基底要求某个最低温度,该温度进而取决于基底的类型和几何形状。在特定的温度范围之外,这些层以光学透明玻璃的方式生长,但在较低的初始温度下它们显现乳状混浊。低涂覆温度下乳状外观的原因是,层生长是以明显的柱状生长为形式的。在此情况下优先按柱状方式生长的微晶之间的边界是光学活性的,并且造成所通过的光的强散射,这导致乳状混浊外观。在高基底温度下,这种柱状生长至少不那么明显或者甚至被完全抑制,从而高温下这些散射中心不再存在,并且因此可以抑制混浊外观。和开始涂覆过程时基底温度足够高同样重要的是,在涂覆过程期间保持该温度。特别地,必须通过适当选择过程参数来确保还能在长期涂覆过程期间维持初始达到的基底温度,从而在涂覆过程期间各层的生长条件不会改变。PICVD方法中调整温度的最基本影响量是反应空间里的微波功率密度。它转而基本上取决于反应空间的尺寸和形状以及耦合微波功率的类型。可以通过适当选择脉冲振幅以及脉宽对脉冲间隙的比率来调整所需的微波功率。通过对应选定的微波参数,可以因此在涂覆期间实现反射器上的光学透明玻璃式涂层。此外重要的是和微波功率密度成比例地调整气流,从而引入的前体气体完全反应,不然的话也可能产生乳状混浊。为了实现该层例如对钠离子的高的扩散阻挡效果,必须在特别高的温度下施加该涂层,因为层生长时的温度越高则层会相应地越密,并且从而对扩散钠离子的可渗透性相应地越小。在此,抑制会在较低温度下出现的柱状结构也是重要的,因为除了作为会导致乳状混浊外观的光学上不希望的散射中心之外,这种形态对于钠离子的扩散也是非常不利的。晶格中的离子扩散通常优先沿着晶体的边缘发生(所谓的"晶界扩散"),在其优先方向准确地对着穿过该层的方向生长柱的情况下,这特别不利于预期的扩散阻挡效果作用。从而依据本发明的阻挡层的目的是一种对抗离子扩散的有效扩散阻挡层,其中微晶是微晶体和/或亚微晶体。依据本发明的用微晶体和/或亚微晶体Si02做成的石英玻璃上的扩散阻挡层的另一个优点是所施加的离子对基底材料的非常高的亲合力,从而即使在非常高的温度下该层牢固地粘附在该基底上。此情况下一个特别的优点是用实际上和基底相同的材料做成该扩散阻挡层。由于如此二种材料的热膨胀系数相同,所以预期高温下不会产生裂紋或者只会产生非常小的裂紋。微晶体和/或亚^:晶体Si02涂层的典型层厚为10nm到1000nm,最好为50nm到500nm。可以通过选取的层厚影响最大微晶尺寸。在本发明的一种改进中,不是通过对石英玻璃基底内表面的涂覆施加微晶体和/或亚微晶体Si02扩散阻挡层,而是在灯管(例如具有管内部即具有气体放电灯的放电空间的放电管)的石英玻璃基底的界面区上形成该扩散阻挡层。这是在一个表面(例如气体放电灯的放电管内表面)上通过对管热处理达到的。在该方法的一优选实施例中,该热处理是通过等离子体放电引入热的。用于此的优选方法是CVD方法,i者如PICVD(等离子体脉沖化学汽相淀积)PECVD(等离子体增强化学汽相淀积)PACVD(等离子体辅助化学汽相淀积)TCVD(热化学汽相淀积)当采用PICVD方法时,可以方便地控制输入到石英玻璃基底的内表面区上的热。这里同样在内表面区的Si02里生成微晶体和/或亚微晶体结构。在此情况下同样观察到对灯头填充成分的扩散抑制作用。PICVD方法中,尤其建议利用活性气体,最好是诸如氧气和/或六氟化硫的活性蚀刻气体,通过等离子体处理实现表面的热处理,在此情况下可以通过选择微波处理参数方便地调整等离子体的激励以及蚀刻气体的效率。在此微波功率密度也是关键参数,其可以通过脉冲振幅以及脉宽对脉冲间歇的比率来调整。通过非常具有活性的气体在高温下的蚀刻过程,可以至少部分地在一个薄的区中使石英玻璃层晶化,这产生对抗气体原子扩散出气体容积具有增强的阻挡作用的薄樹:晶体和/或亚微晶体层。本发明的另一优选实施例是组合上面说明的二个不同产生的扩散阻挡层。