Ito导电玻璃的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种LCD用无色高透5欧姆～200欧姆ITO导电玻璃，包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及ITO层；第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2；第一高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4；第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2；第二高折射率层的材料为Nb2O5、TiO2、ZrO2或Si3N4；第三低折射率层的材料为SiO2或MgF2。这种ITO导电玻璃以层叠的膜层结构替代传统的SiO2层，折射率高低结合的膜层结构解决了LCD用SiO2膜层上镀5欧姆～200欧姆ITO膜层透过率偏低问题，提升了ITO玻璃的透过率，视觉效果较好。
【专利说明】ITO导电玻璃
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种用于IXD的无色高透IT0导电玻璃。
【背景技术】
[0002] IT0导电玻璃是在钠钙基片或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法依 次沉积二氧化硅（Si02)和氧化铟锡（通称IT0)薄膜加工制作成的。
[0003] IT0是一种具有良好透明导电性能的金属化合物，具有禁带宽、可见光谱区光透射 率高和电阻率低等特性，IT0导电玻璃广泛地应用于平板显示器件、太阳能电池、特殊功能 窗口涂层及其他光电器件领域，是目前LCD、TOP、0LED、触摸屏等各类平板显示器件广泛采 用的透明导电电极材料。作为平板显示器件的关键基础材料，IT0导电玻璃其随着平板显 示器件的不断更新和升级而具有更加广阔的市场空间。
[0004] IXD用IT0导电玻璃多采用在玻璃上镀Si02+IT0两层膜结构，最高透过率达不到 90%，且IT0导电玻璃的透过率随IT0膜层厚度变化而呈现周期性变化，在个别IT0膜层厚 度时透过率低至77%左右，影响IXD的视觉效果。 实用新型内容
[0005] 基于此，有必要提供一种在使用时视觉效果较好的IT0导电玻璃。
[0006] -种IT0导电玻璃，用于IXD，包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、第一高折射 率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及IT0层；
[0007] 所述第一低折射率层的材料为Si02或MgF2 ;
[0008] 所述第一高折射率层的材料为Nb205、Ti02、Zr02或Si3N4 ;
[0009] 所述第二低折射率层的材料为Si02或MgF2 ;
[0010] 所述第二高折射率层的材料为Nb205、Ti02、Zr02或Si3N4 ;
[0011] 所述第三低折射率层的材料为Si02或MgF2 ;
[0012] 所述第一低折射率层的厚度为〇A?500A;
[0013] 所述第一高折射率层的厚度为〇A?300A。
[0014] 在一个实施例中，所述第一低折射率层的厚度为5〇A?200A。
[0015] 在一个实施例中，所述第一高折射率层的厚度为0人?250A。
[0016] 在一个实施例中，所述第二低折射率层的厚度为4〇A?450入。
[0017] 在一个实施例中，所述第二高折射率层的厚度为〇A?650入。
[0018] 在一个实施例中，所述第三低折射率层的厚度为0A?450A。
[0019] 在一个实施例中，所述IT0导电玻璃的面电阻为5欧姆?7欧姆、10欧姆?15欧 姆、12欧姆?17欧姆、14欧姆?20欧姆、17欧姆?25欧姆、20欧姆?30欧姆、30欧姆? 45欧姆、35欧姆?50欧姆、40欧姆?60欧姆、60欧姆?80欧姆、80欧姆?120欧姆、100 欧姆?150欧姆、125欧姆?200欧姆等。
[0020] 在一个实施例中，所述IT0层的厚度为l〇〇A?225〇A。
[0021] 这种IT0导电玻璃，通过以第一低折射率层、第一高折射率层、第二低折射率层、 第二高折射率层和第三低折射率层替代传统的Si02层，透过率高低结合的膜层结构增加了 IT0层的透过率，可以提升IT0玻璃的透过率至90%以上，个别IT0膜层处IT0透过率提升 10%以上。相对于传统的IT0导电玻璃，这种IT0导电玻璃的视觉效果较好，同时由于透过 率的提高，降低了光线的反射，提高了使用寿命。
