专利名称：日用陶瓷弧形淋釉装置的制作方法
技术领域：
本实用新型属于轻工机械设备，尤其是一种日用陶瓷弧形淋釉装置。
技术背景 在现用的闭环式日用陶瓷淋釉生产线中，淋釉装置是平面形式，这种形式对平盘 类、浅汤盘类淋釉效果很好，但对一些盘叶与水平面角度较大(如超过45° )的盘类、斗碗 类产品淋釉效果则较差。主要是淋釉后坯体正面、背面的前端、后端的盘叶曲面处薄釉、缺 釉。原因是单位时间内，淋釉器垂直淋下的釉量只能满足坯体盘叶投影面积的釉量，而实际 上釉水淋在与水平面有较大倾角的盘叶上，盘叶的面积大于投影面积，故盘叶上的釉量不 足而形成薄釉。
发明内容 本实用新型针对上述问题，提供一种能满足一些盘叶与水平倾角较大的盘类、斗 碗类的产品，能够在闭环淋釉生产线上进行淋釉的日用陶瓷弧形淋釉装置。 本实用新型技术解决方案如下 1、一种日用陶瓷弧形淋釉装置，在现有的闭环淋釉线生产线的基础上，对淋釉器 下方的输送带部份进行改造，使坯体在淋釉时改变坯体盘叶面与水平面的角度，特征是所 述的背面淋釉器下方一段输送带设置有拱形皮带导向条，拱形皮带导向条的支架连接机 架，正面淋釉器下方一段凸形皮带设置有凹弧形皮带导向条，凹弧形皮带导向条的支架连 接机架。 2、如技术方案1所述的日用陶瓷弧形淋釉装置，其中，所述的背面淋釉器的釉幕 正对拱形皮带导向条的最高点。 3、如技术方案l所述的日用陶瓷弧形淋釉装置，其中，所述的正面淋釉器的釉幕 正对凹弧形皮带导向条的最低点。 本实用新型克服了现有淋釉线淋盘叶与水平面角度较大的盘类、斗碗类产品时产 生的薄釉、缺釉等缺陷。与现有技术相比能将这些产品的坯体直接放到淋釉线中去施釉，具 有生产效率高，施釉质量好，为企业减少用工，减轻工人劳动强度等优点。
图1为本实用新型的整体结构主视图。 图2为本实用新型的图1中A-A剖视图。 图3为本实用新型的图1中B-B剖视图。 在图1 3中，坯体(1)、坯托(2)、背面淋釉器(3)、拱形皮带导向条(4)、输送带 (5)、支架(6)、正面淋釉器(7)、凹弧形皮带导向条(8)、凸形皮带(9)、支架(10)。
具体实施方式
[0013] 本实用新型的最佳实施例是这样的，参照图1 3所示，一种日用陶瓷弧形淋釉装 置，在现有的闭环淋釉线生产线的基础上，对淋釉器下方的输送带部份进行改造，使坯体l 在淋釉时改变坯体盘叶面与水平面的角度，其中，所述的背面淋釉器3下方一段输送带5设 置有拱形皮带导向条4，拱形皮带导向条4的支架6连接机架，正面淋釉器7下方一段凸形 皮带9设置有凹弧形皮带导向条8，凹弧形皮带导向条8的支架IO连接机架；所述的背面 淋釉器3的釉幕正对拱形皮带导向条4的最高点；所述的正面淋釉器7的釉幕正对凹弧形 皮带导向条8的最低点。 工作原理淋釉时，将坯体1放在坯托2上，坯托2在输送带5上方传动。当淋坯 体1的背面釉时，载有坯体1的坯托2的输送带5沿拱形皮带导向条4进行上坡运动，坯 体1的前盘叶与水平面相对水平，过了最高点后，下坡运动时坯体1后盘叶与水平面相对水 平，坯体1的背面淋完釉后，将坯体1翻转正面向上，对坯体1正面淋釉，载有坯体1的坯托 2的凸形皮带9沿凹弧形皮带导向条8由下坡至上坡运动，下坡时坯体1前盘叶与水平面相 对水平，过了最低点后，坯体1后盘叶又与水平面相对水平。
权利要求一种日用陶瓷弧形淋釉装置，在现有的闭环淋釉线生产线的基础上，对淋釉器下方的输送带部份进行改造，使坯体(1)在淋釉时改变坯体盘叶面与水平面的角度，其特征在于，所述的背面淋釉器(3)下方一段输送带(5)设置有拱形皮带导向条(4)，拱形皮带导向条(4)的支架(6)连接机架，正面淋釉器(7)下方一段凸形皮带(9)设置有凹弧形皮带导向条(8)，凹弧形皮带导向条(8)的支架(10)连接机架。
2. 根据权利要求l所述的日用陶瓷弧形淋釉装置，其特征在于，所述的背面淋釉器(3) 的釉幕正对拱形皮带导向条(4)的最高点。
3. 根据权利要求l所述的日用陶瓷弧形淋釉装置，其特征在于，所述的正面淋釉器(7) 的釉幕正对凹弧形皮带导向条(8)的最低点。
专利摘要本实用新型涉及一种日用陶瓷弧形淋釉装置，在现有的闭环淋釉线生产线的基础上，对淋釉器下方的输送带部分进行改造，使坯体在淋釉时改变坯体盘叶面与水平面的角度，特征是所述的背面淋釉器下方一段输送带设置有拱形皮带导向条，拱形皮带导向条的支架连接机架，正面淋釉器下方一段凸形皮带设置有凹弧形皮带导向条，凹弧形皮带导向条的支架连接机架。与现有技术相比能将盘类、斗碗类产品的坯体直接放到淋釉线中去施釉，具有生产效率高，施釉质量好，为企业减少用工，减轻工人劳动强度等优点。
文档编号C04B41/86GK201485391SQ20092014121
公开日2010年5月26日 申请日期2009年8月17日 优先权日2009年8月17日
发明者凌恺, 梁康宁 申请人:凌恺;梁康宁