首先,最好利用等离子放电输入的热(例如在蚀刻气体的辅助下)在石英玻璃基底的内表面区的Si02中产生微晶体和/或亚微晶体结构。然后利用CVD方法在该层上施加另一个微晶体和/或亚^:晶体Si02层。这种二个不同产生的扩散阻挡层的组合的优点在于,首先产生的微晶体或亚微晶体结构构成通过CVD过程施加的第二扩散阻挡层的底涂层。特别地,除了化学成分上可能不同之外,这二个以不同方式产生的微晶体或亚微晶体层尤其会在平均微晶尺寸、微晶尺寸分布以微晶择优取向上(形态上)是不同的。(化学成分上的可能不同和施加在石英玻璃基底上的扩散阻挡内层中的Si02涂层的前体气体的残余物有关。这种残余物可能会增强依据本发明的内涂层的扩散抑制作用。有机硅化合物,最好是六甲基氧二硅烷,充当前体气体)。例如,可以使等离子体放电(例如在蚀刻气体的帮助下)输入的热在非常薄的区中引起〈i0nm的非常细粒的微晶尺寸分布,同时使利用CVD过程,例如PICVD过程的涂层生长期间的平均微晶尺寸分布要大得多,例如10-500nm(因为产生的微晶尺寸通常为所施加的层厚的大小的量级)。另外还观察到,当借助于CVD方法,尤其PICVD方法,把Si02层施加到玻璃或石英玻璃上时,所产生的微晶优先按柱状方式形成。如果涂覆过程期间表面处于非常高的温度和/或如果事先适当处理该表面,则可以减小这种优先生长的表现。这种适当处理例如可以是石英玻璃的表面晶化,从而利用CVD涂覆过程的生长期间不再存在非晶石英玻璃和SK)2生长层之间的自由界面。由于微晶表面和来自CVD过程的冷凝气体之间的相互作用,各成分不再按其它情况下优先的柱状结构生长。其原因可能是在此情况下生长的微晶被迫使沿着已经存在的微晶的取向定向,从而它们不再采纳其它情况下优先的柱状方式的层结构的生长形式。从而先通过适当的热处理,例如借助于蚀刻气体,在石英玻璃灯泡上产生亚微晶体层,并且在此之后才通过CVD涂覆过程施加孩吏晶体涂层是有好处的。在同一设备中实现这种组合方法会是特别经济的,为此利用PICVD方法进行涂覆的设备是特别适用的。对于尤其被配置成利用含硅的前体气体例如六甲基氧二硅烷涂覆基底的PICVD涂覆设备,能方便地在不进行大改装的情况下引入用于蚀刻处理的另一种气体物质,例如氧或六氟化硫,正如例如为了依据本发明产生扩散阻挡层,利用活性蚀刻气体通过等离子体处理对石英玻璃表面进行热处理所需要的那样。依据本发明的方法可以避免昂贵和费事地改装设备。六甲基氧二硅烷非常好地适于充当用于涂覆依据本发明的具有扩散阻挡层的灯头内表面的前体气体。可以把按照本发明生产的这种放电管用作为金属卣素灯。在此情形下,尤其要提到以下几点—用于机动车头灯的具有和不具有水银的高压金属卤素灯,即所谓的带有典型的5-15巴氙冷填充压力(coldfillpressure)的"氙灯"。一用于通常照明的高压金属卤素灯。一用于投影任务的高压金属卤素灯。—用于投影应用的利用卤素循环(halogencycle)过程的超高压水银灯。现在在附图的辅助下通过例子更详细地解释本发明,附图中图1示出例如供机动车使用的金属卤素灯(D灯)。图2示出作为放电管的石英灯泡基底的内表面上的涂层的扩散阻挡层。图3示出作为放电管的石英灯泡基底的内表面的一个区的扩散阻挡层。图4示出和作为石英灯泡基底的内表面的一个区的扩散阻挡层相组合的、作为放电管的石英灯泡基底的内表面上的涂层的扩散阻挡层。具体实施方式图1示出短弧氣灯1的细节。放电空间3填充着作为放电气体的氣,并且任选地具有其它气体成分例如碘化钠、碘化钪和碘化锌。为了操作放电,在石英玻璃放电管2中通过密封箔以气密方式引入鴒电极4。具有电连接部分的基座5和具有电馈点的杆6形成电源的組成部分。下面的表给出这种分别具有含水银和不含水银的气体填充物的并且具有石英玻璃放电管2的新颖内涂层的D灯的示范实施例。