专利名称：一种单向透光玻璃真空镀膜方法、专用设备及制品的制作方法
技术领域：
本发明涉及玻璃制品加工技术，具体的涉及单向透光玻璃真空镀 膜方法、专用设备及制品。
技术背景目前，现有技术中的单向透光真空镀膜玻璃及其制品， 一般是采用 在玻璃材料中加入金属离子等方法活动，如在玻璃制造材料中加入氧 化银、氧化铜等金属化合物，而采用这种方法获得的玻璃，其制造成 本较高，且因为金属离子的混合均匀度、玻璃材料的厚度及玻璃材料 表面特性等因素的差异，使得同一制品各处的单向透光性也存在一定 的差异，各种立体、曲面制品表现的尤为明显，并且制造成本较高， 不易回收重新加工利用。现有技术中的玻璃镀膜制品，其镀膜厚度大多在100 300埃之间， 1埃=10 —1(}米， 一般为不透光，或透光度很差，均不能直接实现单向 透光效果。现有技术中的单向透光真空镀膜玻璃工艺品，尤其是各种立体构 件，多数是采用平面单向透光真空镀膜玻璃切割后粘结制成，其工序 较多，材料及能源消耗均较高，生产效率却很低。在目前常用的蒸镀、溅镀、分子束外延等真空镀膜方法镀膜方法 中，其镀膜设备通常大多使用单一固定的镀膜源，然而，这种设备一 次仅能加工一个制品，其加工效率很低，不能满足大批量生产的需要。现有的激光蚀刻技术，其一般是直接导入图案数据就进行蚀刻， 而没有根据制品表面的曲度、粗糙度等数据，对该图案数据进行运算、 调整，因而制得的图案会发生一些形变，精度较低、效果较差。采用 现有技术获得的单向透光真空镀膜玻璃制品，其镀膜层一般均为金属离子或镀膜材料本身的色彩，而不能自由将其调节为其他色彩。 发明内容针对现有单向透光真空镀膜玻璃制造技术所存在的上述不足，本 发明目的之一在于，提供一种单向透光玻璃真空镀膜方法；本发明的目的之二在于，提供一种用来实现前述的方法的专用镀 膜设备；本发明的目的还在于，提供一种采用前所述的单向透光玻璃真空 镀膜方法的制品。本发明为实现上述目的，所提供的技术方案是 一种单向透光玻璃真空镀膜方法，其特征在于，其包括如下步骤-(1) 制备、清洁玻璃胚体；(2) 测量玻璃胚体一侧面的形状及表面积，并据其计算为其镀 上厚度为5 85埃的镀膜层时所需镀膜时间或所需镀膜材料的重量， 及镀源电加热架的空间位置；(3) 将玻璃胚体置入真空，根据步骤(2)得到的镀源位置、时 间或镀膜材料重量，控制镀源对其一侧表面镀膜，在该胚体一侧表面 上形成厚度为5 85埃的均匀的镀膜层；(4) 在所述玻璃胚体的另一侧面上，涂覆一保护漆层；(5) 在所述玻璃胚体的镀膜层的外侧，涂覆一保护漆层。 所述的步骤(3)，其还包括如下步骤(31) 在所述玻璃胚体的镀膜层的内侧，涂覆一保护漆层；(32) 将镀源电加热架置于玻璃胚体一侧表面下方的空间位置， 对该侧表面镀膜，使该侧表面的各部位上，均形成一厚度为5 85埃 的镀膜层。所述的保护漆层为有色或无色，其可以为红、黄、绿等各种可见 色彩。所述的单向透光玻璃真空镀膜方法，其特征在于，其还包括如下 步骤(6)在该镀膜层上镂刻成图，具体包括-(61) 编程，将基本图案信息输入计算机；(62) 将该基本图案信息转换为矢量信息；(63) 根据步骤(2)得到的胚体侧面形状及曲度，对该基本图案 数据进行运算、调整。(64) 是根据步骤(63)获得的数据，控制与计算机联机的激光 蚀刻设备，用激光束扫描所述胚体侧面上的镀膜层，成图。一种实现前述单向透光玻璃真空镀膜方法的专用设备，其包括相 互扣合的上、下壳体，下壳体上设有电插座，其特征在于，该下壳体 中部设置有一水平托板，该托板上开有复数个通孔；下壳体底部设有 一绝缘电路板，该电路板上端面对应所述通孔位置，分别设有复数个 镀膜电加热架，且每一镀膜电加热架均穿过所述通孔并向上伸出；所 述各电镀加热架的两端分别连接电源的一极，并联后连接在所述电插 座上。