本实用新型涉及陶瓷生产设备领域，特别涉及一种断开式淋釉设备。
背景技术：
随着今年陶瓷行业的技术创新发展，对产品的工艺要求和表面质量不断提高，特别是生产生现场，产品品质档次不断提高，成本控制在有效的范围之内，淋釉的要求要符合产品的需要。现有淋釉设备传动皮带上容易沾有釉水，素坯砖底容易粘有釉水，容易造成砖底带釉粘在窑炉辊棒，增加换辊棒次数。
技术实现要素：
为了解决现有现有淋釉设备传动皮带上容易沾有釉水、造成砖底带釉粘在窑炉辊棒上，且增加换辊棒次数的技术问题，本实用新型提供一种不容易沾有釉水、不造成砖底带釉粘在窑炉辊棒上，且降低换辊棒次数的断开式淋釉设备。
本实用新型提供的断开式淋釉设备包括淋砖带及传动设备，所述淋砖带与所述传动设备连接，所述淋砖带为两组，所述传动设备包括传动轴、轴承座及传动双轮，所述轴承座数量为两个，分别设于所述传动轴的两端，所述传动双轮设于所述传动轴，所述淋砖带通过所述传动双轮与所述传动轴连接。
在本实用新型提供的断开式淋釉设备的一种较佳实施例中，所述淋砖带为双凹淋砖带，所述传动双轮为传动双凹轮。
在本实用新型提供的断开式淋釉设备的一种较佳实施例中，所述传动设备还包括淋釉设备，所述淋釉设备设于所述淋砖带的相对上方。
在本实用新型提供的断开式淋釉设备的一种较佳实施例中，所述传动轴数量为两个，两个所述传动轴并列设置。
在本实用新型提供的断开式淋釉设备的一种较佳实施例中，所述传动设备还包括传动电机，所述传动电机通过轴承与所述轴承座连接。
相对于现有技术，本实用新型的断开式淋釉设备具有如下的有益效果：
将传统的淋釉一条带直接过改为断开式，从以前两条淋砖带改进四条小的淋砖带，对于现场淋釉区域卫生和品质有大幅度提升，采用双传动轴及轴承双带的传动原理，能达生产品质的保证，杜绝了釉水的污染及浪费。因生产中淋砖带是干净的，釉水直接从淋砖带中间断开地方下釉水，不会造成釉水的二次污染及浪费。不容易沾有釉水、不造成砖底带釉粘在窑炉辊棒上，且降低换辊棒次数。传动双轮淋釉断开式，采用双座、双轴、双皮带原因达到走砖稳、平、顺的运行。淋釉断开式代替传动一条直带转钟罩釉幕，传统时的一条带的皮带上面有釉水，用刮胶剂，造成回釉的釉水受到二次污染及浪费。淋釉断开式，减少砖底带釉，窑炉的辊棒换棒次数明显减少、控制成本的浪费。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：
图1是本实用新型提供的断开式淋釉设备一较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1，是本实用新型提供的断开式淋釉设备一较佳实施例的结构示意图。
所述断开式淋釉设备1包括淋砖带11及传动设备12。所述淋砖带11与所述传动设备12连接。
所述淋砖带11为两组，所述淋砖带11为双凹淋砖带。
所述传动设备12包括传动轴121、轴承座122、传动双轮123、淋釉设备124及传动电机125。所述轴承座122数量为两个，分别设于所述传动轴121的两端，所述传动双轮123设于所述传动轴121，所述淋砖带11通过所述传动双轮123与所述传动轴121连接。所述传动双轮123为传动双凹轮。所述淋釉设备124设于所述淋砖带11的相对上方。所述传动轴121数量为两个，两个所述传动轴121并列设置。所述传动电机125通过轴承与所述轴承座122连接。
本实用新型的断开式淋釉设备1具有如下的有益效果：
将传统的淋釉一条带直接过改为断开式，从以前两条淋砖带11改进四条小的淋砖带11，对于现场淋釉区域卫生和品质有大幅度提升，采用双传动轴及轴承双带的传动原理，能达生产品质的保证，杜绝了釉水的污染及浪费。因生产中淋砖带11是干净的，釉水直接从淋砖带11中间断开地方下釉水，不会造成釉水的二次污染及浪费。不容易沾有釉水、不造成砖底带釉粘在窑炉辊棒上，且降低换辊棒次数。传动双轮淋釉断开式，采用双座、双轴、双皮带原因达到走砖稳、平、顺的运行。淋釉断开式代替传动一条直带转钟罩釉幕，传统时的一条带的皮带上面有釉水，用刮胶剂，造成回釉的釉水受到二次污染及浪费。淋釉断开式，减少砖底带釉，窑炉的辊棒换棒次数明显减少、控制成本的浪费。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。