<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>图2到4分别示出放电管,例如石英玻璃放电管2的放大细节。在此情况下,扩散层22和24分别面对着放电空间的方向。图2示出作为放电管的石英玻璃基底21的内表面上的涂层的扩散阻挡层22。该涂层是利用PICVD方法作为微晶体和/或亚微晶体Si02层施加在石英玻璃基底21的玻璃质Si0223上的。图3示出作为该放电管的石英灯泡基底21的内表面的一个区的扩散阻挡层24。利用等离子体放电输入的热,通过晶体化该放电管的石英玻璃基底21的内表面区来产生该同样的微晶体和/或亚微晶体Si02层。该石英玻璃基底的后玻璃质区23和扩散阻挡层24相邻并且咬合。图4示出和图2以及图3对应的二个扩散阻挡层的组合。首先,利用等离子体放电输入的热,通过晶体化该放电管的石英玻璃基底21的内表面区产生作为石英灯泡基底21的内表面的一个区的扩散阻挡层24。在此之后,通过PICVD方法在该石英灯泡基底21的作为扩散阻挡层24配置的内表面上施加作为涂层的另一个扩散阻挡层22。由于原子的相互作用,这二个微晶体和/或亚微晶体Si02层彼此呈现良好的粘附。上面说明的各示范实施例还可以相应地用于其它灯类型和其它基底材料。在此还尤其设想囟素灯管,这种灯管除了石英玻璃之外还可以替代地或者补充地用诸如硬玻璃或陶瓷等其它材料做成。本领域技术人员清楚,本发明不受上面说明的各示范实施例的限制,而是可以以各种各样的方式加以修改。特别地,这些示范实施例还可以彼此组合。权利要求1.一种生产透明材料灯管,最好是具有扩散阻挡内层的放电灯的石英玻璃放电管的方法,其中作为单层施加扩散阻挡内层(22),该扩散阻挡内层由二氧化硅组成,并且通过CVD方法施加在灯管的内壁上,该灯管最好是放电灯的放电管。2.—种生产透明材料灯管,最好是具有扩散阻挡内层的放电灯的石英玻璃放电管的方法,其中通过对放电管内表面的热处理生成扩散阻挡内层(24),并且接着通过CVD方法在灯管的内壁上施加另一扩散阻挡内层(22),该灯管最好是放电灯的放电管。3.权利要求1或2所述的生产灯管,尤其是放电管的方法,其中扩散阻挡内层(22)是通过最好从下面的组中选择的反应涂覆方法施加的等离子脉冲化学汽相淀积PICVD;等离子增强化学汽相淀积PECVD;等离子辅助化学汽相淀积PACVD;热化学汽相淀积TCVD。4.一种生产灯管,尤其是具有扩散阻挡内层的放电灯的石英玻璃放电管的方法,其中通过对管的内表面,尤其是放电管的内表面的热处理来生成扩散阻挡内层(24)。5.—种生产灯管,尤其是权利要求2或4所述的放电管的方法,其中通过等离子体放电在管的内表面上,尤其是放电管的内表面上,输入的热来生成扩散阻挡内层(24)。6.—种生产灯管,尤其是权利要求5所述的放电管的方法,其中借助于通过在管内表面上,尤其是放电管内表面上,活性气体的等离子体处理对该表面的热处理来生成扩散阻挡内层(24)。7.—种生产灯管,尤其是权利要求6所述的放电管的方法,其中借助于通过在放电管内表面上的活性蚀刻气体的等离子体处理来生成对该表面的热处理,并且其中活性蚀刻气体是氧或六氟化硫。8.—种生产灯管,尤其是权利要求2至7中至少一个所述的放电管的方法,其中在同一设备上的相继工序步骤中生成两个扩散阻挡内层(22)和(24)。9.权利要求1至8中任一权利要求所述的方法,其中气体放电灯的放电管具有扩散阻挡层。10.权利要求1至8中任一权利要求所述的方法,其中白炽灯,尤其是卣素灯,的灯管具有扩散阻挡层。11.权利要求1至10中任一权利要求所述的方法,其中石英玻璃灯管具有扩散阻挡层。12.权利要求1至10中任一权利要求所述的方法,其中硬玻璃灯管,尤其是铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或铝硼硅酸盐玻璃灯管,具有扩散阻挡层。13.