前述的专用设备，其特征在于，所述的上或下壳体上，还设有一 用来抽真空的开口；所述的上或下壳体之间的扣合面上，还设有密封 圈。所述下壳体的底面上还设有一螺孔， 一螺栓自外部穿过该螺孔， 其前端面抵住所述的绝缘电路板的底面中部，通过其旋转，用以调节 该绝缘电路板的位置升降，从而调整电加热架与放置在托板上的玻璃 胚体的相对位置，即调整钨丝与玻璃胚体待镀膜表面的相对位置与距 离。一种采用前述的单向透光玻璃真空镀膜方法的制品，其包括一玻 璃胚体，其一侧表面上，均设有一厚度为5 85埃的镀膜层；其表面 为曲面和/或毛面。前述的制品，其特征在于，在所述玻璃胚体为一平面构件，或为 瓶状、杯状、盘状或其他立体构件之一，或其组合物。本发明的优点在于由于本发明提供的方法，是通过控制镀膜厚 度，直接在任意透明玻璃胚体一侧表面上形成特定厚度的镀膜层，来实现单向透光的效果，而无需改变玻璃制造材料及制品结构，方法简便易行，达到了意想不到的效果；本发明提供了两种具体的方法，即 控制镀膜时间或控制镀膜材料重量，并配合镀源电加热架的空间位置， 可以使镀膜层精确、均匀的附着在玻璃胚体的一侧表面上，其厚度可 以控制在要求的范围内；本发明通过采用涂覆有色保护漆层的方式， 可以随意调整、改变镀膜材料原有色彩，使制品获得各种丰富的色彩 变化，适应不同的需要；本发明还可以在镀膜层上获得镂空图案，且 获得的图案精度高、效果好；本发明提供的设备，可以一次同时对多 个制品进行镀膜操作，对形状各异的制品及毛面制品也是一次完成加 工，生产效率高；本发明提供的制品，其艺术效果好，镂空图案立体 感强、仿真度高，且不易变形或损坏；尤其在对杯体等立体构件的加 工制造过程中，可一次性镀膜完成，而无需切割、粘结等工序，整体 美观、耐用。下面结结合附图与实施例，对本发明进一步说明。
图1是本发明实施例1提供的专用设备全剖结构示意图； 图2是本发明实施例1提供的制品立体结构示意图； 图3是图2的纵向全剖放大结构示意图； 图4是本发明实施例2提供的制品立体结构示意图； 图5是图2的主视结构示意图。 图6是图5的纵向全剖放大结构示意图。
具体实施方式
实施例1:参见附图1、图2及图3，本实施例提供的一种单向透光玻璃真空镀膜方法，其包括如下步骤(1) 制备、清洁玻璃胚体20，其为一四方型杯状体，口径约10CM, 高度12CM，壁厚1CM，上部留有一开口；(2) 测量玻璃胚体20 —侧面16的形状及其表面积，并据其计 算为其镀上厚度为5 85埃的镀膜层12时所需镀膜时间，或所需镀膜材料铝条的重量，及镀源电加热架6的空间位置；本实施例中，是计算为其镀上厚度为5 85埃的镀膜层12时所 需通电镀膜时间为0. 5 2秒，镀源电加热架6的空间位置为将杯口倒 置后，在杯口截面几何中心线土5CM处(即中心线上、杯口下方内侧 5CM处或其外侧5CM处)；(3)将玻璃胚体20置入真空，根据步骤(2)得到的镀源位置、 时间或镀膜材料重量，控制镀源对其一侧表面16镀膜，在该胚体20 一侧表面16上形成厚度为5 85埃的均匀的镀膜层12;(31) 在所述玻璃胚体20的镀膜层12的内侧，即在镀膜层12与 胚体20之间，涂覆一内保护漆层ll;(32) 将镀源电加热架6置于玻璃胚体10 —侧表面16下方的空 间位置，将镀膜材料一一铝金属丝置于电加热架6的钩丝5上，通电， 对该侧表面16镀膜，使该侧表面16的各部位上，均形成一厚度为5 85埃的镀膜层12。(4)在所述玻璃胚体20的镀膜层12的外侧，涂覆一外侧保护漆 层13。所述的保护漆层ll、 13，其可以为有色或无色透明涂层，其有色 时，可以为红、黄、绿等各种可见色彩，本实施例中其均为无色。