专利名称：由多片玻化砖拼接成的装饰结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于壁板或地板的装饰结构，，尤其是涉及一种由多片玻化砖拼接成的装饰结构，特别是玻化抛光砖。
背景技术：
玻化砖的色调高贵、质感优雅、性能稳定，强度高、耐磨、吸水率低、耐酸碱、色差小。这种产品不含氡气，各种理化性能比较稳定，符合环境保护发展的要求，是替代天然石材较好的瓷制产品。关于玻化砖的现有技术，可参考例如中国专利公告号CN202117268U的说明。而对于现有玻化砖的缺点，可参考例如中国专利公开号CN1153751A或是美国专利US5，989，636的说明。此外，现有技术已有使用可溶性无机金属盐的溶剂型釉料而通过丝网印刷的玻化砖制造方法，但如中国专利公开号CN1153751A所述，丝网印刷具有图案色泽不清晰，不鲜艳的问题，对所要形成的条纹无法准确的控制，特别是在多片玻化砖上的条纹需要彼此对准的情况。另一方面，中国专利公开号CNl 15375IA或是美国专利US5，989，636本身建议采用含有色素的瓷粉(色粉)烧结，但这种作法也存在有精细度不够的问题，对所要形成的条纹也无法准确的控制，特别是在多片玻化砖上的条纹需要彼此对准的情况。
实用新型内容本实用新型的目的在于为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种产品纹理立体感强，纹理富于变化、质量好、良品率高、仿真性强的由多片玻化砖拼接成而用于壁板或地板的装饰结构，其中玻化砖可特别是玻化抛光砖。本实用新型另一目的在于喷墨打印釉料渗透的厚度在玻化砖或玻化抛光砖通过修平或抛光的工艺程序后，仍至少保持有O. 5毫米，因此釉料分布所形成的条纹或图案可抗磨损，当使用在户外地板的装饰结构时，更显其优势。本实用新型另一目的在于多片玻化砖或玻化抛光砖上所要形成的条纹是通过喷墨打印釉料而形成，因此可提供精细准确的控制，使得多片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案在拼接后能够在视觉上连续，甚至共同展现一完整连续的图案分布。相较于现有技术，当户外地板的装饰结构需利用玻化砖展现大型完整图案时，本实用新型即提供一良好的解决方案。需说明的是，上述本实用新型的优势并不需要同时显现。为达上述目的，根据本实用新型的实施例一种由多片玻化砖拼接成的装饰结构，该装饰结构由多片玻化砖彼此对准拼接成，每一玻化砖或玻化抛光砖的表面上设有喷墨打印釉料，且所述的表面通过修平而形成一修平表面，所述的喷墨打印釉料渗透的厚度自所述的修平表面向下至少O. 5毫米。[0011]所述的玻化砖为玻化抛光砖，所述的表面通过修平与抛光而形成一修平与抛光表面，所述的喷墨打印釉料渗透的厚度自所述的修平与抛光表面向下至少O. 5毫米。所述的装饰结构由至少12片玻化砖拼接而成。所述的装饰结构的面积至少为7. 68平方米。所述的多片玻化砖中至少二相邻的玻化砖表面上的釉料都具有一第一分布。所述的多片玻化砖中至少一玻化砖表面上的釉料具有一第一分布，而与其邻接的玻化砖的表面上的釉料具有一第二分布。所述的第一分布与所述的第二分布组成一连续分布。所述的多片玻化砖每一片玻化砖表面上的釉料的分布共同组成一连续分布。选择性地，所述的多片玻化砖中至少二相邻的玻化砖表面上的釉料皆具有一第一分布，因此本实用新型可应用于每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案都相同的装饰结构。选择性地,所述的多片玻化砖中至少一玻化砖表面上的釉料具有一第一分布，而与其邻接的玻化砖的表面上的釉料具有不同于第一分布的一第二分布，因此本实用新型可应用于每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案都不同的装饰结构。