[0022] 此外，通过多层高低折射率材料间膜层的匹配，还可以保证IT0膜层的颜色比较 浅，减少IT0和打底层之间的颜色对比，应用于LCD时提升整个LCD的亮度、改善LCD的视 觉效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0023] 图1为一实施方式的IT0导电玻璃的结构示意图；
[0024] 图2为如图1所示的IT0导电玻璃的制备方法的流程图。
【具体实施方式】
[0025] 为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本 实用新型的【具体实施方式】做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分 理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域 技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公 开的具体实施的限制。
[0026] 如图1所示的一实施方式IT0导电玻璃，用于IXD，包括依次层叠的玻璃10、第一 低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50、第三低折射率 层60以及IT0层70。
[0027] 玻璃10可以选择浮法玻璃或者其他本领域常规的玻璃。
[0028] 第一低折射率层20的材料为Si02或MgF2。Si02的折射率为1. 48,MgF2的折射率 为1. 38。采用Si02或MgF2作为第一低折射率层20的材料，使得第一低折射率层20的透 过率相对较高。
[0029]第一低折射率层20的厚度为〇A?500A。一般而言，第一低折射率层20的厚度对 于IT0导电玻璃的整体透过率以及视觉效果影响较小，在一个特别的实施方式中，第一低 折射率层20的厚度可以为0,也就是说，第一低折射率层20可以省略。
[0030] 在一个较优的实施方式中，第一低折射率层20的厚度为50A?200A。
[0031] 第一高折射率层30的材料为Nb205、Ti02、Zr02或Si3N4。Nb205的折射率为2. 3， Ti02的折射率为2. 3,Zr02的折射率为2. 17,Si3N4的折射率为2. 0。采用Nb205、Ti02、Zr02 或Si3N4作为第一高折射率层30的材料，使得第一高折射率层30的透过率相对较低。
[0032] 第一高折射率层30的厚度可以为〇A?300A。在一个特别的实施方式中，第一高 折射率层30的厚度可以为0,也就是说，第一高折射率层30可以省略。
[0033] 在一个较优的实施方式中，第一高折射率层30的厚度为〇人?250A。
[0034] 第二低折射率层40的材料为Si02或MgF2。Si02的折射率为1. 48,MgF2的折射率 为1. 38。采用Si02或MgF2作为第二低折射率层40的材料，使得第二低折射率层40的透 过率相对较高。
[0035] 本实施方式中，第二低折射率层40的厚度为40人?450入。
[0036] 第二高折射率层50的材料为Nb205、Ti02、Zr02或Si3N4。Nb205的折射率为2. 3， Ti02的折射率为2. 3,Zr02的折射率为2. 17,Si3N4的折射率为2. 0。采用Nb205、Ti02、Zr02 或Si3N4作为第二高折射率层50的材料，使得第二高折射率层50的透过率相对较低。
[0037] 本实施方式中，第二高折射率层50的厚度为〇A?650A。
[0038] 第三低折射率层60的材料为Si02或MgF2。Si02的折射率为1. 48,MgF2的折射率 为1. 38。采用Si02或MgF2作为第三低折射率层60的材料，使得第三低折射率层60的透 过率相对较高。
[0039] 本实施方式中，第三低折射率层60的厚度为〇A?450A。
[0040] 本实施方式中，IT0层70的厚度为l〇〇A?2250A。
[0041] IT0导电玻璃的面电阻可以为5欧姆?7欧姆、10欧姆?15欧姆、12欧姆?17欧 姆、14欧姆?20欧姆、17欧姆?25欧姆、20欧姆?30欧姆、30欧姆?45欧姆、35欧姆? 50欧姆、40欧姆?60欧姆、60欧姆?80欧姆、80?120欧姆、100?150欧姆、125?200 欧姆等。