具体参见图1， 一种实现前述单向透光玻璃真空镀膜方法的专用 设备30，其包括相互扣合的上壳体2、下壳体1，下壳体1上设有电 插座，该下壳体1中部设置有一水平托板3，该托板3上开有复数个 通孔4;下壳体1底面上方设有一绝缘电路板7，该电路板7上端面对 应所述通孔位置，分别设有复数个镀膜电加热架6，且每一镀膜电加 热架6均穿过所述通孔4并向上伸出；所述各电镀加热架6的上部为 一钨丝5，其两端分别连接电源的一极，并联后连接在所述电插座上。 上壳体2或下壳体1上，还设有一用来抽真空的开口；上壳体2或下 壳体l之间的扣合面上，还设有密封圈8。上述下壳体1底面中部位置上还设有一螺孔11， 一螺栓9自外部端面抵住上述的绝缘电路板7的底面中部，通过 其旋转，可以调节该绝缘电路板7的位置升降，从而调整电加热架6 与放置在托板3上的玻璃胚体的相对位置，即调整镀源一一钩丝5与 玻璃胚体待镀膜表面的相对位置与距离。为保持密封效果，在螺孔外 侧还设有一密封圈10。参见图2、图3， 一种采用前述的真空镀膜成图方法的制品，其包 括一杯状玻璃胚体20，该胚体20的内侧表面16为一曲面，同时也是 一毛面；在该内侧表面16上，设有一侧表面上，设有一厚度为5 85 埃、并置有镂空图案的镀膜层12;在该内侧表面上，由内向外依次设 有一内保护漆层11、镀膜层12 (含镂空图案)、外保护漆层13;保护 漆层ll、 13为一油漆等有机化合物涂层，且可以为有色或无色。实施例2:参见图4、图5及图6，本实施例提供的一种单向透光 玻璃真空镀膜方法，其基本与实施例1相同，其不同之处在于如下步骤(1) 制备、清洁玻璃胚体20，其为一碟状体，口径约30CM，高 度8CM，壁厚为0.8CM，其上部留有一开口；(2) 测量玻璃胚体20 —侧面16的形状及其表面积，并据其计 算为其镀上厚度为5 85埃的镀膜层12时所需镀膜材料铝条的重量， 及镀源电加热架6的空间位置；本实施例中，是计算为其镀上厚度为5 85埃的镀膜层12时所 需铝条重量为0. 2 3克，镀源电加热架6的空间位置为将碟口倒置后， 在碟口截面几何中心线一2 —5CM处(即中心线上、碟口下方3CM处)；(3)将玻璃胚体20置入真空，根据步骤(2)得到的镀源位置、 镀膜材料重量，控制镀源通电，使镀膜材料铝条充分蒸发，对其一侧 表面16镀膜，在该胚体20 —侧表面16上形成厚度为5 85埃的均匀 的镀膜层12;具体地，是将镀源电加热架6置于玻璃胚体10 —侧表 面16下方的空间位置，将镀膜材料一一铝金属丝置于电加热架6的钩 丝5上，通电，对该侧表面16镀膜，使该侧表面16的各部位上，均形成一厚度为5 85埃的镀膜层12。(4)在所述玻璃胚体的另一侧面15上，涂覆一保护漆层14。所述的保护漆层14，本实施例中为无色透明，其他实施例中也可 为有色透明涂层，其颜色可以为红、黄、绿等各种可见色彩之一。本实施例提供的实现前述单向透光玻璃真空镀膜方法的专用设备 30，其与实施例l相同；本实施例提供的制品，其基本结构也与实施 例1相同，其不同之处在于，在所述玻璃胚体20的外侧面15上，涂 覆有外侧面保护漆层14。本发明其他实施例中，所述玻璃胚体30，可以为一面镀膜而另一 面不镀膜的玻璃板等平面构件，或为瓶状、盘状及其他立体构件之一， 或其组合物；所述的保护漆层ll、 13、 14的色彩，可以根据不同需要 调配，为无色透明或其他任意透明彩色；电镀材料还可以是铝之外的 其他金属或合金，如金、铜等。根据本发明上述实施例所述，具备与本实施例相同或相似技术特 征的单向透光玻璃真空镀膜方法、专用设备及制品，均在本发明的保 护范围内。
权利要求
