无碱玻璃及使用了该无碱玻璃的无碱玻璃板的制作方法

文档序号:1899400阅读:135来源:国知局
无碱玻璃及使用了该无碱玻璃的无碱玻璃板的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种无碱玻璃,其应变点为680~735℃,50~350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7~43×10-7/℃,比重为2.60以下,以基于氧化物的摩尔百分率计,含有SiO2 65~69%、Al2O3 11.5~14%、B2O3 3~6.5%、MgO 1~5%、CaO 7.5~12%、SrO 0~1%、BaO 0.5~6%、ZrO2 0~2%。
【专利说明】无碱玻璃及使用了该无碱玻璃的无碱玻璃板

【技术领域】
[0001] 本发明涉及无碱玻璃及使用了该无碱玻璃的无碱玻璃板。更详细而言,涉及适合 作为各种显示器用基板玻璃和光掩模用基板玻璃等、实质上不含有碱金属氧化物且能够通 过浮法或溢流下拉法成形的无碱玻璃以及无碱玻璃板。

【背景技术】
[0002] 以往,对于各种显示器用玻璃板(玻璃基板)、特别是在表面上形成金属或氧化物 等的薄膜的玻璃板中使用的玻璃而言,要求以下所示的特性。
[0003] (1)在玻璃含有碱金属氧化物时,碱金属离子会向上述薄膜中扩散而使薄膜的膜 特性劣化,因此,要实质上不含有碱金属离子。
[0004] (2)在薄膜形成工序中将玻璃板暴露于高温时,为了将玻璃板的变形和伴随玻璃 的结构稳定化产生的收缩(热收缩)抑制在最低限度,应变点要高。
[0005] (3)对半导体形成中使用的各种化学品要具有充分的化学耐久性。特别是对用于 SiOx、SiNx的蚀刻的缓冲氢氟酸(BHF,氢氟酸与氟化铵的混合液)、IT0的蚀刻中使用的含 有盐酸的药液、金属电极的蚀刻中使用的各种酸(硝酸、硫酸等)、抗蚀剂剥离液的碱等要 具有耐久性。
[0006] (4)内部和表面要没有缺陷(气泡、波筋、夹杂物、麻坑、伤痕等)。
[0007] 在上述要求的基础上,近年来还出现了如下所述的状况。
[0008] (5)要求显示器的轻量化,期望玻璃本身也是密度小的玻璃。
[0009] (6)要求显示器的轻量化,期望玻璃板的减薄。
[0010] (7)除了迄今为止的非晶硅(a-Si)型液晶显示器以外,还制作了热处理温度稍高 的多晶硅(P-Si)型液晶显示器(a-Si:约350°C-p-Si:350?550°C),因此,期望具有耐 热性。
[0011] (8)为了加快制作液晶显示器的热处理的升温和降温速度而提高生产率或者提高 耐热冲击性,要求玻璃的平均热膨胀系数小的玻璃。
[0012] 另一方面,在面向以智能手机为代表的移动设备的中小型显示器中,高精细化得 到发展,上述要求变得越发严格。
[0013] 此外,由于在将显示器嵌入面板时在玻璃板中产生的应力而产生的颜色不均成为 问题。为了抑制颜色不均,需要减小玻璃的光弹性常数,为此,降低玻璃中的B2o3的浓度或 者提高BaO浓度是有效的。提出了通过这样的组成调节能够实现低光弹性常数的无碱玻璃 (例如,参考专利文献1?3)。
[0014] 另一方面,在中小型液晶显示器(IXD)、有机EL显示器(0ELD)、特别是移动设备、 数码相机、手机等的便携式显示器的领域中,显示器的轻量化、薄型化成为重要的课题。为 了实现玻璃板的进一步减薄,在阵列-彩色滤光片贴合工序后,广泛采用对玻璃板表面实 施蚀刻处理来使板厚变薄(减薄)的工序。
[0015] 现有技术文献
[0016] 专利文献
[0017] 专利文献1:日本特开2001-172041号公报
[0018] 专利文献2:日本特开平5-232458号公报
[0019] 专利文献3:日本特开2012-41217号公报
[0020] 专利文献4 :日本再公表专利2009-066624号公报


【发明内容】

[0021] 发明所要解决的问题
[0022] 专利文献1中公开了光弹性常数小的无碱玻璃,但失透温度下的粘性低,制造方 法受限,或者,无法兼顾低比重和耐缓冲氢氟酸性(以下,也称为"耐BHF性")。
[0023] 专利文献2中公开了含有0?5摩尔%的B203并且含有BaO的无碱玻璃,但50? 300°C下的平均热膨胀系数超过50X10_7/°C。
[0024] 专利文献3中公开了含有0? 1?4. 5质量%的氏03并且含有5?15质量%的8&0 的无碱玻璃,但50?350°C下的平均热膨胀系数超过43X1(T/°C,且比重超过2. 60。
[0025] 作为将玻璃板减薄的方法,例如,采用了如下方法:利用含有氢氟酸(HF)的蚀刻 液对板厚〇. 4mm?0. 7mm的玻璃板的表面进行蚀刻处理(以下,称为"氢氟酸蚀刻处理"), 制成板厚〇. 4mm以下的玻璃板(参考专利文献4)。或者,研究了使用通过溢流下拉法成形 0. 4mm以下的玻璃板并使用所得到的玻璃板的方法。
[0026] 本发明的目的在于解决上述缺点。即,提供应变点高、比重低、光弹性常数低、氢氟 酸蚀刻处理后的玻璃板的强度高、即使薄也不易弯曲、并且即使施加应力也不易产生颜色 不均等问题的无碱玻璃及包含该无碱玻璃的无碱玻璃板。
[0027] 用于解决问题的手段
[0028] 本发明提供一种无碱玻璃1,其应变点为680?735°C,50?350°C下的平均热膨 胀系数为30X10_7?43X10_7/°C,比重为2. 60以下,
[0029] 以基于氧化物的摩尔百分率计,含有:
[0030]

【权利要求】
1. 一种无碱玻璃,其应变点为680?735 °C,50?350°C下的平均热膨胀系数为 30XKT7 ?43X1(T7/°C,比重为 2. 60 以下, 以基于氧化物的摩尔百分率计,含有:
2. -种无碱玻璃,其应变点为680?735 °C,50?350°C下的平均热膨胀系数为 30XKT7 ?43X1(T7/°C,比重为 2. 60 以下, 以基于氧化物的摩尔百分率计,含有:
3. 如权利要求1或2所述的无碱玻璃,其中,光弹性常数为31nm/MPa/cm以下。
4. 如权利要求1?3中任一项所述的无碱玻璃,其中,失透温度下的粘性为104 5泊以 上。
5. 如权利要求1?4中任一项所述的无碱玻璃,其中,通过等速冷却法求出的玻璃化转 变温度附近的平均冷却速度为l〇〇°C /分钟以上。
6. -种无碱玻璃板,其为包含权利要求1?5中任一项所述的无碱玻璃的无碱玻璃板, 其板厚为〇. 4mm以下, 至少一个表面进行了自表面起深度为5pm以上的氢氟酸(HF)蚀刻处理。
【文档编号】C03C3/091GK104350018SQ201380029776
【公开日】2015年2月11日 申请日期:2013年6月5日 优先权日:2012年6月7日
【发明者】德永博文, 西泽学, 小池章夫 申请人:旭硝子株式会社
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