权利要求1至10中任一权利要求所述的方法,其中陶瓷灯管具有扩散阻挡层。14.一种可通过权利要求1至13中任一权利要求所述的方法生产的灯管,尤其是用于放电灯的放电管,其最好由具有扩散阻挡内层的石英玻璃做成,其中生成扩散阻挡内层(24)和/或施加扩散阻挡内层(22),该扩散阻挡内层是单层的并且由二氧化硅组成,或者扩散阻挡内层(25)是这二者的组合。15.—种灯管,尤其是用于放电灯的、最好是通过权利要求l至13中任一权利要求所述的方法生产的具有扩散阻挡内层的石英玻璃放电管,其中生成扩散阻挡内层(24)和/或施加扩散阻挡内层(22),该扩散阻挡内层是单层的并且由二氧化硅组成,或者扩散阻挡内层(25)是这二者的组合。16.—种灯管,尤其是用于放电灯的、最好是具有扩散阻挡内层的石英玻璃放电管,该扩散阻挡内层尤其是通过权利要求1至13中任一权利要求所述的方法生产的,其中生成扩散阻挡内层(24)和/或施加扩散阻挡内层(22),该扩散阻挡内层是单层的并且由二氧化硅组成,或者扩散阻挡内层(25)是这二者的组合。17.—种灯管,尤其如权利要求16所述的放电管,其中扩散阻挡内层的二氧化硅为微晶体。18.—种灯管,尤其如权利要求16和17所述的放电管,其中扩散阻挡内层的二氧化硅的微晶尺寸小于50nm,并且最好小于10nm。19.一种灯管,尤其如权利要求16至18中任一权利要求所述的放电管,其中扩散阻挡内层的层厚为从10nm到2000nm,并且最好从50謂到500nm。20.—种灯管,尤其如上述任一权利要求所述的放电管,其中扩散阻挡内层(22)是按管内部,尤其是放电管的内表面上的涂层施加的。21.—种灯管,尤其如上述任一权利要求所述的放电管,其中扩散阻挡内层(24)是和管内部,尤其是放电管的放电空间,邻接的管内部的石英玻璃基底的区。22.—种灯管,尤其如上述任一权利要求所述的放电管,其中扩散阻挡内层(25)是作为扩散阻挡层(24)的、与放电空间邻接的放电管的石英玻璃基底的区与作为另一个扩散阻挡层(22)的、该放电管内表面上的二氧化硅涂层的组合。23.—种灯管,尤其如上述权利要求中任一权利要求所述的放电管,其中该扩散阻挡内层形成对抗钠和/或钪和/或锌的扩散屏障。24.—种如上述权利要求中任一权利要求所述的用于白炽灯,尤其用于离素灯的灯管。25.上述权利要求中任一权利要求所述的灯管,其中该灯管包括硬玻璃,尤其包括铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或铝硼硅酸盐玻璃。26.如上述权利要求中任一权利要求所述的灯管,其中该灯管包括陶瓷材料。27.—种灯管,尤其如上述权利要求中任一权利要求所述的放电管,其中该灯管,尤其是放电管,含有钠。28.—种灯管,尤其如上述权利要求中任一权利要求所述的放电管,其中该灯管,尤其是放电管,含有碘或溴。29.—种包括灯管,尤其包括上述权利要求中任一权利要求所述的放电管的金属卣素灯。30.—种包括如上述权利要求中任一权利要求所述的放电管的高压灯或超高压灯。31.—种机动车领域中的照明设备,其包括灯管,尤其包括上述权利要求中任一权利要求所述的放电管。全文摘要本发明涉及一种用于放电灯的、具有二氧化硅制扩散阻挡内层的石英玻璃放电管,该阻挡层是作为单层在内表面上施加的和/或是在内表面上生成的,并且还涉及一种生产和/或施加这种扩散阻挡内层的方法以及这种放电管的应用。文档编号C03C17/34GK101124654SQ200580043220公开日2008年2月13日申请日期2005年12月19日优先权日2004年12月17日发明者克劳斯·冈瑟,克里斯托夫·默勒,托马斯·库伯尔,玛格蕾塔·哈梅尔,迪特玛·埃利希曼,雷纳·克朗夫斯申请人:肖特股份公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1