1. 一种单向透光玻璃真空镀膜方法，其特征在于，其包括如下步骤(1)制备、清洁玻璃胚体；(2)测量玻璃胚体一侧面的形状及表面积，并据其计算为其镀上厚度为5～85埃的镀膜层时所需镀膜时间或所需镀膜材料的重量，及镀源电加热架的空间位置；(3)将玻璃胚体置入真空，根据步骤(2)得到的镀源位置、时间或镀膜材料重量，控制镀源对其一侧表面镀膜，在该胚体一侧表面上形成厚度为5～85埃的均匀的镀膜层。
2.根据权利要求1所述的单向透光玻璃真空镀膜方法，其特征在 于，其还包括如下步骤(4) 在所述玻璃胚体的另一侧面上，涂覆一保护漆层；(5) 在所述玻璃胚体的镀膜层的外侧，涂覆一保护漆层。
3. 根据权利要求1所述的单向透光玻璃真空镀膜方法，其特征在 于，所述的步骤(3)，其还包括如下步骤(31) 在所述玻璃胚体的镀膜层的内侧，涂覆一保护漆层；(32) 将镀源电加热架置于玻璃胚体一侧表面下方的空间位置， 对该侧表面镀膜，使该侧表面的各部位上，均形成一厚度为5 85埃 的镀膜层。
4. 根据权利要求2或3所述的单向透光玻璃真空镀膜方法，其特 征在于，所述的保护漆层为有色或无色。
5. 根据权利要求l所述的单向透光玻璃真空镀膜方法，其特征在 于，其还包括如下步骤(6) 在该镀膜层上镂刻成图，具体包括-(61) 编程，将基本图案信息输入计算机；(62) 将该基本图案信息转换为矢量信息；(63) 根据步骤(2)得到的胚体侧面形状及曲度，对该基本图案数据进行运算、调整。(64)是根据步骤(63)获得的数据，控制与计算机联机的激光 蚀刻设备，用激光束扫描所述胚体侧面上的镀膜层，成图。
6、 —种实现权利要求l所述的单向透光玻璃真空镀膜方法的专用 设备，其包括相互扣合的上、下壳体，下壳体上设有电插座，其特征 在于，该下壳体中部设置有一水平托板，该托板上开有复数个通孔； 下壳体底部设有一绝缘电路板，该电路板上端面对应所述通孔位置， 分别设有复数个镀膜电加热架，且每一镀膜电加热架均穿过所述通孔 并向上伸出；所述各电镀加热架的两端分别连接电源的一极，并联后 连接在所述电插座上。
7、 根据权利要求6所述的专用设备，其特征在于，所述的上或下 壳体上，还设有一用来抽真空的开口；所述的上或下壳体之间的扣合 面上，还设有密封圈。
8、 根据权利要求6所述的专用设备，其特征在于，所述下壳体的 底面上还设有一螺孔， 一螺栓自外部穿过该螺孔，其前端面抵住所述 的绝缘电路板的底面中部，通过其旋转，用以调节该绝缘电路板的位 置升降，从而调整电加热架与放置在托板上的玻璃胚体的相对位置， 即调整钨丝与玻璃胚体待镀膜表面的相对位置与距离。
9、 一种采用权利要求1所述的单向透光玻璃真空镀膜方法的制 品，其包括一玻璃胚体，其特征在于，其一侧表面上，均设有一厚度 为5 85埃的镀膜层。
10、 根据权利要求9所述的制品，其特征在于，所述玻璃胚体的 表面为曲面和/或毛面；该胚体为一平面构件，或为瓶状、杯状、盘状 或其他立体构件之一，或其组合物。
全文摘要
本发明公开了一种单向透光玻璃真空镀膜方法，其特征在于，其包括如下步骤(1)制备、清洁玻璃胚体；(2)测量玻璃胚体一侧面的形状及表面积，并据其计算为其镀上厚度为5～85埃的镀膜层时所需镀膜时间或所需镀膜材料的重量，及镀源电加热架的空间位置；(3)将玻璃胚体置入真空，控制镀源对其一侧表面镀膜，在该胚体一侧表面上形成厚度为5～85埃的均匀的镀膜层。本发明还提供了一种用来实现前述方法的专用设备，及采用前所述方法的制品。本发明的优点在于由于本发明提供的方法，通过控制镀膜层厚度的方法，达到单向透光的效果；本发明提供的专用设备生产效率高；本发明提供的制品，其艺术效果好、耐用。
文档编号C03C17/34GK101279821SQ20081009419
公开日2008年10月8日 申请日期2008年5月8日 优先权日2008年5月8日
发明者温晋奕 申请人:温晋奕