选择性地，所述的第一分布与所述的第二分布组成一连续分布。选择性地，所述的多片玻化砖每一片玻化砖表面上的釉料的分布共同组成一连续分布。因此本实用新型可应用于利用每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布共同组成一完整图案的装饰结构。本实用新型的优点在于，其装饰结构使用性强、其釉料分布所形成的条纹或图案可抗磨损，并美观且有利于制造。参考以下说明及所附权利要求范围或利用如下文所提的本实用新型的实施方式，即可更加明了本实用新型的这些特色及优点。
为了立即了解本实用新型的优点，请参考如附图所示的特定具体实施例，详细说明上文简短叙述的本实用新型。在了解这些图示仅描绘本实用新型的典型具体实施例并因此不将其视为限制本实用新型范畴的情况下，参考附图以额外的明确性及细节来说明本实用新型，附图中图1为单一玻化砖的示意图；图2为图1的A-A剖面图；图3为一种12片玻化砖拼接成的装饰结构的示意图；图4为一种24片玻化砖拼接成的装饰结构的示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型进行详细说明。一种用于壁板或地板的装饰结构，其特征在于，该地板结构由多片玻化砖彼此对准拼接成，每一玻化砖或玻化抛光砖的表面上设有喷墨打印釉料，且所述的表面通过修平，所述的喷墨打印釉料渗透的厚度自所述的修平表面向下至少O. 5毫米。所述的玻化砖可具有多种尺寸，例如每一片的尺寸为400毫米X 800毫米或是800毫米X800毫米。但也可因应实际需要而有不同尺寸的变化。也就是说，本实用新型对于每一片玻化砖的尺寸并无特别要求，甚至在特殊的应用时，每一片玻化砖的尺寸不需要都相同。所述的玻化砖在施釉工序前关于砖坯成型的工序，可根据现有技术，例如同属申请人的中国专利公告号CN201333746Y的说明，而加以调整修改，本实用新型对此部分并无特别要求。但需说明的是，本实用新型并不需要如中国专利公告号CN201333746Y加入洞石料。在此实施例中，使用喷墨打印技术来进行施釉。相较于丝版印刷，喷墨打印技术的解析度可高达4000dpi，并有高达4级的灰度控制，精细度高，且施釉位置控制准确。可应用于本实用新型的喷墨打印设备例如是泰威(中国)的Teckversa 1000或是B&T(意大利)KERAMAGIC KM320/MA 或是 DURST (意大利)CAMMA7O。但与现有技术中使用粉末状颗粒(色粉)的釉料不同之处在于，此实施例所采用喷墨打印釉料具有渗透性质，而通过渗透的方式进入玻化砖坯体，且相较于粉末状颗粒(色粉)可具有较深的渗透厚度，符合玻化砖一般所适合的使用环境，例如户外地板。在此实施例中所述的喷墨打印釉料为含有可溶性无机金属盐(例如锰盐，钴盐，铁盐，铜盐等金属盐)的溶剂型釉料(溶剂优选为乙醇，甲醇，或水)，特别是金属盐在溶剂中是可溶的，而不像现有技术中粉末状颗粒(色粉)是分散的。关于可溶性无机金属盐的溶剂型釉料，优选地，可溶性无机金属盐的比例是釉料的总质量的0-40%。此实施例中喷墨打印釉料可只含有4种颜色(CMYK)或是只含有6种颜色(CMYK，LC,与LM)，但混合后可在视觉上展现各式各样的颜色。进一步说明如下。在此实施例中，是将上述类型的渗透釉2以喷墨打印方式形成于玻化砖坯体I的表面上(如图1所示)，再喷水助渗，入辊道窑烧成，烧成温度为1200°c左右。因此所述的喷墨打印釉料可承受1200°C的烧成温度。此外，喷釉前坯温控制在450C _65°C范围，否则表面易产生缺陷；而喷墨打印前坯温需在35°C以下，温度太高，坯体水蒸气易在打印机喷头凝结成细小水滴，从而影响打印图案效果。烧成后、修平切削与抛光工序前坯体着色层达到1. 5毫米以上，坯体通过修平切削与抛光工序(一般是O. 6至1. O毫米的切削量)后渗透的厚度D还能保持O. 