[0042] 特别的，对应IT0导电玻璃的电阻范围为125欧姆?200欧姆，IT0层70的厚 度为100A?200A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为100欧姆?150欧姆，IT0层70的厚 度为125A-225A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为80欧姆?120欧姆，IT0层70的厚 度为150A?250人；对应IT0导电玻璃的电阻范围为60欧姆?80欧姆，IT0层70的厚 度为250A?350A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为40欧姆?60欧姆，IT0层70的厚度 为300A?400A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为35欧姆?50欧姆，IT0层70的厚度 为350A?450人；对应IT0导电玻璃的电阻范围为30欧姆?45欧姆，IT0层70的厚度 为400A?500A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为20欧姆?30欧姆，IT0层70的厚度为 600人?700A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为17欧姆?25欧姆，IT0层70的厚度为 700人?800人；对应IT0导电玻璃的电阻范围为14欧姆?20欧姆，IT0层70的厚度为 800人?1000人;对应IT0导电玻璃的电阻范围为12欧姆?17欧姆，IT0层70的厚度为 1000A?1400人；对应IT0导电玻璃的电阻范围为10欧姆?15欧姆，IT0层70的厚度 为1100A?丨550人；对应IT0导电玻璃的电阻范围为5欧姆?7欧姆，IT0层70的厚度为 1950人?2450人。
[0043] 这种IT0导电玻璃，通过以第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率 层40、第二高折射率层50和第三低折射率层60替代传统的Si02层，透过率高低结合的膜 层结构增加了ITO层70的透过率，可以提升ITO玻璃的透过率至90%以上，个别ITO膜层 处ITO透过率提升10%以上。
[0044] 相对于传统的IT0导电玻璃，这种IT0导电玻璃的视觉效果较好，同时由于透过率 的提1?，降低了光线的反射，提1? 了使用寿命。
[0045] 此外，通过多层高低折射率材料间膜层的匹配，还可以保证IT0膜层的颜色比较 浅，减少IT0和打底层之间的颜色对比，应用于LCD时提升整个LCD的亮度、改善LCD的视 觉效果。
[0046] 如图2所示的上述IT0导电玻璃的制备方法，包括如下步骤：
[0047] S10、提供玻璃10,清洗后干燥。
[0048] 玻璃10可以选择浮法玻璃或者其他本领域常规的玻璃。
[0049] S20、在清洗后的玻璃10表面依次磁控溅射沉积第一低折射率层20、第一高折射 率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50、第三低折射率层60和IT0层70,得到IT0 导电玻璃。
[0050] 第一低折射率层20的材料为Si02或MgF2。Si02的折射率为1. 48,MgF2的折射率 为1. 38。采用Si02或MgF2作为第一低折射率层20的材料，使得第一低折射率层20的透 过率相对较高。
[0051] 第一低折射率层20的厚度为0A?500人。一般而言，第一低折射率层20的厚度对 于IT0导电玻璃的整体透过率以及视觉效果影响较小，在一个特别的实施方式中，第一低 折射率层20的厚度可以为0,也就是说，第一低折射率层20可以省略。
[0052] 在一个较优的实施方式中，第一低折射率层20的厚度为50A?200A。
[0053] 第一高折射率层30的材料为Nb205、Ti02、Zr02或Si3N4。Nb205的折射率为2. 3， Ti02的折射率为2. 3,Zr02的折射率为2. 17,Si3N4的折射率为2. 0。采用Nb205、Ti02、Zr02 或Si3N4作为第一高折射率层30的材料，使得第一高折射率层30的透过率相对较低。
[0054] 第一高折射率层30的厚度可以为〇A?300A。在一个特别的实施方式中，第一高 折射率层30的厚度可以为0,也就是说，第一高折射率层30可以省略。
[0055] 在一个较优的实施方式中，第一高折射率层30的厚度为〇人?250人。
[0056] 第二低折射率层40的材料为Si02或MgF2。Si02的折射率为1. 48,MgF2的折射率 为1. 38。采用Si02或MgF2作为第二低折射率层40的材料，使得第二低折射率层40的透 过率相对较高。