5毫米(如图2所示)，使经过修平与抛光后的成品(即为玻化抛光砖)能完全展示设计图案，且可抗磨损。但需说明的是，本实用新型也可应用在玻化抛光砖以外的玻化砖。如图3所示，将12片单片规格800毫米X800毫米的玻化砖或玻化抛光砖，进行对准拼接成一整块用于壁板或地板的装饰结构，而面积到达7. 68平方米。另外如图4所示，将24片单片规格400毫米X800毫米的玻化砖或玻化抛光砖，进行对准拼接成一整块用于壁板或地板的大型装饰结构。在图3 图4所示的装饰结构，其中每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案都不同。特别是，每一玻化砖与其邻接的玻化砖的表面上釉料分布所形成的条纹或图案为连续，使得拼接后的装饰结构的整体纹理自然流畅，形成一大型的完整图案。此外，若使用更多数目的玻化砖或玻化抛光砖，可使装饰结构具有更大的面积，而可形成更大型的图案。另外说明的是，在图3 图4范例所示的装饰结构，其所形成的完整图案为一整块天然石材的纹路，而为了具有模拟整块天然石材的视觉效果，玻化砖上的条纹必须清晰，且每一玻化砖与其邻接的玻化砖的表面上的条纹必须精细控制到在视觉上为连续，而不能只就单一玻化砖的视觉效果加以考量，否则在对整体图案进行视觉检验时容易被看出缺陷。特别当装饰结构的尺寸较大而所需玻化砖数目较多时(例如12片以上)，为了让装饰结构的整体纹理自然流畅，条纹精细或连续的要求更为严苛。相对地，现有技术中丝网印刷或是辊筒印刷(利用激光雕刻的橡胶辊筒)一般用于制作重复的单一玻化砖条纹，并不考虑与邻接条纹连续的问题，因此并无法达成本实用新型所要展现的效果。 本实用新型也可应用于其他模拟真实物品的图案，例如木材或是土壤等。另外说明的是，虽然在图3 图4所示的装饰结构中每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案都不同，本实用新型也可应用于每个单片玻化砖或玻化抛光砖上釉料分布所形成的条纹或图案都相同的装饰结构。
权利要求1.一种由多片玻化砖拼接成的装饰结构，其特征在于，该装饰结构由所述多片玻化砖彼此对准拼接而成，每一玻化砖的表面上设有喷墨打印釉料，且所述的表面通过修平而形成一修平表面，所述的喷墨打印釉料渗透的厚度自所述的修平表面向下至少O. 5毫米。
2.根据权利要求1所述的装饰结构，其特征在于，所述的玻化砖为玻化抛光砖，所述的表面通过修平与抛光而形成一修平与抛光表面，所述的喷墨打印釉料渗透的厚度自所述的修平与抛光表面向下至少O. 5毫米。
3.根据权利要求1所述的装饰结构，其特征在于，所述的装饰结构由至少12片玻化砖拼接而成。
4.根据权利要求1所述的装饰结构，其特征在于，所述的装饰结构的面积至少为7.68平方米。
5.根据权利要求1所述的装饰结构，其特征在于，所述的多片玻化砖中至少二相邻的玻化砖表面上的釉料都具有一第一分布。
6.根据权利要求1所述的装饰结构，其特征在于，所述的多片玻化砖中至少一玻化砖表面上的釉料具有一第一分布，而与其邻接的玻化砖的表面上的釉料具有一第二分布。
7.根据权利要求6所述的装饰结构，其特征在于，所述的第一分布与所述的第二分布组成一连续分布。
8.根据权利要求1所述的装饰结构，其特征在于，所述的多片玻化砖每一片玻化砖表面上的釉料的分布共同组成一连续分布。
专利摘要本实用新型公开一种由多片玻化砖拼接成的装饰结构，该装饰结构由多片玻化砖或玻化抛光砖彼此对准拼接成，每一玻化砖或玻化抛光砖的表面上设有喷墨打印釉料，且所述的表面通过修平，所述的喷墨打印釉料渗透的厚度自所述的修平表面向下至少0.5毫米。
文档编号E04F13/14GK202899519SQ201220106039
公开日2013年4月24日 申请日期2012年3月20日 优先权日2012年3月20日
发明者陈克俭 申请人:上海斯米克建筑陶瓷股份有限公司