[0057] 本实施方式中，第二低折射率层40的厚度为40人?450人。
[0058] 第二高折射率层50的材料为Nb205、Ti02、Zr02或Si3N4。Nb205的折射率为2. 3， Ti02的折射率为2. 3,Zr02的折射率为2. 17,Si3N4的折射率为2. 0。采用Nb205、Ti02、Zr02 或Si3N4作为第二高折射率层50的材料，使得第二高折射率层50的透过率相对较低。
[0059] 本实施方式中，第二高折射率层50的厚度为〇A?650A。
[0060] 第三低折射率层60的材料为Si02或MgF2。Si02的折射率为1. 48,MgF2的折射率 为1. 38。采用Si02或MgF2作为第三低折射率层60的材料，使得第三低折射率层60的透 过率相对较高。
[0061] 本实施方式中，第三低折射率层60的厚度为〇A?450A。
[0062] 本实施方式中，IT0层70的厚度为100A?2450A。
[0063]IT0导电玻璃的面电阻可以为5欧姆?7欧姆、10欧姆?15欧姆、12欧姆?17欧 姆、14欧姆?20欧姆、17欧姆?25欧姆、20欧姆?30欧姆、30欧姆?45欧姆、35欧姆? 50欧姆、40欧姆?60欧姆、60欧姆?80欧姆、80欧姆?120欧姆、100欧姆?150欧姆、 125欧姆?200欧姆等。
[0064] 特别的，对应IT0导电玻璃的电阻范围为125欧姆?200欧姆，IT0层70的厚 度为丨00A?200A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为100欧姆?150欧姆，IT0层70的厚 度为125A?225A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为80欧姆?120欧姆，IT0层70的厚 度为150A?250A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为60欧姆?80欧姆，IT0层70的厚度 为250A?350A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为40欧姆?60欧姆，IT0层70的厚度 为300A?400A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为35欧姆?50欧姆，IT0层70的厚度 为350A?450A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为30欧姆?45欧姆，IT0层70的厚度为 400A?500A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为20欧姆?30欧姆，IT0层70的厚度为 600人?700人；对应IT0导电玻璃的电阻范围为17欧姆?25欧姆，IT0层70的厚度为 700A?800A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为14欧姆?20欧姆，IT0层70的厚度为 800A?1000A丨对应IT0导电玻璃的电阻范围为12欧姆?17欧姆，IT0层70的厚度为 1000人?1400A;对应IT0导电玻璃的电阻范围为10欧姆?15欧姆，IT0层70的厚度 为丨100人?丨550人；对应11'0导电玻璃的电阻范围为5欧姆?7欧姆，11'0层70的厚度为 1950人?2450人。
[0065] 上述方法制得的IT0导电玻璃，通过以第一低折射率层20、第一高折射率层30、第 二低折射率层40、第二高折射率层50和第三低折射率层60替代传统的Si02层，透过率高 低结合的膜层结构增加了IT0层70的透过率，可以提升IT0玻璃的透过率至90%以上，个 另|JIT0膜层处IT0透过率提升10%以上。
[0066] 相对于传统的IT0导电玻璃，这种IT0导电玻璃的视觉效果较好，同时由于透过率 的提1?，降低了光线的反射，提1? 了使用寿命。
[0067] 此外，通过多层高低折射率材料间膜层的匹配，还可以保证IT0膜层的颜色比较 浅，减少IT0和打底层之间的颜色对比，应用于LCD时提升整个LCD的亮度、改善LCD的视 觉效果。
[0068] 下面为具体实施例。
[0069] 实施例1
[0070] 将浮法玻璃洗净后干燥。
[0071] 在工作压强为2X10_3mbar的条件下，在浮法玻璃表面依次沉积厚度为100A的 Si〇2层、厚度为238.3A的Nb2〇5层、厚度为286.9A的Si〇2层、厚度为533.8A的Nb2〇5层、 厚度为440.8人的3102层和厚度为300人的11'〇层，得到55〇11 111处透过率彡93(%、几近无 色的IT0导电玻璃。
[0072] 实施例2
[0073] 将浮法玻璃洗净后干燥。
[0074] 在工作压强为3X10_3mbar的条件下，在浮法玻璃表面依次沉积厚度为200A的 3102层、厚度为211.3人的打02层、厚度为290.2人的310 2层、厚度为607.4人的打02层、厚 度为296.2A的Si〇2层和厚度为400A的IT0层，得到透过率彡93%、几近无色的IT0导 电玻璃。
[0075] 实施例3
[0076] 将浮法玻璃洗净后干燥。
[0077]在工作压强为8X10_4mbar的条件下，在浮法玻璃表面依次沉积厚度为丨89.8A的 他2〇5层、厚度为319人的31〇2层、厚度为609.3人的他 2〇5层、厚度为196.9人的31〇2层和 厚度为500A的IT0层，得到透过率彡93%、几近无色的IT0导电玻璃。
[0078] 实施例4
[0079] 将浮法玻璃洗净后干燥。
[0080] 在工作压强为1 X l(T3mbar的条件下，在浮法玻璃表面依次沉积厚度为281.41A 的21〇2层、厚度为265人的18&层、厚度为662.6人的3以 4层、厚度为66.1人的3102层和 厚度为600人的IT0层，得到透过率> 88%、几近无色的IT0导电玻璃。
[0081] 实施例5
[0082] 将浮法玻璃洗净后干燥。
[0083] 在工作压强为1X10_3mbar的条件下，在浮法玻璃表面依次沉积厚度为200A的 Si02层、厚度为63.9人的Ti02层、厚度为513.6A的Si02层、厚度为692.1A的Zr〇2层和厚 度为700A的IT0层，得到透过率彡88%、几近无色的IT0导电玻璃。
[0084] 实施例6
[0085] 将浮法玻璃洗净后干燥。
[0086] 在工作压强为1X10_3mbar的条件下，在浮法玻璃表面依次沉积厚度为913.8A的 Si02层、厚度为172.2A的Zr〇2层、厚度为356.1A的Si〇2层、厚度为1197A的Zr〇2层和 厚度为2200A的IT0层，得到透过率彡84%、几近无色的IT0导电玻璃。
[0087] 对实施例1?6制备得到的IT0导电玻璃，利用UV2450分光光度计进行550nm透 过率测试，结果如下表1所示。
[0088]
【权利要求】
1. 一种ITO导电玻璃，用于LCD，其特征在于，包括依次层叠的玻璃、第一低折射率层、 第一高折射率层、第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层以及ITO层； 所述第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2 ; 所述第一高折射率层的材料为Nb205、Ti02、ZrO2或Si 3N4 ; 所述第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2 ; 所述第二高折射率层的材料为Nb205、Ti02、ZrO2或Si 3N4 ; 所述第三低折射率层的材料为SiO2或MgF2 ; 所述第一低折射率层的厚度为OA?500入； 所述第一高折射率层的厚度为OA?300A。
2. 根据权利要求1所述的ITO导电玻璃，其特征在于，所述第一低折射率层的厚度为 50A ?200A。
3. 根据权利要求1所述的ITO导电玻璃，其特征在于，所述第一高折射率层的厚度为 OA ?250A。
4. 根据权利要求1所述的ITO导电玻璃，其特征在于，所述第二低折射率层的厚度为 40人?450人。
5. 根据权利要求1所述的ITO导电玻璃，其特征在于，所述第二高折射率层的厚度为 OA ?650A。
6. 根据权利要求1所述的ITO导电玻璃，其特征在于，所述第三低折射率层的厚度为 OA ?450A。
7. 根据权利要求1所述的ITO导电玻璃，其特征在于，所述ITO导电玻璃的面电阻为 5欧姆?7欧姆、10欧姆?15欧姆、12欧姆?17欧姆、14欧姆?20欧姆、17欧姆?25欧 姆、20欧姆?30欧姆、30欧姆?45欧姆、35欧姆?50欧姆、40欧姆?60欧姆、60欧姆? 80欧姆、80欧姆?120欧姆、100欧姆?150欧姆或125欧姆?200欧姆。
8. 根据权利要求1?7中任一项所述的ITO导电玻璃，其特征在于，所述ITO层的厚度 为 10〇A?245〇A。
【文档编号】C03C17/34GK204079780SQ201420444376
【公开日】2015年1月7日 申请日期:2014年8月7日 优先权日:2014年8月7日
【发明者】刘玉华, 方凤军, 陈立, 谭伟, 杜晓峰 申请人:宜昌南玻显示器件有限公司